JPS6136741B2 - - Google Patents
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- JPS6136741B2 JPS6136741B2 JP55042412A JP4241280A JPS6136741B2 JP S6136741 B2 JPS6136741 B2 JP S6136741B2 JP 55042412 A JP55042412 A JP 55042412A JP 4241280 A JP4241280 A JP 4241280A JP S6136741 B2 JPS6136741 B2 JP S6136741B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
- C07C69/675—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids of saturated hydroxy-carboxylic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学活性もしくは不活性なβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステル類及びその製造法に
関するものである。
ル−β−ヒドロキシエステル類及びその製造法に
関するものである。
さらに詳しくは、本発明は一般式(1)
（式中、R1は低級アルキル基またはフエニル
基を、R2は低級アルキル基を、R3は水素原子を
表わす。） で示される光学活性もしくは不活性のβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステルとその製法に関す
る。製法とはすなわち、一般式(2) （式中、Ａはアリール基を、R1は低級アルキ
ル基またはフエニル基を表わす。） で示される光学活性もしくは不活性な化合物に亜
鉛の存在下、一般式(3) （式中、Ｘはハロゲン原子を、R2は低級アル
キル基を、R3は水素原子を表わす。） で示されるα−ハロエステルを反応させ、次いで
加水分解することを特徴とする一般式(1)で示され
る光学活性もしくは不活性なβ−ホルミル−β−
ヒドロキシエステル類の製造法及び一般式(4) R3CH2COOR2 (4) （式中、R2は低級アルキル基を、R3は水素原
子を表わす。） で示されるエステルにリチウムアミド誘導体を作
用させた後、一般式(2)で示される光学活性もしく
は不活性な化合物（以後アミナールと略称する）
を反応させ、次いで加水分解することを特徴とす
る一般式(1)で示される光学活性もしくは不活性な
β−ホルミル−β−ヒドロキシエステル類の製造
法である。
基を、R2は低級アルキル基を、R3は水素原子を
表わす。） で示される光学活性もしくは不活性のβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステルとその製法に関す
る。製法とはすなわち、一般式(2) （式中、Ａはアリール基を、R1は低級アルキ
ル基またはフエニル基を表わす。） で示される光学活性もしくは不活性な化合物に亜
鉛の存在下、一般式(3) （式中、Ｘはハロゲン原子を、R2は低級アル
キル基を、R3は水素原子を表わす。） で示されるα−ハロエステルを反応させ、次いで
加水分解することを特徴とする一般式(1)で示され
る光学活性もしくは不活性なβ−ホルミル−β−
ヒドロキシエステル類の製造法及び一般式(4) R3CH2COOR2 (4) （式中、R2は低級アルキル基を、R3は水素原
子を表わす。） で示されるエステルにリチウムアミド誘導体を作
用させた後、一般式(2)で示される光学活性もしく
は不活性な化合物（以後アミナールと略称する）
を反応させ、次いで加水分解することを特徴とす
る一般式(1)で示される光学活性もしくは不活性な
β−ホルミル−β−ヒドロキシエステル類の製造
法である。
本発明の対象である一般式(1)で表わされる化合
物を例示すればR1としてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−アミル基、フエニル基等
を、R2としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｔ−ブチル基等を、R3として水素原子を
有するβ−ホルミル−β−ヒドロキシエステル挙
げることができる。
物を例示すればR1としてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−アミル基、フエニル基等
を、R2としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｔ−ブチル基等を、R3として水素原子を
有するβ−ホルミル−β−ヒドロキシエステル挙
げることができる。
本発明の対象である一般式(1)で表わされるβ−
ホルミル−β−ヒドロキシエステルは医薬、農薬
の中間原料となり得るものであり、特にその光学
活性体とその製造法は重要な意義をもつものであ
る。例えば３−ヒドロキシ−３−ホルミル−酪酸
エチルから誘導され得るメバロラクトンはテルペ
ノイドやステロイドの生合成前駆物質として重要
な化合物である。
ホルミル−β−ヒドロキシエステルは医薬、農薬
の中間原料となり得るものであり、特にその光学
活性体とその製造法は重要な意義をもつものであ
る。例えば３−ヒドロキシ−３−ホルミル−酪酸
エチルから誘導され得るメバロラクトンはテルペ
ノイドやステロイドの生合成前駆物質として重要
な化合物である。
