JPS6136253A - 4,4’−ジヒドロキシジフエニルスルホンの製造法 - Google Patents
4,4’−ジヒドロキシジフエニルスルホンの製造法Info
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- JPS6136253A JPS6136253A JP15517684A JP15517684A JPS6136253A JP S6136253 A JPS6136253 A JP S6136253A JP 15517684 A JP15517684 A JP 15517684A JP 15517684 A JP15517684 A JP 15517684A JP S6136253 A JPS6136253 A JP S6136253A
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- phenol
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- dihydroxydiphenyl sulfone
- dihydroxydiphenylsulfone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の製造法に関するものである。さらに詳しくは、本発明
は、フェノールと硫酸から、2 、4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの含有量の少ない、高純度のP、4
′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高収系かつ短か
い反応時間で製造する方法に関するものである。
の製造法に関するものである。さらに詳しくは、本発明
は、フェノールと硫酸から、2 、4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの含有量の少ない、高純度のP、4
′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高収系かつ短か
い反応時間で製造する方法に関するものである。
従来の技術
4.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンは、従来か
らめっき浴の添加剤、皮革なめし剤、染色助剤、フェノ
ール樹脂の硬化促進剤、難燃剤、農薬などの原料として
広く用いられてきたが、さらに、近年、ポリカーブネー
ト、ポリエステル、Iリエーテルサルホンなどエンジニ
アリングプラスチックの原料、カラー写真エレメント、
写真コントラスト増強剤の原料、感熱記録紙の顕色剤、
ベシキュラー記録材料の添加剤などとして用いられるよ
うになった。このような用途においては、異性体である
2、4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンが混在する
ことが好ましくない場合が多く、純度の高い4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンが求められる。
らめっき浴の添加剤、皮革なめし剤、染色助剤、フェノ
ール樹脂の硬化促進剤、難燃剤、農薬などの原料として
広く用いられてきたが、さらに、近年、ポリカーブネー
ト、ポリエステル、Iリエーテルサルホンなどエンジニ
アリングプラスチックの原料、カラー写真エレメント、
写真コントラスト増強剤の原料、感熱記録紙の顕色剤、
ベシキュラー記録材料の添加剤などとして用いられるよ
うになった。このような用途においては、異性体である
2、4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンが混在する
ことが好ましくない場合が多く、純度の高い4,4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンが求められる。
フェノールと硫酸の反応によってジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを製造する場合、通常目的とする4、4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンの他ニ、2.41−ジ
ヒドロキシノフェニルスルホンが副生ずることは避けら
れず、その含有通は20〜30%に達することが多い。
ルスルホンを製造する場合、通常目的とする4、4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンの他ニ、2.41−ジ
ヒドロキシノフェニルスルホンが副生ずることは避けら
れず、その含有通は20〜30%に達することが多い。
このような混合物から純度の高い4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを得るために、種々の方法が提案
されている。例えば、特公昭38−5274号公報には
S−テトラクロロエタンによって混合物から2゜4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンを溶解させる方法、特
公昭43−24660号公報にはO−ジクロルベンゼン
によって混合物から2,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを抽出する方法、特公昭47−43936号公
報には混合物からアルキルフェノールで2,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを選択的に溶解する方法、
特公昭55−37549号公報にはメタノール水溶液に
2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンヲ溶解せし
める方法、特開昭57−38766号公報には酢酸エチ
