JPS6142013A - 液面制御用ｐｉ制御装置 - Google Patents
液面制御用ｐｉ制御装置Info
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- JPS6142013A JPS6142013A JP16341784A JP16341784A JPS6142013A JP S6142013 A JPS6142013 A JP S6142013A JP 16341784 A JP16341784 A JP 16341784A JP 16341784 A JP16341784 A JP 16341784A JP S6142013 A JPS6142013 A JP S6142013A
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- Japan
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- change
- control
- amount
- output
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D9/00—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel
- G05D9/12—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel characterised by the use of electric means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はタンク塔（タワー）＠の液体貯留部における液
面を一定に制御するための液面制御用ＰＩ制御装置に関
するものである。
面を一定に制御するための液面制御用ＰＩ制御装置に関
するものである。
たとえば、液体の安定供給のために液体給配系にタンク
タワーを設け、ここに液体を一時貯留して、その貯留液
をｍｌｊ側に供給すると云ったことが行われている。
タワーを設け、ここに液体を一時貯留して、その貯留液
をｍｌｊ側に供給すると云ったことが行われている。
このような、タンクタワーの液面レベルを一定に保つに
は第４図に示すように、タンクタワー１にレベル検出器
２を設けてタンクタワー１内の液面レペ、ルを検出する
とともに、その検出出力をレベル指示調節計３に与え、
基ｆｓ値と比較し、その差に応じた操作量を得、この操
作量を流量指示調節計４に与える。第４図の装置の場合
、流入系線一定で、流出系Ｖ（はその管路に流量検出ｂ
５を設けるとともにその後段に管路の流量を調節する弁
開度を電気的に制御して自動調整可能な制御弁６を設け
て、流出量を制御することによ〕、タンクタワー１内の
液面レベルを一定に保つ方式である。そのため、本装置
では流量指示調節計４に流量検出器５の出力と、レベル
指示調節計３の出力する操作出力ＭＹを入力し、流量指
示調節計４より、操作出力ＭＹを基準値とした流量検出
器５検出出力の差出力を得て、これを操作出力とし、前
記制御弁６に与えて、開度制御してタンクタワー１内の
液面レベルを所定値内に保つようにする。
は第４図に示すように、タンクタワー１にレベル検出器
２を設けてタンクタワー１内の液面レペ、ルを検出する
とともに、その検出出力をレベル指示調節計３に与え、
基ｆｓ値と比較し、その差に応じた操作量を得、この操
作量を流量指示調節計４に与える。第４図の装置の場合
、流入系線一定で、流出系Ｖ（はその管路に流量検出ｂ
５を設けるとともにその後段に管路の流量を調節する弁
開度を電気的に制御して自動調整可能な制御弁６を設け
て、流出量を制御することによ〕、タンクタワー１内の
液面レベルを一定に保つ方式である。そのため、本装置
では流量指示調節計４に流量検出器５の出力と、レベル
指示調節計３の出力する操作出力ＭＹを入力し、流量指
