JPS6142721A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
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- JPS6142721A JPS6142721A JP16319984A JP16319984A JPS6142721A JP S6142721 A JPS6142721 A JP S6142721A JP 16319984 A JP16319984 A JP 16319984A JP 16319984 A JP16319984 A JP 16319984A JP S6142721 A JPS6142721 A JP S6142721A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３．１ 産業上の利用分野
この発明は、アルミニウム（以下、八ｌという。）又は
Ａ１合金の陽極酸化処理により生成される酸化皮膜のボ
ア中に強磁性体を析出充填させてなる垂直磁気記録媒体
に関するものであり、とくに、ハードディスクに使用さ
れる垂直磁気記録媒体に係るものである。
Ａ１合金の陽極酸化処理により生成される酸化皮膜のボ
ア中に強磁性体を析出充填させてなる垂直磁気記録媒体
に関するものであり、とくに、ハードディスクに使用さ
れる垂直磁気記録媒体に係るものである。
３．２ 解決すべき課題
この種のＩ直磁気記録媒体を磁気ディスクに使用する場
合、その基板としてＡ１合金を用いるときは、その合金
に含まれる全局間化合物や非金属介在物などの不純物に
より、陽極酸化処理時はボアの径、長軸方向及び分子ｌ
ｉ率などについて均一な磁性膜が得られないとともに、
磁性体析出処理後の研磨時に皮膜欠陥が生じて記録エラ
ーが生じたり、使用時に磁気ヘッドのクラッシュを起し
たりする難点があるのに対して、基板として純Ａｊ！を
使用する場合は、ＡＪ！合金の上記難点が排除され、記
憶の高密度化が可能であり、磁気ヘッドに対して平滑な
表面が得られる利点を有するなどの点を、この出願人は
特願昭５９−３６５９４号明細書において明らかにした
。
合、その基板としてＡ１合金を用いるときは、その合金
に含まれる全局間化合物や非金属介在物などの不純物に
より、陽極酸化処理時はボアの径、長軸方向及び分子ｌ
ｉ率などについて均一な磁性膜が得られないとともに、
磁性体析出処理後の研磨時に皮膜欠陥が生じて記録エラ
ーが生じたり、使用時に磁気ヘッドのクラッシュを起し
たりする難点があるのに対して、基板として純Ａｊ！を
使用する場合は、ＡＪ！合金の上記難点が排除され、記
憶の高密度化が可能であり、磁気ヘッドに対して平滑な
表面が得られる利点を有するなどの点を、この出願人は
特願昭５９−３６５９４号明細書において明らかにした
。
この発明者は、この種の垂直磁気記録媒体が所要の記録
再生特性、とくに、オーバーライド特性（記録・消去の
反復可能性）を備えるための条件を探求する目的で、各
種のアルマイト垂直磁気記録媒体を試作して、記録再生
特性の測定を行なった。
再生特性、とくに、オーバーライド特性（記録・消去の
反復可能性）を備えるための条件を探求する目的で、各
種のアルマイト垂直磁気記録媒体を試作して、記録再生
特性の測定を行なった。
磁気記録媒体の評価項目の一つであるオーバーライド特
性は、−３０ｄＢ以上であることが必要であるが、第１
図に前記測定の結果を示すように、保磁力）−１ｃが４
００ （Ｏｅ ）以上で一３０ｄＢの条件を満すには、
膜厚は３μ雇以上、多数のボア中に充填された強磁性体
からなる磁性層の厚さは、波長１．５μｍ程度の高密度
記録をさせる場合は、約２μｍ以下（０，５〜２μｍ）
が望ましいことが判明した。
性は、−３０ｄＢ以上であることが必要であるが、第１
図に前記測定の結果を示すように、保磁力）−１ｃが４
００ （Ｏｅ ）以上で一３０ｄＢの条件を満すには、
膜厚は３μ雇以上、多数のボア中に充填された強磁性体
からなる磁性層の厚さは、波長１．５μｍ程度の高密度
記録をさせる場合は、約２μｍ以下（０，５〜２μｍ）
が望ましいことが判明した。
ところで、酸化皮膜自体の硬度はＨＶ３００以上はある
が、膜厚が２μ肌程度になると、基板に使用されている
純Ａｌの硬度はトＩＶ８０程度と小さいため、記録媒体
の機械的強度が問題になる。すなわち、その磁気記録媒