ルと0−ジクロルベンゼンの混合溶剤で2,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンヲ溶解させる方法が述べら
れている。
シジフェニルスルホンを得るために、種々の方法が提案
されている。例えば、特公昭38−5274号公報には
S−テトラクロロエタンによって混合物から2゜4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホンを溶解させる方法、特
公昭43−24660号公報にはO−ジクロルベンゼン
によって混合物から2,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを抽出する方法、特公昭47−43936号公
報には混合物からアルキルフェノールで2,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを選択的に溶解する方法、
特公昭55−37549号公報にはメタノール水溶液に
2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンヲ溶解せし
める方法、特開昭57−38766号公報には酢酸エチ
ルと0−ジクロルベンゼンの混合溶剤で2,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンヲ溶解させる方法が述べら
れている。
発明が解決しようとする問題点
これらの方法は、いずれも、4,4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンと2,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの混合物から、後者を溶液として分離するもの
であるから、使用した原料に対する4、4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンの収率は低く、2.4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの分離操作が必要であり、
かつ分離した2 、 4′−シヒドロキシジフェニルス
ルホンヲ適切に処理しなければならない、という欠点を
有する。
フェニルスルホンと2,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの混合物から、後者を溶液として分離するもの
であるから、使用した原料に対する4、4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンの収率は低く、2.4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの分離操作が必要であり、
かつ分離した2 、 4′−シヒドロキシジフェニルス
ルホンヲ適切に処理しなければならない、という欠点を
有する。
また、特開昭57−77667号公報には異性体混合物
から4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンをフェ
ノール付加物として晶析せしめる方法が述べられている
が、これも4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
と2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを分離す
る方法であるから、前記の各方法と同じ欠点を有する。
から4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンをフェ
ノール付加物として晶析せしめる方法が述べられている
が、これも4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
と2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを分離す
る方法であるから、前記の各方法と同じ欠点を有する。
2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンヲ異性化し
て4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとする方
法が提案されている。すなわち、特開昭50−1164
46号公報には2,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンに富んだ異性体混合物を硫酸、発煙硫酸あるいはフ
ェノールスルホン酸の存在下に140〜250℃で加熱
することにより4.4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンを製造する方法が提案され、かつ、このとき、硫酸
もしくは発煙硫酸に対し2モル倍のフェノールを加える
方法も述べられている。この方法によれば、4.4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホ/の収率を高めることは
できるが、フェノールと硫酸、発煙硫酸あるいはフェノ
ールスルホン酸との反応、2.4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンの分離、および2,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの異性化という3工程が必要である
。
て4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンとする方
法が提案されている。すなわち、特開昭50−1164
46号公報には2,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンに富んだ異性体混合物を硫酸、発煙硫酸あるいはフ