従来、一般式(1)で示されるβ−ホルミル−β−
ヒドロキシエステル類の製造法は知られておらず
光学活性体、ラセミ体ともに新規化合物である。
ヒドロキシエステル類の製造法は知られておらず
光学活性体、ラセミ体ともに新規化合物である。
本発明で用いる一般式(2)で示されるアミナール
は例えば参考例に掲げたように光学活性もしくは
不活性の２−（Ｎ置換アミノメチル）ピロリジン
とグリオキシル酸エステル誘導体あるいは置換グ
リオキザールを原料として製造することができ
る。
は例えば参考例に掲げたように光学活性もしくは
不活性の２−（Ｎ置換アミノメチル）ピロリジン
とグリオキシル酸エステル誘導体あるいは置換グ
リオキザールを原料として製造することができ
る。
一般式(2)で示されるアミナールの窒素上の置換
基Ａを例示すれば、フエニル基、ｏ−メトキシフ
エニル基、ｐ−メトキシフエニル基、２−ピリジ
ル基、４−ピリジル基、３，４−ジクロロフエニ
ル基、１−ナフチル基、ｏ−トリル基、２，６−
キシリジル基等を挙げることができる。
基Ａを例示すれば、フエニル基、ｏ−メトキシフ
エニル基、ｐ−メトキシフエニル基、２−ピリジ
ル基、４−ピリジル基、３，４−ジクロロフエニ
ル基、１−ナフチル基、ｏ−トリル基、２，６−
キシリジル基等を挙げることができる。
アミナールに亜鉛の存在下α−ハロエステルを
作用させるいわゆるリフオルマツキー反応を行な
つた後、加水分解することにより本発明の対象で
あるβ−ホルミル−β−ヒドロキシエステルを得
ることができる。
作用させるいわゆるリフオルマツキー反応を行な
つた後、加水分解することにより本発明の対象で
あるβ−ホルミル−β−ヒドロキシエステルを得
ることができる。
本発明で用いるα−ハロエステルとしては、通
常、クロル酢酸、ブロム酢酸、ヨード酢酸等のア
ルキルエステルが用いられ、具体的にはクロル酢
酸メチル、クロル酢酸エチル、クロル酢酸ｎ−プ
ロピル、ブロム酢酸メチル、ブロム酢酸エチル、
ブロム酢酸ｎ−プロピル、ヨード酢酸メチル、ヨ
ード酢酸エチル、ヨード酢酸ｎ−プロピル等を挙
げることができる。特に好ましくはα−ブロムエ
ステルが用いられる。
常、クロル酢酸、ブロム酢酸、ヨード酢酸等のア
ルキルエステルが用いられ、具体的にはクロル酢
酸メチル、クロル酢酸エチル、クロル酢酸ｎ−プ
ロピル、ブロム酢酸メチル、ブロム酢酸エチル、
ブロム酢酸ｎ−プロピル、ヨード酢酸メチル、ヨ
ード酢酸エチル、ヨード酢酸ｎ−プロピル等を挙
げることができる。特に好ましくはα−ブロムエ
ステルが用いられる。
リフオルマツキー反応に用いる溶媒としてはベ
ンゼン、エーテル、メチラール、テトラヒドロフ
ラン等、通常のリフオルマツキー反応に用いられ
る溶媒でよいが、光学活性β−ホルミル−β−ヒ
ドロキシエステルを製造する場合にはベンゼン、
トルエンなどの芳香族炭化水素を用いることが望
ましい。
ンゼン、エーテル、メチラール、テトラヒドロフ
ラン等、通常のリフオルマツキー反応に用いられ
る溶媒でよいが、光学活性β−ホルミル−β−ヒ
ドロキシエステルを製造する場合にはベンゼン、
トルエンなどの芳香族炭化水素を用いることが望
ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常反応開始
に際し加熱を要するため、用いる溶媒の還流下に
行なうことが好ましい。
に際し加熱を要するため、用いる溶媒の還流下に
行なうことが好ましい。
加水分解は塩酸、硫酸等の酸を用いて行なわれ
る。その反応温度は−10℃から100℃までが採用
されるが、製造されるβ−ホルミル−β−ヒドロ
キシエステルの安定性を考慮し、低温の方が望ま
しい。
る。その反応温度は−10℃から100℃までが採用
されるが、製造されるβ−ホルミル−β−ヒドロ
キシエステルの安定性を考慮し、低温の方が望ま
しい。
また本発明の対象であるβ−ホルミル−β−ヒ
ドロキシエステルは一般式(4)で示されるエステル
にリチウムアミド誘導体を作用させた後、アミナ
ールを反応させ次いで加水分解する方法によつて
も製造することができる。
ドロキシエステルは一般式(4)で示されるエステル
にリチウムアミド誘導体を作用させた後、アミナ
ールを反応させ次いで加水分解する方法によつて
も製造することができる。
本発明で用いるエステルとしては通常アルキル
エステルが用いられ具体的には酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル等
を挙げることができる。
エステルが用いられ具体的には酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル等
を挙げることができる。
本発明で用いるリチウムアミド誘導体としては
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシク
ロヘキシルアミド、リチウムＮ−イソプロピルシ
クロヘキシルアミド、リチウム２，２，６，６−
テトラメチルピペリジド、リチウムビストリメチ
ルシリルアミド等を例示することができる。
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシク
ロヘキシルアミド、リチウムＮ−イソプロピルシ
クロヘキシルアミド、リチウム２，２，６，６−
テトラメチルピペリジド、リチウムビストリメチ
ルシリルアミド等を例示することができる。
本反応に用いる溶媒としてはエーテル、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、メチラール等を挙げる
ことができる。
ヒドロフラン、トルエン、メチラール等を挙げる
ことができる。