体の記録面上を磁気ヘッドが走行するときに、ゴミやほ
こりを巻き込んだときの衝撃力を酸化皮膜のみで持ちこ
たえることができなくなって、純Ａ１基板素地又は下地
のＡＪ！合金を変形させることとなり、記録エラーの原
因となったり、記録媒体及び磁気ヘッドの耐久性を著し
く低下させる原因となったりする。
が、膜厚が２μ肌程度になると、基板に使用されている
純Ａｌの硬度はトＩＶ８０程度と小さいため、記録媒体
の機械的強度が問題になる。すなわち、その磁気記録媒
体の記録面上を磁気ヘッドが走行するときに、ゴミやほ
こりを巻き込んだときの衝撃力を酸化皮膜のみで持ちこ
たえることができなくなって、純Ａ１基板素地又は下地
のＡＪ！合金を変形させることとなり、記録エラーの原
因となったり、記録媒体及び磁気ヘッドの耐久性を著し
く低下させる原因となったりする。
最近、巷間に発表された高密度薄膜ディスク用新合金（
Ａ１地金、添加成分及び製造条件を制御して金属間化合
物を微細化したもの）を基板として使用するものも同様
な問題がある。
Ａ１地金、添加成分及び製造条件を制御して金属間化合
物を微細化したもの）を基板として使用するものも同様
な問題がある。
一方、Ａ１の酸化皮膜は、ＷＡ厚が大きいほど硬度が大
きいことが知られている。そこで、この発明者は、酸化
皮膜の膜厚と硬度の関係を試験して、Ｉｌｌ！Ａｊ！又
は下地合金の硬度に影響されることなく、皮膜のみで実
用上支障のない硬度が得られる膜厚を探求した結果、第
２図に示すように、膜厚が少なくとも３μｍ以上におい
て所要の耐久性が得られ、６μｍ以上の範囲においては
、硬度がほぼＨＶ３５０で安定して、好ましいことが判
明した。なお、この硬度試験に用いた荷重は２５ｇ「で
ある。
きいことが知られている。そこで、この発明者は、酸化
皮膜の膜厚と硬度の関係を試験して、Ｉｌｌ！Ａｊ！又
は下地合金の硬度に影響されることなく、皮膜のみで実
用上支障のない硬度が得られる膜厚を探求した結果、第
２図に示すように、膜厚が少なくとも３μｍ以上におい
て所要の耐久性が得られ、６μｍ以上の範囲においては
、硬度がほぼＨＶ３５０で安定して、好ましいことが判
明した。なお、この硬度試験に用いた荷重は２５ｇ「で
ある。
こうして、−面において、所要のオーバーライド特性を
確保するには、磁性層の厚さは約２μｍ以下であること
が必要であるが、反面において、磁気ヘッド走行時の′
Ｗｉ撃力に対する強度。
確保するには、磁性層の厚さは約２μｍ以下であること
が必要であるが、反面において、磁気ヘッド走行時の′
Ｗｉ撃力に対する強度。
耐久性を有するためには、膜厚が６μｍ以上であること
が必要であるという、相矛盾する要求を満足させなけれ
ばならないという問題に当面する。
が必要であるという、相矛盾する要求を満足させなけれ
ばならないという問題に当面する。
３．３ この発明の目的
この発明は、上記の点に鑑み、磁気記録媒体の所要の礪
械的強度を備えるため膜厚を大きくしたまま、しかも所
要のオーバーライド特性を備えるため磁性層厚さを薄く
することができるようにして、記録再生特性及び耐久性
の双方が向上された垂直磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
械的強度を備えるため膜厚を大きくしたまま、しかも所
要のオーバーライド特性を備えるため磁性層厚さを薄く
することができるようにして、記録再生特性及び耐久性
の双方が向上された垂直磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
この発明は、上記の目的を達成するため、原理的には、
第３図に模写的に示すように、陽極酸化皮膜１の膜厚を
厚くしたまま、磁性層の厚さを薄くするために、皮膜の
ボア２の底部に、まず、導電性の非磁性体３を充填し、
その後にその上に強磁性体４を充填させたものである。
第３図に模写的に示すように、陽極酸化皮膜１の膜厚を
厚くしたまま、磁性層の厚さを薄くするために、皮膜の
ボア２の底部に、まず、導電性の非磁性体３を充填し、
その後にその上に強磁性体４を充填させたものである。
第３図において、１ａはポーラス層、１ｂはバリア暦、
５は基板である。
５は基板である。
ここで、酸化皮膜を厚くする目的は、磁気ヘッドと記録
面の間に進入することがあるゴミや埃などによる衝撃力