示調節計４より、操作出力ＭＹを基準値とした流量検出
器５検出出力の差出力を得て、これを操作出力とし、前
記制御弁６に与えて、開度制御してタンクタワー１内の
液面レベルを所定値内に保つようにする。
このように、通常、液面レベル制御は流入量または流出
量を液面レベルに応じ調整することによ）行うが、余シ
に敏感に制御系を応答させるとハンチング現象を引起す
ことから、応答遅れが多少あっても問題の少ないシステ
ムの場合に、液面レベルに一定の許容値（ギャップ）を
設け、このレベル内にあるときは応答させない、すなわ
ち、不感帯とする制御アルゴリズム（以下、これをギャ
ップＰＩ制御と称する）を使用する。
量を液面レベルに応じ調整することによ）行うが、余シ
に敏感に制御系を応答させるとハンチング現象を引起す
ことから、応答遅れが多少あっても問題の少ないシステ
ムの場合に、液面レベルに一定の許容値（ギャップ）を
設け、このレベル内にあるときは応答させない、すなわ
ち、不感帯とする制御アルゴリズム（以下、これをギャ
ップＰＩ制御と称する）を使用する。
ギヤ、グＰ！制御は、第６図に示すように、合には、・
ｎＸＫｐ（ｆイン）で制御偏差Ｉｎ′を求めて、ＰＩ副
制御する。
ｎＸＫｐ（ｆイン）で制御偏差Ｉｎ′を求めて、ＰＩ副
制御する。
しかしながら、この制御で線不感帯を設定しであるため
、偏差・ｎがＧＰ以内の時、制御偏差・ｎ′が零とな広
この場合、液面レベル変化が緩やかな時は良いが、液面
レベル変化が急変した時は、そのＧＰ内にある場合は操
作出力は発生せず、偏差がＧＰを越えて、初めて操作出
力が発生するため、液面レベル急変時の応答性が極めて
悪いと云う欠点がある。
、偏差・ｎがＧＰ以内の時、制御偏差・ｎ′が零とな広
この場合、液面レベル変化が緩やかな時は良いが、液面
レベル変化が急変した時は、そのＧＰ内にある場合は操
作出力は発生せず、偏差がＧＰを越えて、初めて操作出
力が発生するため、液面レベル急変時の応答性が極めて
悪いと云う欠点がある。
本発明は上記の事情に鑑みて成されたものでらシ、ギヤ
、グＰＩ制御において、ギャップ内であっても液面レベ
ル急変時にはその変化量に応じて制御を行うことができ
るようにして応答性の改善を図った液面制御用Ｐ！制御
装置を提供することを目的とする。
、グＰＩ制御において、ギャップ内であっても液面レベ
ル急変時にはその変化量に応じて制御を行うことができ
るようにして応答性の改善を図った液面制御用Ｐ！制御
装置を提供することを目的とする。
すなわち、上記目的を達成するため本発明は、貯留液の
容積変化を監視してその容積が所定の範囲内にあるとき
制御の不感帯とするとともに上記範囲を外れるときは流
量をその変化量に応じて制御するようにしたものにおい
て、前記容積検出出力を得てその変化量を監視する手段
と、該変化量が基準値を越えるとき、該変化量に所定の
補正係数を乗じて補正した変化量出力を発生する手段と
、この補正変化量を付加して制御量を発生する手段とを
設け、容積変化量の監視を行うとともにその変化量の大
きさにより変化量に所定の補正を加え、これを制御量発
生手段に与えるようにすることによシ、偏差がギヤ。
容積変化を監視してその容積が所定の範囲内にあるとき
制御の不感帯とするとともに上記範囲を外れるときは流
量をその変化量に応じて制御するようにしたものにおい
て、前記容積検出出力を得てその変化量を監視する手段
と、該変化量が基準値を越えるとき、該変化量に所定の
補正係数を乗じて補正した変化量出力を発生する手段と
、この補正変化量を付加して制御量を発生する手段とを
設け、容積変化量の監視を行うとともにその変化量の大
きさにより変化量に所定の補正を加え、これを制御量発
生手段に与えるようにすることによシ、偏差がギヤ。
プ（不感帯）内でありても液面レベル急変時にはその変
化量に応じて液面制御を行うことができるようにして応
答性向上させるようにするー。
化量に応じて液面制御を行うことができるようにして応
答性向上させるようにするー。