ェノールスルホン酸の存在下に140〜250℃で加熱
することにより4.4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンを製造する方法が提案され、かつ、このとき、硫酸
もしくは発煙硫酸に対し2モル倍のフェノールを加える
方法も述べられている。この方法によれば、4.4′−
ジヒドロキシジフェニルスルホ/の収率を高めることは
できるが、フェノールと硫酸、発煙硫酸あるいはフェノ
ールスルホン酸との反応、2.4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンの分離、および2,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの異性化という3工程が必要である
。
1工程で高純度の4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを高収率で製造する方法もまた提案されている。
ルホンを高収率で製造する方法もまた提案されている。
例えば、特公昭55−8972号公報には、溶剤の存在
下にフェノールと硫酸を反応させ、溶剤を反応系外に徐
々に除去して4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを析出せしめつつ、副生ずる2、4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンに異性化せしめる方法が述べられ、使用され
る溶剤としては異性化反応条件下で不活性なジクロルベ
ンゼンやトリクロルベンゼンfx、トカ挙Iffう1−
1−ている。また、英国特許出願筒2,030,566
号には、o−ジクロルベンゼンの存在下で硫酸触媒を用
いて、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン91
%、!:2,4’−ジヒドロキシゾフェニルスルホン9
係よりなる混合物を加熱すると、4.4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン98.2%の製品が得られるとい
う例が示されている。しかし、これらの方法においては
、原料であるフェノールと硫酸等の他に1第3成分であ
るジクロルベンゼンのよう々溶剤を用いなければならな
いので、製造工程が煩雑になるのみならず、製品中に痕
跡量の溶剤が残存するおそれがあるので好ましくない上
に、異性化反応に比較的長時間を必要とする、という欠
点がある。
下にフェノールと硫酸を反応させ、溶剤を反応系外に徐
々に除去して4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを析出せしめつつ、副生ずる2、4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンに異性化せしめる方法が述べられ、使用され
る溶剤としては異性化反応条件下で不活性なジクロルベ
ンゼンやトリクロルベンゼンfx、トカ挙Iffう1−
1−ている。また、英国特許出願筒2,030,566
号には、o−ジクロルベンゼンの存在下で硫酸触媒を用
いて、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン91
%、!:2,4’−ジヒドロキシゾフェニルスルホン9
係よりなる混合物を加熱すると、4.4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン98.2%の製品が得られるとい
う例が示されている。しかし、これらの方法においては
、原料であるフェノールと硫酸等の他に1第3成分であ
るジクロルベンゼンのよう々溶剤を用いなければならな
いので、製造工程が煩雑になるのみならず、製品中に痕
跡量の溶剤が残存するおそれがあるので好ましくない上
に、異性化反応に比較的長時間を必要とする、という欠
点がある。
問題点を解決するだめの手段
本発明者等は、上述のような欠点をなくシ、溶剤のよう
な第3成分を用いることなく、フェノールと硫酸のみを
使用して、1工程で高純度の4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを高収率かつ短かい反応時間で製造す
る方法を種々検討した結果、フェノールと硫酸の反応の
特定段階において、反応混合物にフェノールを追加し、
かつ過剰量のフェノールを留去しつつ反応を進めること
によって、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
が灼い反応時間で、高純度かつ高収率で得られることを
見出し、本発明に到達したものである。
な第3成分を用いることなく、フェノールと硫酸のみを
使用して、1工程で高純度の4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを高収率かつ短かい反応時間で製造す
る方法を種々検討した結果、フェノールと硫酸の反応の
特定段階において、反応混合物にフェノールを追加し、
かつ過剰量のフェノールを留去しつつ反応を進めること
によって、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
が灼い反応時間で、高純度かつ高収率で得られることを
見出し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、フェノールと硫酸を混合し、加熱
してジヒドロキシジフェニルスルホンを製造するにちた
シ、生成する水の理論量の75%以−ヒが留去されたの
ち、反応混合物にフェノールを加え、過剰量のフェノー
ルを留去しながら140℃以上200℃以下で加熱反応
させることを特徴トfル4 、4’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンの製造法を提供する。