反応温度は低温の方が望ましく、０℃以下、好
ましくは−20℃以下、さらには−50℃以下で行な
うと有利である。
ましくは−20℃以下、さらには−50℃以下で行な
うと有利である。
加水分解は前述の方法と同様に行なうことがで
きる。
きる。
以下の実施例で発明をさらに具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
が、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
実施例 １
５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−フエニル−
１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタン572mg
を30mlのベンゼンに溶解し、亜鉛末197mgとブロ
ム酢酸エチル491mgを加え、１時間加熱還流し
た。室温に冷却した後20mlの飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、有機層を洗浄した。有機層に25
mlの２％塩酸を加え、室温で２時間撹拌した。有
機層を分離し、水層をエーテルで抽出した。抽出
したエーテル層を先の有機層と混合し、飽和食塩
水で洗浄した。減圧下に溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルカラムで精製して251mgのβ−ホ
ルミル−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロピオ
ン酸エチルを得た。
１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタン572mg
を30mlのベンゼンに溶解し、亜鉛末197mgとブロ
ム酢酸エチル491mgを加え、１時間加熱還流し
た。室温に冷却した後20mlの飽和塩化アンモニウ
ム水溶液を加え、有機層を洗浄した。有機層に25
mlの２％塩酸を加え、室温で２時間撹拌した。有
機層を分離し、水層をエーテルで抽出した。抽出
したエーテル層を先の有機層と混合し、飽和食塩
水で洗浄した。減圧下に溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲルカラムで精製して251mgのβ−ホ
ルミル−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロピオ
ン酸エチルを得た。
nmrピークはδ（ppm）＝1.18（3H、トリプレ
ツト）、2.79（1H、ダブレツト）、3.27（1H、ダ
ブレツト）、4.04（2H、カルテツト）、4.83
（1H、シングレツト）、7.20（5H、マルチプレツ
ト）、9.32（1H、シングレツト）であつた。
ツト）、2.79（1H、ダブレツト）、3.27（1H、ダ
ブレツト）、4.04（2H、カルテツト）、4.83
（1H、シングレツト）、7.20（5H、マルチプレツ
ト）、9.32（1H、シングレツト）であつた。
〔α〕２４ Ｄ＝−135゜（c2.53、ベンゼン）、光学収
率は88％であつた。光学収率は２，２−ジメチル
−４−フエニル−４−（２−ヒドロキシエチル）−
１，３−ジオキソランに誘導し、光学活性シフト
試薬を用いてnmrの積分比により決定した。
率は88％であつた。光学収率は２，２−ジメチル
−４−フエニル−４−（２−ヒドロキシエチル）−
１，３−ジオキソランに誘導し、光学活性シフト
試薬を用いてnmrの積分比により決定した。
実施例 ２
テトラヒドロフラン中520mgのジイソプロピル
アミンと5.15mmolのｎ−ブチルリチウム（0.64
ml／mmolのｎ−ヘキサン溶液）からリチウムジ
イソプロピルアミドを調製した。
アミンと5.15mmolのｎ−ブチルリチウム（0.64
ml／mmolのｎ−ヘキサン溶液）からリチウムジ
イソプロピルアミドを調製した。
−78℃に冷却し、酢酸エチル476mgのテトラヒ
ドロフラン溶液を滴下し、30分間撹拌した。さら
に−78℃で５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−フエ
ニル−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタ
ン928mgのテトラヒドロフラン溶液を滴下し１時
間反応させた。２％塩酸50mlを加え反応を停止し
室温まで昇温した。エーテル20mlを加え室温で２
時間撹拌した。有機層を分離し、以下実施例１と
同様の操作で単離精製して597mgのβ−ホルミル
−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロピオン酸エ
チルを得た。〔α〕２６ Ｄ＋96.3゜（ｃ 3.16、ベンゼ
ン）で光学収率は62％であつた。
ドロフラン溶液を滴下し、30分間撹拌した。さら
に−78℃で５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−フエ
ニル−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタ
ン928mgのテトラヒドロフラン溶液を滴下し１時
間反応させた。２％塩酸50mlを加え反応を停止し
室温まで昇温した。エーテル20mlを加え室温で２
時間撹拌した。有機層を分離し、以下実施例１と
同様の操作で単離精製して597mgのβ−ホルミル
−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロピオン酸エ