以下、本発明の一実施例について、第１図乃至第３図を
参照しながら説明をする。第１図は本発明装置の構成を
示すプロ、り図であシ、図中１１は偏差演算器であうて
、この偏差演算器１１は前記レベル検出器２の出力する
検出出力ｐｖと予め設定された基準値ＳＶとを受け、基
準値Ｓｖをに対して前記検出出力ｐｖを比較してその偏
差ｅｎを出力する機能を有する。１２は比較演算器であ
シ、この比較演算器１２はこの偏差・ｎと予め設定した
ギヤ、ｆ値ＧＰを受け、両者を比較してその大小を比較
演算してその判別結果を出力するものであるｓ １３ｄ
、２人力選択器であシ、この２人力選択器１３ｄ比較演
算器１２の判別結果によシ、偏差ｅｎがギヤツブ値ＧＰ
内のときは０を、またギヤ、プ値ＧＰ外のとき３社偏差
ｅｎを選択して出力する機能を有する。１４は偏差演算
器であり、この偏差演算器１４は前記ギヤ、プ値ＧＰを
基準に前記２人力選択器１３を介して出力される偏差ｅ
ｎを比較して、その差出力を発生する。１５は乗算器で
・あり、この乗算器１５は偏差用ゲインＫＰと前記偏差
演算器１４の出力を乗算するものである。１６は変化率
演算器であシ、この変化率演算器１６は前記検出出力ｐ
ｖを受け、その変化速度値Δｐｖを演算する機能を有す
る。
参照しながら説明をする。第１図は本発明装置の構成を
示すプロ、り図であシ、図中１１は偏差演算器であうて
、この偏差演算器１１は前記レベル検出器２の出力する
検出出力ｐｖと予め設定された基準値ＳＶとを受け、基
準値Ｓｖをに対して前記検出出力ｐｖを比較してその偏
差ｅｎを出力する機能を有する。１２は比較演算器であ
シ、この比較演算器１２はこの偏差・ｎと予め設定した
ギヤ、ｆ値ＧＰを受け、両者を比較してその大小を比較
演算してその判別結果を出力するものであるｓ １３ｄ
、２人力選択器であシ、この２人力選択器１３ｄ比較演
算器１２の判別結果によシ、偏差ｅｎがギヤツブ値ＧＰ
内のときは０を、またギヤ、プ値ＧＰ外のとき３社偏差
ｅｎを選択して出力する機能を有する。１４は偏差演算
器であり、この偏差演算器１４は前記ギヤ、プ値ＧＰを
基準に前記２人力選択器１３を介して出力される偏差ｅ
ｎを比較して、その差出力を発生する。１５は乗算器で
・あり、この乗算器１５は偏差用ゲインＫＰと前記偏差
演算器１４の出力を乗算するものである。１６は変化率
演算器であシ、この変化率演算器１６は前記検出出力ｐ
ｖを受け、その変化速度値Δｐｖを演算する機能を有す
る。
１７は比較演算器であ）、この比較演算器１７は前記変
化速度値Δｐｖと予め設定された変化率リミットΔＧＰ
１ｍ・とを比較してその大小を判別するものである。１
８社２人力選択器であり、この２人力選択器１８は比較
演算器１７の判別結果によシ、変化速度値Δｐｖが変化
率リミットΔＧ Ｐ １ ｍｌ、内のときは０を、また
変化速度値ｌＧＰ外のときは変化速度値ΔＧＰを選択し
て出力する機能を有する。
化速度値Δｐｖと予め設定された変化率リミットΔＧＰ
１ｍ・とを比較してその大小を判別するものである。１
８社２人力選択器であり、この２人力選択器１８は比較
演算器１７の判別結果によシ、変化速度値Δｐｖが変化
率リミットΔＧ Ｐ １ ｍｌ、内のときは０を、また
変化速度値ｌＧＰ外のときは変化速度値ΔＧＰを選択し
て出力する機能を有する。
１９は乗算器であシ、この乗算器１９は上記２人力選択
器１８の出力に予め設定された変化率用ゲインＫ Ｐ’
を乗算して出力する。２０は加ｇｎ器でら夛、この加減
算器２０は上記乗算器１５よシ乗Ｕ器１６の出力を減算
してその結果を制御偏差ｅｎ′として出力するものであ
る。
器１８の出力に予め設定された変化率用ゲインＫ Ｐ’
を乗算して出力する。２０は加ｇｎ器でら夛、この加減
算器２０は上記乗算器１５よシ乗Ｕ器１６の出力を減算
してその結果を制御偏差ｅｎ′として出力するものであ
る。
２１はＰＩＤ演算器であり、このＩ）ＩＤ演算器２ノは
加減算器２０の出力する制御偏差・ｎ′を基に前記操作
弁６の開度制御用の操作量Ｍｖ′に３ｉＬ出してこれを