してジヒドロキシジフェニルスルホンを製造するにちた
シ、生成する水の理論量の75%以−ヒが留去されたの
ち、反応混合物にフェノールを加え、過剰量のフェノー
ルを留去しながら140℃以上200℃以下で加熱反応
させることを特徴トfル4 、4’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンの製造法を提供する。
本発明の方法によれば、フェノールと硫酸以外の成分を
使用しないので、製造設備は簡便であシ、反応操作は容
易である上に、製品中に溶剤成分の混入のおそれがなく
、反応が短時間で完結するという利点が得られる。
使用しないので、製造設備は簡便であシ、反応操作は容
易である上に、製品中に溶剤成分の混入のおそれがなく
、反応が短時間で完結するという利点が得られる。
フェノールと硫酸の反応は、通常よく知られている方法
によって行なうことができる。例えば、反応槽にフェノ
ールを仕込み、次いで当量の硫酸を加え、攪拌下に加熱
し、徐々に昇温して生成する水を留去しつつ反応させる
。このとき、少量のフェノールも共沸によシ留出するの
で、あらかじめやや過剰量のフェノールを仕込むか、又
は留出した水相とフェノール相を分離しフェノール相を
反応槽に送シかえすか、あるいは留出量と同量のフェノ
ールを新たに反応槽に追加してもよい。反応を促進する
ために、反応槽を僅かに減圧にして水の留出をはやめる
こともできる。
によって行なうことができる。例えば、反応槽にフェノ
ールを仕込み、次いで当量の硫酸を加え、攪拌下に加熱
し、徐々に昇温して生成する水を留去しつつ反応させる
。このとき、少量のフェノールも共沸によシ留出するの
で、あらかじめやや過剰量のフェノールを仕込むか、又
は留出した水相とフェノール相を分離しフェノール相を
反応槽に送シかえすか、あるいは留出量と同量のフェノ
ールを新たに反応槽に追加してもよい。反応を促進する
ために、反応槽を僅かに減圧にして水の留出をはやめる
こともできる。
反応が進行し、生成する水の理論量の75%以上が留去
されたのちに反応混合物にフェノールを加える。留去さ
れた水の量が生成する水の理論量075チ未満の間は、
反応混合物中に未反応のフェノールが1だ相当量残って
いるので、新たにフェノールを追加しても本発明の効果
は得られない。
されたのちに反応混合物にフェノールを加える。留去さ
れた水の量が生成する水の理論量075チ未満の間は、
反応混合物中に未反応のフェノールが1だ相当量残って
いるので、新たにフェノールを追加しても本発明の効果
は得られない。
フェノールの追加は、留去された水が理論量の75俤以
上になったとき直ちに行なってもよいし、あるいはよシ
多量の水が留去されたのちに行なってもよい。なお、原
料中等に最初から存在した水は除外して考えるものとす
る。
上になったとき直ちに行なってもよいし、あるいはよシ
多量の水が留去されたのちに行なってもよい。なお、原
料中等に最初から存在した水は除外して考えるものとす
る。
追加するフェノールの量は、反応混合物100重量部あ
た)、5重量部以上100重量部未満が好ましく、10
重量部以上50重量部未満がよシ好ましい。フェノール
の追加蓋が反応混合物100重量部あた)5重量部未満
では、本発明の効果は得られない。また、フェノールの
追加量が反応混合物100重量部あたり100重量部以
上になっても、本発明の効果は得られる傘が、過剰量の
フェノールの留去に時間がかかり得策ではない。
た)、5重量部以上100重量部未満が好ましく、10
重量部以上50重量部未満がよシ好ましい。フェノール
の追加蓋が反応混合物100重量部あた)5重量部未満
では、本発明の効果は得られない。また、フェノールの
追加量が反応混合物100重量部あたり100重量部以
上になっても、本発明の効果は得られる傘が、過剰量の
フェノールの留去に時間がかかり得策ではない。
フェノールの追加は一度に行なってもよいし、また数置
に分割して行なってもよい。例えば、留去した水が理論
量の75俤に達したとき反応混合物100重量部あたジ
フェノール30重量部を一度に加えてもよいし、あるい
は反応混合物100重量部あたり各15重量部のフェノ
ールを留去した水の量が理論量のそれぞれ75%、85
チおよび95チに達したときに加えることもできる。
に分割して行なってもよい。例えば、留去した水が理論
量の75俤に達したとき反応混合物100重量部あたジ
フェノール30重量部を一度に加えてもよいし、あるい
は反応混合物100重量部あたり各15重量部のフェノ
ールを留去した水の量が理論量のそれぞれ75%、85
チおよび95チに達したときに加えることもできる。
フェノールを追加した後の反応圧力も任意に選ぶことが
できる。反応を常圧で行なってもよいし、過剰量のフェ
ノールの留去をはやめるために減圧にしてもよい。フェ
ノールを必ずしも常時留去しつづける必要はなく、一定
時間加圧下に保ったのち、常圧または減圧にしてフェノ
ールを留去してもよい。
できる。反応を常圧で行なってもよいし、過剰量のフェ
ノールの留去をはやめるために減圧にしてもよい。フェ
ノールを必ずしも常時留去しつづける必要はなく、一定
時間加圧下に保ったのち、常圧または減圧にしてフェノ
ールを留去してもよい。
反応によシ生成する水の理論量の75%以上が留去され
たのち、反応混合物にフェノールを加え、過剰量のフェ
ノールを留去しながら、140℃以上200℃以下で加
熱反応させる。この加熱反応によって、反応混合物中の
2,4′−シトロキシジフェニルスルホンの割合が減少
し、4 、4’−ジヒドロキジノフェニルスルホンの割
合が増加する。
たのち、反応混合物にフェノールを加え、過剰量のフェ
ノールを留去しながら、140℃以上200℃以下で加
熱反応させる。この加熱反応によって、反応混合物中の
2,4′−シトロキシジフェニルスルホンの割合が減少
し、4 、4’−ジヒドロキジノフェニルスルホンの割