に対する機械的強度を増大することにある。この観点に
おいて、低浴温、高電圧で八１を陽極酸化処理して得ら
れる硬質皮膜は、機械強度及び耐摩耗性にとくに優れて
いることが知られている。従って、この発明においても
、この硬質皮膜を使用することがとくに有効である。
面の間に進入することがあるゴミや埃などによる衝撃力
に対する機械的強度を増大することにある。この観点に
おいて、低浴温、高電圧で八１を陽極酸化処理して得ら
れる硬質皮膜は、機械強度及び耐摩耗性にとくに優れて
いることが知られている。従って、この発明においても
、この硬質皮膜を使用することがとくに有効である。
３．４ この発明の実施例
実施例１
通常の方法によってＡ１合金の基板に膜厚６μｍの標準
陽極酸化皮膜を生成し、これに対して浸漬処理を行なっ
て、前記皮膜に形成されたボアの径を拡大した後、非磁
性体の一例として３ｎを溶解させたＴｉ電解浴使用した
電解処理によりそのボアの底部に厚さ２μｍの３ｎを析
出させた。さらに、その後、ｌ”ｅを含む電解浴により
前記ボアの残余部分にＦｅを析出させた後、皮膜の表面
を研磨し、皮膜全体の厚さを４μｍとした。表面に固体
潤滑材５ＩＯｚを５０ＯＡスパツタし、液体潤滑材とし
てデュポン社の商品［クライトツクス１４３ＡＣＪを三
井フロロケミカル社の商品「フレオンＴＦＪで０．５重
量％に希釈し、スピンコードした。こうして得られたデ
ィスクに対して、Ｍｎ −Ｚｎ−Ｆｅ合金のテーパーフ
ラット磁気ヘッドを使用して、荷重１０ｇ［で、Ｃ８Ｓ
（コンタクト・スタート・ストップ）試験を行なった
。その結果、３万回以上の耐久性を有することが確認さ
れた。
陽極酸化皮膜を生成し、これに対して浸漬処理を行なっ
て、前記皮膜に形成されたボアの径を拡大した後、非磁
性体の一例として３ｎを溶解させたＴｉ電解浴使用した
電解処理によりそのボアの底部に厚さ２μｍの３ｎを析
出させた。さらに、その後、ｌ”ｅを含む電解浴により
前記ボアの残余部分にＦｅを析出させた後、皮膜の表面
を研磨し、皮膜全体の厚さを４μｍとした。表面に固体
潤滑材５ＩＯｚを５０ＯＡスパツタし、液体潤滑材とし
てデュポン社の商品［クライトツクス１４３ＡＣＪを三
井フロロケミカル社の商品「フレオンＴＦＪで０．５重
量％に希釈し、スピンコードした。こうして得られたデ
ィスクに対して、Ｍｎ −Ｚｎ−Ｆｅ合金のテーパーフ
ラット磁気ヘッドを使用して、荷重１０ｇ［で、Ｃ８Ｓ
（コンタクト・スタート・ストップ）試験を行なった
。その結果、３万回以上の耐久性を有することが確認さ
れた。
実施例２
実施例１のＡ１合金に代えて、純△ｌを使用し、その他
は実施例１と同一の条件で試験したところ、同様に３万
回以上の耐久性が確認された。
は実施例１と同一の条件で試験したところ、同様に３万
回以上の耐久性が確認された。
実施例３
実施例１の３ｎに代えてＣｕを用い、その他は実施例１
と同一の条件で試験したところ、同様な結果が得られた
。
と同一の条件で試験したところ、同様な結果が得られた
。
実施例４
実施例１と同様に、６μｍの皮膜のボアの底部に２μｍ
の３ｎを析出させた後、Ｆｅをオーバーフローするまで
析出させ、この後、膜厚が３μｍになるまで研磨してか
ら、実施例１の場合と同様に保護用潤滑膜を生成し、同
様な方法によりＣ８Ｓ試脹を行なったところ、２万回で
磁気ヘッドクラッシュを起した。
の３ｎを析出させた後、Ｆｅをオーバーフローするまで
析出させ、この後、膜厚が３μｍになるまで研磨してか
ら、実施例１の場合と同様に保護用潤滑膜を生成し、同
様な方法によりＣ８Ｓ試脹を行なったところ、２万回で
磁気ヘッドクラッシュを起した。
実施例５
以上は、標準酸化皮膜を使用した場合の例であるが、こ
の実施例は、１０〜１５％のＨ２ＳＯ４、液ｍ−５〜Ｏ
” Ｃ，ｌｆｆ４０〜５０Ｖｒ硬質陽極酸化処理を行な
って無数のボアを有する６μｍの硬質皮膜を生成し、以
後、実施例１の場合と同様にボア径拡大処理、非磁性体
の析出処理、強磁性体の析出処理を行ない、潤滑材の充
填処理後に、表面研磨を行ない、Ｃ８Ｓ試験を行なった
ところ、標準皮膜の５〜１０倍以上の高い耐久性が確認
された。
の実施例は、１０〜１５％のＨ２ＳＯ４、液ｍ−５〜Ｏ
” Ｃ，ｌｆｆ４０〜５０Ｖｒ硬質陽極酸化処理を行な
って無数のボアを有する６μｍの硬質皮膜を生成し、以
後、実施例１の場合と同様にボア径拡大処理、非磁性体
の析出処理、強磁性体の析出処理を行ない、潤滑材の充