出力するものである。
加減算器２０の出力する制御偏差・ｎ′を基に前記操作
弁６の開度制御用の操作量Ｍｖ′に３ｉＬ出してこれを
出力するものである。
次に上記構成の本装置の作用について説明する。
本装置は第１図に示すように、偏差ａｎとギャップ値Ｇ
Ｐにより制御偏差・ｎ′を求める構成要素１１〜１５と
、変化速度Δｐｖ及び変化率リミット値ΔＰＶ１ｎ、と
によシ制御偏差・ｎ′の補正分を求・める構成要素１６
〜１９と、制御偏差１１ ｆｉ’と補正分を加減算し、
ＰＩＤ演算を行う構成要素２０．２１とに大別される。
Ｐにより制御偏差・ｎ′を求める構成要素１１〜１５と
、変化速度Δｐｖ及び変化率リミット値ΔＰＶ１ｎ、と
によシ制御偏差・ｎ′の補正分を求・める構成要素１６
〜１９と、制御偏差１１ ｆｉ’と補正分を加減算し、
ＰＩＤ演算を行う構成要素２０．２１とに大別される。
そして変化率速度、偏差の構成要素は各々独立して動作
する。
する。
・前記レベル検出器２の出力する検出出力ｐｖと予め設
定された基準値ＳＶとを受けて、偏差検出器１１は基準
値ＳＶに対して前記検出出力Ｐｖを比較してその偏差・
ｎを出力する。するとこの出力は比較演算器１２と２人
力選択器１３とに与えられる。すると、この比較演算器
１２はこの偏差＠ｎと予め設定したギャップ値ＣＰを受
け、両者を比較してその大小を比較演算してその判別結
果を出力する。この判別結果は２人力選択器１３に与え
られ、この２人力選択器１３は比較演算器１２の判別結
果によシ、偏差ｏｎがギヤツブ値ＧＰ内のとき紘０を、
またヂャ、グ値ＧＰ外のときは偏差・口を選択して出力
する。この出力は偏差演算器１４に与えられ、この偏差
演算器１４は前記ギヤ、グ値ＧＰを基準に前記２人力選
択器１３を介して与えられたこの偏差・ｎを比較して、
その差出力を発生する。そして、この差出力は乗算器１
５に与えられ、この乗算器１５によシ偏差用ｒインＫＰ
と乗算される。
定された基準値ＳＶとを受けて、偏差検出器１１は基準
値ＳＶに対して前記検出出力Ｐｖを比較してその偏差・
ｎを出力する。するとこの出力は比較演算器１２と２人
力選択器１３とに与えられる。すると、この比較演算器
１２はこの偏差＠ｎと予め設定したギャップ値ＣＰを受
け、両者を比較してその大小を比較演算してその判別結
果を出力する。この判別結果は２人力選択器１３に与え
られ、この２人力選択器１３は比較演算器１２の判別結
果によシ、偏差ｏｎがギヤツブ値ＧＰ内のとき紘０を、
またヂャ、グ値ＧＰ外のときは偏差・口を選択して出力
する。この出力は偏差演算器１４に与えられ、この偏差
演算器１４は前記ギヤ、グ値ＧＰを基準に前記２人力選
択器１３を介して与えられたこの偏差・ｎを比較して、
その差出力を発生する。そして、この差出力は乗算器１
５に与えられ、この乗算器１５によシ偏差用ｒインＫＰ
と乗算される。
一方、前記検出出力ｐｖを受けた変化率演算器１６は検
出出力ｐｖの変化速度値Δｐｖを演算する。そして、こ
れを比較演算器１７に与える。
出出力ｐｖの変化速度値Δｐｖを演算する。そして、こ
れを比較演算器１７に与える。
比較演算器１７はこの与えられた変化速度値Δｐｖと予
め設定された変化率Ｉ７ ミツトΔＧｒｉｍとを比較し
てその大小を判別する。そして、この判別結果を２人力
選択器１８に与える。すると、この２人力選択器１８は
比較演算器１７０判別結果により、変化速度値Δｐｖが
変化率＋７ ）、トΔＧＰ１ｍ内のときは０を、また変
化速度値ｌＧＰ外のとき社変化速度値ΔＧＰｔ−選択し
て出力する。この出力は乗算器１９に与えられ、この乗
算器１９により、上記２人力選択器１８の出力には予め
設定された変化率用ゲインＫＰ’が乗算されて出力され
る。この出力は前記乗算器１５の出力とともに加減算器
２０に与えられ、ここで上記乗算器１５の出力より乗算
！ａ１６の出力を減算してその結果を制御偏差・ｎ′と
して出力して、 ＰＩＤ演算器２１に与える。そして、
このＰＩＤＩＤ演算器２ノシ、加減算器２０から出力さ