合が増加する。
温度が140℃未満のときは、2−4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの割合は殆んど減少しない。また、
温度が200℃を超えると製品の着色が著しくなるので
好ましくない。
ジフェニルスルホンの割合は殆んど減少しない。また、
温度が200℃を超えると製品の着色が著しくなるので
好ましくない。
以下余白
作用
本発明の方法により反応が短時間で完結する理由は明き
らかでは々いが、おそらくは2.4′−ジヒドロキシフ
ェニルスルホンとフェノールの間で、次式 れ別個の芳香族環をあられす) で示されるような分子間異性化反応が起るためではない
かと想像される。
らかでは々いが、おそらくは2.4′−ジヒドロキシフ
ェニルスルホンとフェノールの間で、次式 れ別個の芳香族環をあられす) で示されるような分子間異性化反応が起るためではない
かと想像される。
発明の効果
本発明の方法によって4,4′−ジヒドロキシフェニル
スルホンの純度が高<、2.4’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの含有量の少ない製品が得られる。しかし
、々お微量の着色不純物やトリヒドロキシトリフェニル
ジスルホンのような不純物も含まれている。もし必要な
らば、再結晶や活性炭処理などを行なうことによシ、こ
れらの不純物を除去することもできる。
スルホンの純度が高<、2.4’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの含有量の少ない製品が得られる。しかし
、々お微量の着色不純物やトリヒドロキシトリフェニル
ジスルホンのような不純物も含まれている。もし必要な
らば、再結晶や活性炭処理などを行なうことによシ、こ
れらの不純物を除去することもできる。
実施例
以下、実施例により本発明を詳述する。なお、4.4’
−17ヒドロキシジフエニルスルホンと2゜4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの割合ハ、液体クロマトグ
ラフィーによシ分析した。
−17ヒドロキシジフエニルスルホンと2゜4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの割合ハ、液体クロマトグ
ラフィーによシ分析した。
実施例1
反応器にフェノール3761/及び98チ硫酸2001
Iを仕込み、150℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含ま
れている水および反応によって生成する水を留去した。
Iを仕込み、150℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含ま
れている水および反応によって生成する水を留去した。
水と共沸して留出してくるフェノールを分相し、反応器
へ還流した。3時間後に反応混合物中に結晶の析出が認
められ、水の留出量はその中に溶解しているフェノール
分を除いて58.6.9に達した。これは、硫酸中の水
分4.Ogを差引くと理論量72.011の75.8%
に相当する。この後、反応器を減圧にし、フェノール4
0Iを加え、さらに150℃で0.5時間加熱し、フェ
ノールと水を留去したととろ水の留出量は65.4gに
達した。このとき反応混合物中の4.4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの割合ハ81.8 : 18.2であった
。ここで反応器にフェノール36.9を加え、さらに1
65℃で0.5時間加熱を続はフェノールと水を留出せ
しめたところ、留去された水の量は72.5#となった
。このとき反応混合物中の4.4’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンと2゜4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの割合は96.5 : 3.5であった。さらに
反応器にフェノール24IIを加えて185℃で1時間
加熱してフェノールおよび水を完全に留去した。476
gのジヒドロキシジフェニルスルホンが得られ、その中
の4,4′一体と2,4′一体の割合は99.6 :
0.4であった。
へ還流した。3時間後に反応混合物中に結晶の析出が認
められ、水の留出量はその中に溶解しているフェノール
分を除いて58.6.9に達した。これは、硫酸中の水
分4.Ogを差引くと理論量72.011の75.8%
に相当する。この後、反応器を減圧にし、フェノール4
0Iを加え、さらに150℃で0.5時間加熱し、フェ
ノールと水を留去したととろ水の留出量は65.4gに
達した。このとき反応混合物中の4.4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンの割合ハ81.8 : 18.2であった
。ここで反応器にフェノール36.9を加え、さらに1
65℃で0.5時間加熱を続はフェノールと水を留出せ
しめたところ、留去された水の量は72.5#となった
。このとき反応混合物中の4.4’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンと2゜4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの割合は96.5 : 3.5であった。さらに
反応器にフェノール24IIを加えて185℃で1時間
加熱してフェノールおよび水を完全に留去した。476
gのジヒドロキシジフェニルスルホンが得られ、その中
の4,4′一体と2,4′一体の割合は99.6 :
0.4であった。
比較例1
追加するフェノールのかわシに0−ジクロルペンゼンを
用いて実施例1と同じ操作をくりかえした。反応器にフ
ェノール376g及び98チ硫酸200Iを仕込み、1
50℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含まれている水およ
び反応によって生成する水を留去した。水と共沸して留
出してくるフェノールは分相し、反応器へ還流した。3
時間後に反応混合物中に結晶の析出が認められ、水の留
出量は59、OIIに達した。これは、硫酸中の水分4
.011を差引くと、理論量72.011の76.4俤
に相当する。この後反応器を減圧にし、0−ジクロルベ
ンゼン40gを加え、さらに150℃で0.5時間加熱
したところ、水の留出量は64.919に達した。この
とき反応混合物中の4.4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の割合は81.5 : 18.5であった。ここで反応
器に0−ジクロルベンゼン36gを加え、さらに165
℃で0.5時間加熱を続けたところ、留去された水の量
は71.81となった。
用いて実施例1と同じ操作をくりかえした。反応器にフ
ェノール376g及び98チ硫酸200Iを仕込み、1
50℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含まれている水およ
び反応によって生成する水を留去した。水と共沸して留
出してくるフェノールは分相し、反応器へ還流した。3
時間後に反応混合物中に結晶の析出が認められ、水の留
出量は59、OIIに達した。これは、硫酸中の水分4
.011を差引くと、理論量72.011の76.4俤
に相当する。この後反応器を減圧にし、0−ジクロルベ
ンゼン40gを加え、さらに150℃で0.5時間加熱
したところ、水の留出量は64.919に達した。この
とき反応混合物中の4.4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の割合は81.5 : 18.5であった。ここで反応
器に0−ジクロルベンゼン36gを加え、さらに165
℃で0.5時間加熱を続けたところ、留去された水の量
は71.81となった。
このとき、反応混合物中の4,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホン、!:2,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの割合は89.8 : 10.2であった。
ェニルスルホン、!:2,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの割合は89.8 : 10.2であった。
さらに、反応器に0−ジクロルベンゼン24Ji’ヲ加
えて185℃で1時間加熱し、水および0−ジクロルベ
ンゼンを完全に留去した。472gのジヒドロキシジフ
ェニルスルホンが得られたが、その中の4.4′一体と
2,4′一体の割合は94.3:5.7テ61)、 4
、4ニージヒドロキシジフエニルスルホンの純度は充
分高く々らなかった。
えて185℃で1時間加熱し、水および0−ジクロルベ
ンゼンを完全に留去した。472gのジヒドロキシジフ
ェニルスルホンが得られたが、その中の4.4′一体と
2,4′一体の割合は94.3:5.7テ61)、 4
、4ニージヒドロキシジフエニルスルホンの純度は充
分高く々らなかった。
実施例2
反応器にフェノール376g及び98チ硫酸200.9
を仕込み、実施例1と同様にして160℃で4時間加熱
反応せしめたところ、62.4.17の水が留去された
。このとき反応混合物中の4,4′〜ジヒドロキシジフ
エニルスルホント2.4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの割合は79.5:20.5であった。ここで反
応器にフェノール150gを加え、圧力を調節しながら
、160℃で0.5時間、170℃で05時間及び18
5℃で1時間加熱し、過剰量のフェノールと反応によシ
生成した水を留去せしめた。482gのジヒドロキシジ
フェニルスルホンが得られ、その中の4,4′一体と2
.4′一体の割合は99.3 : 0.7であった。
を仕込み、実施例1と同様にして160℃で4時間加熱
反応せしめたところ、62.4.17の水が留去された
。このとき反応混合物中の4,4′〜ジヒドロキシジフ
エニルスルホント2.4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの割合は79.5:20.5であった。ここで反
応器にフェノール150gを加え、圧力を調節しながら
、160℃で0.5時間、170℃で05時間及び18
5℃で1時間加熱し、過剰量のフェノールと反応によシ
生成した水を留去せしめた。482gのジヒドロキシジ
フェニルスルホンが得られ、その中の4,4′一体と2
.4′一体の割合は99.3 : 0.7であった。
比較例2
反応器にフェノール376.9及び98チ硫酸200#
を仕込み、160℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含まれ
ている水および反応によって生成する水を留去した。水
と共沸して留出してくるフェノールを分相し、反応器へ
還流した。4時間後、水の留去量は62.’#に達し、
このとき反応混合物中の4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンの割合は79.6 : 20.4であった。ここで
反応器にフェノール150gを加え、最初加圧状態を保
ちのち僅かに減圧にして210℃で2時間加熱し、生成
する水と過剰量のフェノールを留去した。472gのジ
ヒドロキシジフェニルスルホンが得られ、その中の4,
4′一体と2,4′一体の割合は99.5=1.5であ
った。また、このジヒドロキシジフェニルスルホンは暗
褐色に着色していた。
を仕込み、160℃で加熱反応せしめ、硫酸中に含まれ
ている水および反応によって生成する水を留去した。水