填処理後に、表面研磨を行ない、Ｃ８Ｓ試験を行なった
ところ、標準皮膜の５〜１０倍以上の高い耐久性が確認
された。
実施例に
の実施例も、硬質皮膜を生成する例でおり、実施例５の
ＨｚＳＯｔの代りに、ＨｇＳＯ４とシュウ酸の５対１の
割合による混酸を使用し、液）易−５〜Ｏ″Ｃ，電圧５
０Ｖで硬質陽＃ｆＡ酸化処理を行ない、以下、実施例５
と同一条件により処理を行ない、得られたディスクに対
して同様なＣ８Ｓ試験を行なった。実施例５と同様な結
果が得られた。
ＨｚＳＯｔの代りに、ＨｇＳＯ４とシュウ酸の５対１の
割合による混酸を使用し、液）易−５〜Ｏ″Ｃ，電圧５
０Ｖで硬質陽＃ｆＡ酸化処理を行ない、以下、実施例５
と同一条件により処理を行ない、得られたディスクに対
して同様なＣ８Ｓ試験を行なった。実施例５と同様な結
果が得られた。
実施例７
シュウ酸とＨｚ ＳＯａの割合が１０対１の混酸を使用
して、液温−５〜０゛Ｃ，電圧６０Ｖの条件で硬質層ｉ
ｇ化処理を行ない、厚さ６μｍの硬質皮膜を得、以下、
実施例５と同様に実施し、Ｃ８Ｓ試験を行なったところ
、実施例５゜６と同様な結果が確認された。
して、液温−５〜０゛Ｃ，電圧６０Ｖの条件で硬質層ｉ
ｇ化処理を行ない、厚さ６μｍの硬質皮膜を得、以下、
実施例５と同様に実施し、Ｃ８Ｓ試験を行なったところ
、実施例５゜６と同様な結果が確認された。
３．５ この発明の効果
以上のように、この発明者は、特願昭５８−１３８６８
６号明ｌｌｌ５に開示されたように、磁性層の垂直方向
保磁力）−１ｃは、膜面に対して垂直な磁化容易方向を
維持するため、約３００〜１０００Ｑ ｅの範囲にある
必要がある点、オーバーライド特性は一３０ｄＢ以上で
あることが必要である点を考慮して各種試験を行なった
結果、磁性層の各種の厚さとオーバーライド特性と保磁
力との相互関係を示す第１図から明白なように、磁性層
の厚さは、はぼ２μｍ以下であることが必要であること
究明した。
６号明ｌｌｌ５に開示されたように、磁性層の垂直方向
保磁力）−１ｃは、膜面に対して垂直な磁化容易方向を
維持するため、約３００〜１０００Ｑ ｅの範囲にある
必要がある点、オーバーライド特性は一３０ｄＢ以上で
あることが必要である点を考慮して各種試験を行なった
結果、磁性層の各種の厚さとオーバーライド特性と保磁
力との相互関係を示す第１図から明白なように、磁性層
の厚さは、はぼ２μｍ以下であることが必要であること
究明した。
また、実用に供しうる程度のＣ８Ｓ回数を示す強度をデ
ィスクに備えるには、膜厚は少なくとも３μｒＩＬ以上
、望ましくは、６μｍ以上であることが必要である。従
って、ボア中に充填される非磁性体の厚さは、皮膜全体
の厚さの約３０％以上を占めるものであることが必要で
ある。
ィスクに備えるには、膜厚は少なくとも３μｒＩＬ以上
、望ましくは、６μｍ以上であることが必要である。従
って、ボア中に充填される非磁性体の厚さは、皮膜全体
の厚さの約３０％以上を占めるものであることが必要で
ある。
この発明による磁気記録媒体は、上記のように、皮膜の
所要の機械的強度を有するに足る厚さをもって生成され
、そのボア中にその底部より所定の厚みまで非磁性体を
充填し、その後に強磁性体を充填させてなるものである
から、優れた記録再生特性を有し、かつ、ディスクに使
用した場合に、磁気ヘッドの走行に対して秀でた耐久性
を有する。
所要の機械的強度を有するに足る厚さをもって生成され
、そのボア中にその底部より所定の厚みまで非磁性体を
充填し、その後に強磁性体を充填させてなるものである
から、優れた記録再生特性を有し、かつ、ディスクに使
用した場合に、磁気ヘッドの走行に対して秀でた耐久性
を有する。
第１図は磁性層及び保磁力との関係におけるオーバーラ
イド特性を示すグラフ、第２図は膜厚−硬度特性を示す
グラフ、第３図はこの発明による垂直磁気記録媒体の要
部の拡大模写図、第４図は膜厚と耐久性の関係を示すグ
ラフである。 １・・・陽極酸化皮膜 １ａ・・・ポーラス層 １ｂ・・・バリア層 ２・・・ボア ３・・・非磁性体 ４・・・強磁性体 ５・・・基板 特許出願人 高 橋 俊 部 区 憾 矢−゛く呵膣４＃襲； 区 ｑ 城
イド特性を示すグラフ、第２図は膜厚−硬度特性を示す
グラフ、第３図はこの発明による垂直磁気記録媒体の要
部の拡大模写図、第４図は膜厚と耐久性の関係を示すグ