れた制御偏差・口′を基に前記操作弁６の開度制御用の
操作量ＭＹが算出されて操作弁６に与えられ、弁開度が
制御される。
め設定された変化率Ｉ７ ミツトΔＧｒｉｍとを比較し
てその大小を判別する。そして、この判別結果を２人力
選択器１８に与える。すると、この２人力選択器１８は
比較演算器１７０判別結果により、変化速度値Δｐｖが
変化率＋７ ）、トΔＧＰ１ｍ内のときは０を、また変
化速度値ｌＧＰ外のとき社変化速度値ΔＧＰｔ−選択し
て出力する。この出力は乗算器１９に与えられ、この乗
算器１９により、上記２人力選択器１８の出力には予め
設定された変化率用ゲインＫＰ’が乗算されて出力され
る。この出力は前記乗算器１５の出力とともに加減算器
２０に与えられ、ここで上記乗算器１５の出力より乗算
！ａ１６の出力を減算してその結果を制御偏差・ｎ′と
して出力して、 ＰＩＤ演算器２１に与える。そして、
このＰＩＤＩＤ演算器２ノシ、加減算器２０から出力さ
れた制御偏差・口′を基に前記操作弁６の開度制御用の
操作量ＭＹが算出されて操作弁６に与えられ、弁開度が
制御される。
以上は一般的な制御動作説明である。次に本発明装置の
特徴である液位がギヤ、プ内にある場合の動作ｔ−説明
する。
特徴である液位がギヤ、プ内にある場合の動作ｔ−説明
する。
いま液面レベル検出器２の検出出力ｐｖが、ギヤ、ｆ内
のレベルでおって、第２図の如き変化を呈しているもの
とする。
のレベルでおって、第２図の如き変化を呈しているもの
とする。
本装置では前記変化速度値検出出力ｐｖを受けた変化率
演算器１６は所定時間を毎に検出出力ｐｖを抽出して、
該出力のレベル差よ〕検出出力の変化速度値Δｐｖを演
算する。そして、これを比較演算器１７に与える。この
与えられた変化速度値Δｐｖは前記変化率リミットΔＰ
Ｖ１ｍよシ小さいので、比較演算器１７は両者の比較の
結果、変化速度値Δｐｖは小と判断する。したがりて、
これを受けた２人力選択器１８は０を出力し、そのため
、構成要素１１〜１５側の出力のみでの制御すなわち、
ギャップＰＩ制御となる。
演算器１６は所定時間を毎に検出出力ｐｖを抽出して、
該出力のレベル差よ〕検出出力の変化速度値Δｐｖを演
算する。そして、これを比較演算器１７に与える。この
与えられた変化速度値Δｐｖは前記変化率リミットΔＰ
Ｖ１ｍよシ小さいので、比較演算器１７は両者の比較の
結果、変化速度値Δｐｖは小と判断する。したがりて、
これを受けた２人力選択器１８は０を出力し、そのため
、構成要素１１〜１５側の出力のみでの制御すなわち、
ギャップＰＩ制御となる。
また、第３図の場合には所定時間を毎に抽出された検出
出力Ｐｖｔ−元にそのレベル差より変化率演算器１６で
演算された検出出力の変化速度値ΔｐｖＨ１前記変化率
リミ、ト、ΔＰＶ１ｍより大きいので、比較演算器１゛
７は両者の比較の結果、変化速度値Δｐｖは大と判断す
る。したがって、これを受けた２人力選択器１８はΔｐ
ｖを出力し、そのため、ΔＰＶに応じた・ｎ′の補正弁
を求めてこれを出力する。そして、これを構成要素１１
〜１５側の出力に付加するので、ギヤ。
出力Ｐｖｔ−元にそのレベル差より変化率演算器１６で
演算された検出出力の変化速度値ΔｐｖＨ１前記変化率
リミ、ト、ΔＰＶ１ｍより大きいので、比較演算器１゛
７は両者の比較の結果、変化速度値Δｐｖは大と判断す
る。したがって、これを受けた２人力選択器１８はΔｐ
ｖを出力し、そのため、ΔＰＶに応じた・ｎ′の補正弁
を求めてこれを出力する。そして、これを構成要素１１
〜１５側の出力に付加するので、ギヤ。
ｆ内での変動であってもこれに関係無くΔＰｖに応じた
ＰＩ副制御成されることになる。
ＰＩ副制御成されることになる。
このようにギヤ、ｆ内の変動であっても、その変動幅が
大きければＰＩ副制御成されるので、ギヤ、ｆ内で急激
な液面レベルの変化が生じても先行的に流量を制御する
ことができ液面レベル制御の応答性を改善することか出
来る。
大きければＰＩ副制御成されるので、ギヤ、ｆ内で急激