チルを得た。〔α〕２６ Ｄ＋96.3゜（ｃ 3.16、ベンゼ
ン）で光学収率は62％であつた。
実施例 ３
トルエン中341mgのジイソプロピルアミンと
3.4mmolのｎ−ブチルリチウム（0.641ml／mmol
のｎ−ヘキサン溶液）からリチウムジイソプロピ
ルアミドを調製した。−78℃に冷却し、酢酸エチ
ル548mgのトルエン溶液を滴下し30分間撹拌し
た。
3.4mmolのｎ−ブチルリチウム（0.641ml／mmol
のｎ−ヘキサン溶液）からリチウムジイソプロピ
ルアミドを調製した。−78℃に冷却し、酢酸エチ
ル548mgのトルエン溶液を滴下し30分間撹拌し
た。
さらに−78℃で５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３
−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザビシ
クロ〔３，３，０〕オクタン548mgのトルエン溶
液を滴下し１時間反応させた。２％塩酸40mlを加
え反応を停止し室温まで昇温した。エーテル20ml
を加え、室温で２時間撹拌した。有機層を分離し
以下実施例１と同様の操作で単離して324mgのβ
−ホルミル−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロ
ピオン酸エチルを得た。
−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザビシ
クロ〔３，３，０〕オクタン548mgのトルエン溶
液を滴下し１時間反応させた。２％塩酸40mlを加
え反応を停止し室温まで昇温した。エーテル20ml
を加え、室温で２時間撹拌した。有機層を分離し
以下実施例１と同様の操作で単離して324mgのβ
−ホルミル−β−ヒドロキシ−β−フエニルプロ
ピオン酸エチルを得た。
〔α〕２５ Ｄ−128゜（ｃ 1.92、ベンゼン）で光学
収率は84％であつた。
収率は84％であつた。
実施例 ４
５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−（ｏ−メトキ
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−アセチル−３
−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザビシ
クロ〔3.3.0〕オクタン443mgを用いた他は実施例
３と同様の操作を行ない191mgのβ−ホルミル−
β−ヒドロキシ酪酸エチルを得た。
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−アセチル−３
−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザビシ
クロ〔3.3.0〕オクタン443mgを用いた他は実施例
３と同様の操作を行ない191mgのβ−ホルミル−
β−ヒドロキシ酪酸エチルを得た。
nmrピークはδ（ppm）＝1.20（3H、シングレ
ツト）、1.20（3H、トリプレツト）、2.43（1H、
ダブレツト）、2.80（1H、ダブレツト）、4.03
（2H、カルテツト）、4.06（1H、シングレツト）、
9.42（1H、シングレツト）であつた。
ツト）、1.20（3H、トリプレツト）、2.43（1H、
ダブレツト）、2.80（1H、ダブレツト）、4.03
（2H、カルテツト）、4.06（1H、シングレツト）、
9.42（1H、シングレツト）であつた。
〔α〕２３ Ｄ−26.2゜（ｃ 2.20、ベンゼン）で光学
収率は92％であつた。光学収率は２，２，４−ト
リメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）−１，３
−ジオキソランに誘導し、光学活性シフト試薬を
用いてnmrの積分比により決定した。
収率は92％であつた。光学収率は２，２，４−ト
リメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）−１，３
−ジオキソランに誘導し、光学活性シフト試薬を
用いてnmrの積分比により決定した。
実施例 ５
５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−（ｏ−メトキ
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−プロピオニル
−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン466mgを用いた他は実
施例３と同様の操作を行ない190mgのβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシ吉草酸エチルを得た。
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−プロピオニル
−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン466mgを用いた他は実
施例３と同様の操作を行ない190mgのβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシ吉草酸エチルを得た。
nmrピークはδ（ppm）＝0.87（3H、トリプレ
ツト）、1.23（3H、トリプレツト）、1.38〜1.75
（2H、マルチプレツト）、2.40（1H、ダブレツ
ト）、2.73（1H、ダブレツト）、3.86（1H、ブロ
−ド）、4.03（2H、カルテツト）9.50（1H、シン