と共沸して留出してくるフェノールを分相し、反応器へ
還流した。4時間後、水の留去量は62.’#に達し、
このとき反応混合物中の4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと2.4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンの割合は79.6 : 20.4であった。ここで
反応器にフェノール150gを加え、最初加圧状態を保
ちのち僅かに減圧にして210℃で2時間加熱し、生成
する水と過剰量のフェノールを留去した。472gのジ
ヒドロキシジフェニルスルホンが得られ、その中の4,
4′一体と2,4′一体の割合は99.5=1.5であ
った。また、このジヒドロキシジフェニルスルホンは暗
褐色に着色していた。
Claims (1)
- 1、フェノールと硫酸を混合し、加熱してジヒドロキシ
ジフェニルスルホンを製造するにあたり、生成する水の
理論量の75%以上が留去されたのち、反応混合物にフ
ェノールを加え、過剰量のフェノールを留去しながら1
40℃以上200℃以下で加熱反応させることを特徴と
する4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15517684A JPS6136253A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 4,4’−ジヒドロキシジフエニルスルホンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15517684A JPS6136253A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 4,4’−ジヒドロキシジフエニルスルホンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136253A true JPS6136253A (ja) | 1986-02-20 |
Family
ID=15600153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15517684A Pending JPS6136253A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 4,4’−ジヒドロキシジフエニルスルホンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136253A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1986006370A1 (fr) * | 1985-04-19 | 1986-11-06 | Konishi Chemical Industry Co., Ltd. | Procede de production de 4,4'-dihydroxydiphenyle sulfon extremement pur |
| EP0380175A1 (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-01 | Akzo Nobel N.V. | Process for forming 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
| JP2003104956A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50116446A (ja) * | 1974-02-20 | 1975-09-11 | ||
| JPS5198239A (en) * | 1975-02-24 | 1976-08-30 | Kojundo 4*4** jihidorokishijifuenirusurupponnoseizoho |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15517684A patent/JPS6136253A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50116446A (ja) * | 1974-02-20 | 1975-09-11 | ||
| JPS5198239A (en) * | 1975-02-24 | 1976-08-30 | Kojundo 4*4** jihidorokishijifuenirusurupponnoseizoho |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1986006370A1 (fr) * | 1985-04-19 | 1986-11-06 | Konishi Chemical Industry Co., Ltd. | Procede de production de 4,4'-dihydroxydiphenyle sulfon extremement pur |
| EP0380175A1 (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-01 | Akzo Nobel N.V. | Process for forming 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone |
| JP2003104956A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konishi Kagaku Ind Co Ltd | ジヒドロキシジフェニルスルホン異性体混合物の製造方法 |
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