な液面レベルの変化が生じても先行的に流量を制御する
ことができ液面レベル制御の応答性を改善することか出
来る。
尚、上記の実施例では液面レベルの変化速度値ΔＰｖを
所定の周期でサンプリングするようにして得たが、これ
を連続的に検出してその信号を微分し、変化の様子をそ
の勾配の変化で監゛祝することによシ、周期的なサンプ
リングでは掴むことのできなかったサンプリング周期間
での急変をも検出してこれに応答することができるよう
になる。
所定の周期でサンプリングするようにして得たが、これ
を連続的に検出してその信号を微分し、変化の様子をそ
の勾配の変化で監゛祝することによシ、周期的なサンプ
リングでは掴むことのできなかったサンプリング周期間
での急変をも検出してこれに応答することができるよう
になる。
また、資化速度値ΔＰｖがあるレベルに達するに要する
時間を求めて、その大小にょ夛ギヤ。
時間を求めて、その大小にょ夛ギヤ。
７’ＰＩ制御のまま保つか、ＰＩ副制御移行するかを決
定するようにすることもできる。。
定するようにすることもできる。。
尚、レベル変化速度に対し、補正値を求める方式には次
のような方式がある。
のような方式がある。
（１） レベル変化速度よシ変化速度すミ、ト値（ΔＰ
Ｖ１ｍ ）を減算し、Δｐｖ−ΔＰｖ１ｒｐ分に変化率
用ゲイン（Ｋ ｐ’）を乗算する方式。
Ｖ１ｍ ）を減算し、Δｐｖ−ΔＰｖ１ｒｐ分に変化率
用ゲイン（Ｋ ｐ’）を乗算する方式。
この方法はレベル変化速度による補正値が少ないため、
応答性は多少悪くなるが流出量の変化分を押えることが
出来る。
応答性は多少悪くなるが流出量の変化分を押えることが
出来る。
（２） レベル変化速度よシ、タンクタワーの容積を
計算し、この求めた容積にもとすいて流出量の設定値を
計算する方式。
計算し、この求めた容積にもとすいて流出量の設定値を
計算する方式。
容積計算には折れ線にて近似させる方式とレベル位置に
応じた計算式、テーブル（常数）を用いる方法がある。
応じた計算式、テーブル（常数）を用いる方法がある。
以上、詳述したように本発明によれにルベル変化に応答
させない不感帯を設けたギヤ、グＰＩ制御において、不
感帯内での急激な変動が生じた場合にはその変動に応じ
たＰＩ副制御行うようにしたので、不感帯内での急激な
液面レベル変動が生じても従来のように不感帯を越え死
時点で直ちに制御に入ると言ったことが無くなるので応
答遅れが生じなくなシ、ギヤ、グＰＩ制御とＰＩ副制御
利点を兼ね備えた、極めて良好なギャップＰＩ制御を実
施できる液面制御用ＰＩ制御装置を提供することができ
る。
させない不感帯を設けたギヤ、グＰＩ制御において、不
感帯内での急激な変動が生じた場合にはその変動に応じ
たＰＩ副制御行うようにしたので、不感帯内での急激な
液面レベル変動が生じても従来のように不感帯を越え死
時点で直ちに制御に入ると言ったことが無くなるので応
答遅れが生じなくなシ、ギヤ、グＰＩ制御とＰＩ副制御
利点を兼ね備えた、極めて良好なギャップＰＩ制御を実
施できる液面制御用ＰＩ制御装置を提供することができ
る。
第１図は本発明の一実施例を示すプロ、り図、第２図、
第３図は本発明の詳細な説明するための特性図、第１図
は基本的な液面レベル制御の系統図、第２図は従来のギ
ャップＰＩ制御の制御特性図である。 １・・・タンクタワー、２・・・レベル検出ａ、３・・
・レベル指示調節計、４・・・流量指示調節計、５・・
・流量検出器、６・・・制御弁、１１．１４・・・偏差
演算器、１２．１７−・・比較演算器、１３．１８・・
・２人力選択器、１５．１９・・・乗算器、１６・・・
資化率演算器、２０・・・加減算器、２ノ・・・ＰＩＤ
演澗器。 出厭人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
第３図は本発明の詳細な説明するための特性図、第１図
は基本的な液面レベル制御の系統図、第２図は従来のギ