グレツト）であつた。〔α〕２４ Ｄ−17.5゜（ｃ
4.20、ベンゼン）で、光学収率は87％であつた。
ツト）、1.23（3H、トリプレツト）、1.38〜1.75
（2H、マルチプレツト）、2.40（1H、ダブレツ
ト）、2.73（1H、ダブレツト）、3.86（1H、ブロ
−ド）、4.03（2H、カルテツト）9.50（1H、シン
グレツト）であつた。〔α〕２４ Ｄ−17.5゜（ｃ
4.20、ベンゼン）で、光学収率は87％であつた。
光学収率は２，２−ジメチル−４−エチル−４
−（２−ヒドロキシエチル）−１，３−ジオキソラ
ンに誘導し光学活性シフト試薬を用いてnmrの積
分比により決定した。
−（２−ヒドロキシエチル）−１，３−ジオキソラ
ンに誘導し光学活性シフト試薬を用いてnmrの積
分比により決定した。
実施例 ６
５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−（ｏ−メトキ
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−イソブチリル
−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン490mgを用いた他は実
施例３と同様の操作を行ない160mgの３−ホルミ
ル−３−ヒドロキシ−４−メチル吉草酸エチルを
得た。nmrピークはδ（ppm）＝0.88（3H、ダブ
レツト）、0.91（3H、ダブレツト）、1.23（3H、
トリプレツト）、1.53〜2.08（1H、マルチプレツ
ト）、2.41（1H、ダブレツト）、2.78（1H、ダブ
レツト）、4.00（1H、シングレツト）、4.03
（2H、カルテツト）、9.41（1H、シングレツト）
であつた。〔α〕２３ Ｄ−25.6゜（c4.16、ベンゼン）
で
光学収率は92％であつた。光学収率は２，２−ジ
メチル−４−イソプロピル−４−（２−ヒドロキ
シエチル）−１，３−ジオキソランに誘導し、光
学活性シフト試薬を用いてnmrの積分比により決
定した。
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタンの代わりに５−（Ｓ）−２−イソブチリル
−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−ジアザ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン490mgを用いた他は実
施例３と同様の操作を行ない160mgの３−ホルミ
ル−３−ヒドロキシ−４−メチル吉草酸エチルを
得た。nmrピークはδ（ppm）＝0.88（3H、ダブ
レツト）、0.91（3H、ダブレツト）、1.23（3H、
トリプレツト）、1.53〜2.08（1H、マルチプレツ
ト）、2.41（1H、ダブレツト）、2.78（1H、ダブ
レツト）、4.00（1H、シングレツト）、4.03
（2H、カルテツト）、9.41（1H、シングレツト）
であつた。〔α〕２３ Ｄ−25.6゜（c4.16、ベンゼン）
で
光学収率は92％であつた。光学収率は２，２−ジ
メチル−４−イソプロピル−４−（２−ヒドロキ
シエチル）−１，３−ジオキソランに誘導し、光
学活性シフト試薬を用いてnmrの積分比により決
定した。
参考例 １
（Ｓ）−２−（ｏ−アニシジノメチル）ピロリジ
ン72mgとフエニルグリオキザール水和物53mgをベ
ンゼン還流下、共沸で水を除きながら30分間反応
させた。反応物をアルミナカラムで精製し101mg
の５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−（ｏ−メトキ
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタン101mgを得た。
ン72mgとフエニルグリオキザール水和物53mgをベ
ンゼン還流下、共沸で水を除きながら30分間反応
させた。反応物をアルミナカラムで精製し101mg
の５−（Ｓ）−２−ベンゾイル−３−（ｏ−メトキ
シフエニル）−１，３−ジアザビシクロ〔3.3.0〕
オクタン101mgを得た。
参考例 ２
（Ｓ）−２−（ｏ−アニシジノメチル）ピロリジ
ン206mgとヒドロキシメトキシ酢酸メチル120mgを
ベンゼン還流下、共沸で水を除きながら30分間反
応させた。溶媒を減圧下に留去し、残留物をテト
ラヒドロフランに溶解した。210mgの無水塩化マ
グネシウムを加え、１時間加熱還流した。
ン206mgとヒドロキシメトキシ酢酸メチル120mgを
ベンゼン還流下、共沸で水を除きながら30分間反
応させた。溶媒を減圧下に留去し、残留物をテト
ラヒドロフランに溶解した。210mgの無水塩化マ
グネシウムを加え、１時間加熱還流した。
−78℃に冷却しイソプロピルマグネシウムのエ
ーテル溶液を滴下した。薄層クロマトグラフイー
で原料が消失したら滴下を終了し、塩化アンモニ
ウム飽和水溶液を加え、室温まで昇温させた。エ
ーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
後、減圧下溶媒を留去した。粗生成物をアルミナ
カラムで精製した193mgの５−（Ｓ）−２−イソブ
チリル−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−
ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタンを得た。
ーテル溶液を滴下した。薄層クロマトグラフイー
で原料が消失したら滴下を終了し、塩化アンモニ
ウム飽和水溶液を加え、室温まで昇温させた。エ
ーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
後、減圧下溶媒を留去した。粗生成物をアルミナ
カラムで精製した193mgの５−（Ｓ）−２−イソブ
チリル−３−（ｏ−メトキシフエニル）−１，３−
ジアザビシクロ〔3.3.0〕オクタンを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式(1) （式中、R1は低級アルキル基またはフエニル
基を、R2は低級アルキル基を、R3は水素原子を
表わす。） で示される光学活性もしくは不活性のβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステル。 ２ 一般式(2) （式中、Ａはアリール基を、R1は低級アルキ
ル基またはフエニル基を表わす。） で示される光学活性もしくは不活性な化合物に亜
鉛の存在下、一般式(3) （式中、Ｘはハロゲン原子を、R2は低級アル
キル基を、R3は水素原子を表わす。） で示されるα−ハロエステルを反応させ、次いで
加水分解することを特徴とする一般式(1) （式中、R1，R2，R3は前記と同じ意味を表わ
す。） で示される光学活性もしくは不活性のβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステルの製造法。 ３ 一般式 R3CH2COOR2 (4) （式中、R2は低級アルキル基を、R3は水素原
子を表わす。） で示されるエステルにリチウムアミド誘導体を作
用させた後、一般式(2) （式中、Ａはアリール基を、R1は低級アルキ
ル基またはフエニル基を表わす。） で示される光学活性もしくは不活性な化合物を反
応させ、次いで加水分解することを特徴とする一
般式(1) （式中、R1，R2，R3は前記と同じ意味を表わ
す。） で示される光学活性もしくは不活性なβ−ホルミ
ル−β−ヒドロキシエステルの製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4241280A JPS56138143A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Beta-formyl-beta-hydroxy ester and its preparation |
| US06/235,559 US4616092A (en) | 1980-03-31 | 1981-02-18 | β-formyl-β-hydroxy ester |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4241280A JPS56138143A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Beta-formyl-beta-hydroxy ester and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56138143A JPS56138143A (en) | 1981-10-28 |
| JPS6136741B2 true JPS6136741B2 (ja) | 1986-08-20 |
Family
ID=12635344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4241280A Granted JPS56138143A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Beta-formyl-beta-hydroxy ester and its preparation |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4616092A (ja) |
| JP (1) | JPS56138143A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3933334A1 (de) * | 1989-10-06 | 1991-04-11 | Basf Ag | 3-substituierte 2-hydroxy-3-formyl-propionsaeureester, verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung zur herstellung von 3-substituierten 3-formyl-acrylsaeureestern |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2857420A (en) * | 1956-09-21 | 1958-10-21 | Merck & Co Inc | Derivatives of beta-hydroxy-beta-methyl-gamma-formylbutyric acid |
-
1980
- 1980-03-31 JP JP4241280A patent/JPS56138143A/ja active Granted
-
1981
- 1981-02-18 US US06/235,559 patent/US4616092A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4616092A (en) | 1986-10-07 |
| JPS56138143A (en) | 1981-10-28 |
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