ラフである。 １・・・陽極酸化皮膜 １ａ・・・ポーラス層 １ｂ・・・バリア層 ２・・・ボア ３・・・非磁性体 ４・・・強磁性体 ５・・・基板 特許出願人 高 橋 俊 部 区 憾 矢−゛く呵膣４＃襲； 区 ｑ 城
Claims (4)
- （１）アルミニウム又はその合金の陽極酸化皮膜に生成
される微細孔（以下、ボアという。）中に強磁性体を析
出充填させてなる垂直磁気記録媒体において、 （イ）前記陽極酸化皮膜を所要の機械的強度を有するに
足る厚さに生成させ、 （ロ）その皮膜のボア中にその底部より所定の厚みまで
非磁性体を充填し、次いで強磁 性体を充填させたことを特徴とする垂直磁 気記録媒体。 - （２）陽極酸化皮膜の厚さが約６μｍ以上であり、ボア
に充填されている強磁性体の厚さが約２μｍ以下である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の垂直磁
気記録媒体。 - （３）陽極酸化皮膜が硬質皮膜であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の垂直磁気記録媒体。 - （４）非磁性体がＳｎ、Ｃｕなどの導電体であって、ボ
ア中に析出可能な金属又は合金であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16319984A JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16319984A JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JPH0245243B2 JPH0245243B2 (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=15769158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16319984A Expired - Lifetime JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0245243B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070712A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法、磁気記録媒体に用いられる磁気媒体基板、並びに磁気記憶装置 |
| WO2004084193A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、磁気記録装置及び磁気記録方法 |
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620318U (ja) * | 1992-02-08 | 1994-03-15 | 光洋電機株式会社 | 物品収納装置 |
-
1984
- 1984-08-02 JP JP16319984A patent/JPH0245243B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004070712A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法、磁気記録媒体に用いられる磁気媒体基板、並びに磁気記憶装置 |
| US7112377B2 (en) | 2003-02-06 | 2006-09-26 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, magnetic medium substrate employed in the magnetic recording medium, and magnetic storage unit |
| WO2004084193A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、磁気記録装置及び磁気記録方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0245243B2 (ja) | 1990-10-08 |
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