ャップＰＩ制御の制御特性図である。 １・・・タンクタワー、２・・・レベル検出ａ、３・・
・レベル指示調節計、４・・・流量指示調節計、５・・
・流量検出器、６・・・制御弁、１１．１４・・・偏差
演算器、１２．１７−・・比較演算器、１３．１８・・
・２人力選択器、１５．１９・・・乗算器、１６・・・
資化率演算器、２０・・・加減算器、２ノ・・・ＰＩＤ
演澗器。 出厭人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
Claims (3)
- （１）貯留液体の容積変化を監視してその容積が所定の
範囲内にあるとき制御の不感帯とするとともに上記範囲
を外れるときは流量をその変化量に応じて制御するよう
にしたものにおいて、前記容積検出出力を得てその変化
量を監視する手段と、該変化量が基準値を越えるとき、
該変化量に所定の補正係数を乗じて補正した変化量出力
を発生する手段と、この補正変化量を付加して制御量を
発生する手段とを具備して成る液面制御用ＰＩ制御装置
。 - （２）変化量は周期的に監視することを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の液面制御用ＰＩ制御装置。 - （３）変化量は連続的に監視するとともにその変化の傾
向が基準値を越えるとき、該変化量を補正係数で補正し
て補正変化量出力とすることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の液面制御用ＰＩ制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16341784A JPS6142013A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 液面制御用ｐｉ制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16341784A JPS6142013A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 液面制御用ｐｉ制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142013A true JPS6142013A (ja) | 1986-02-28 |
Family
ID=15773498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16341784A Pending JPS6142013A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 液面制御用ｐｉ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6142013A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114488775A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-05-13 | 东北大学 | 悬浮焙烧产品制浆过程的控制方法及装置 |
-
1984
- 1984-08-02 JP JP16341784A patent/JPS6142013A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114488775A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-05-13 | 东北大学 | 悬浮焙烧产品制浆过程的控制方法及装置 |
| CN114488775B (zh) * | 2021-12-23 | 2024-02-06 | 东北大学 | 悬浮焙烧产品制浆过程的控制方法及装置 |
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