JPS6143585Y2 - - Google Patents

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JPS6143585Y2
JPS6143585Y2 JP7144885U JP7144885U JPS6143585Y2 JP S6143585 Y2 JPS6143585 Y2 JP S6143585Y2 JP 7144885 U JP7144885 U JP 7144885U JP 7144885 U JP7144885 U JP 7144885U JP S6143585 Y2 JPS6143585 Y2 JP S6143585Y2
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cleaning
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、プラスチツクパレツトに付着・溜積
した異物や塵埃を低圧水噴射洗浄装置と高圧水噴
射洗浄装置により除去し、その後にパレツト各部
の溜滴・残水をエアーブロワーなどの水滴強制除
去手段により脱水させてプラスチツクパレツトを
洗浄・脱水するパレツト洗浄処理装置に関する。
従来の技術 一般に、被洗浄物を洗浄する場合には一定の行
程が必要である。即ち、予備洗浄・本洗浄及び濯
ぎ洗浄即ち仕上洗浄の3行程の組合せにより洗浄
処理が行なわれており、被洗浄物の汚れ程度によ
りこれら洗浄工程をどのようににするか及び洗浄
処理時間をどのように設定するかが、洗浄効果の
面から重要な点である。
また、ノズルを設けた洗浄室のハウジング内を
通つてコンベヤベルトが設置され、移動する前記
コンベヤベルト上で研削機内で研磨及び研削され
たセラミツク永久磁石素材から成る物体の研削屑
が前記ノズルから噴射する高圧の洗浄水により洗
浄された後、圧擦空気フアンにより洗浄された物
体の水分を吹き乾かす研削屑除去装置が特公昭49
−33862号公報として知られているが、このもの
は洗浄室が一つであり、回転しない物体に前記ノ
ズルより高圧の洗浄水を噴射して洗浄するために
本洗浄のみで多量の洗浄水を必要とし、洗浄水を
循環させて使用することができなかつた。
さらに、高圧水と低圧水とを順次噴出する洗浄
装置が特公昭47−51864号公報として知られてい
るが、このものは、洗浄室内に多数入れられた食
器を洗浄するものであつて、食器の形は小型で
様々な形状をしているため、被洗浄物の形状に合
わせて洗浄水の噴出用ノズルを摺動させるもので
なく、洗浄水の圧力を変えることで十分洗浄でき
るが、大型で方形のパレツトを洗浄するには、単
に噴出する洗浄水の水圧を変えただけでは効率の
良い十分な洗浄ができなかつた。
考案が解決すべき問題点 本考案の目的は、洗浄室でパレツトを回転さ
せ、低圧水噴射洗浄装置によりパレツトの予備洗
浄及び本洗浄を行ない、高圧水噴射洗浄装置によ
りパレツトの本洗浄及び濯ぎ洗浄を行なうことが
でき、低圧水噴射洗浄では洗浄水を循環させて使
用することが可能で、多量の洗浄水を必要とせ
ず、高圧水噴射洗浄ではそれぞれのノズル自体が
回転する複数個のノズルをパレツト半径方向に摺
動させてノズルから噴出する洗浄水による洗浄力
を高めると共に洗浄領域を広範囲に広げることが
可能なパレツト洗浄処理装置を提供することであ
る。
実施例 以下、本考案の実施例を図面を参照して詳述す
る。
図面に於いて、本考案によるパレツト洗浄処理
装置が番号1で全体的に示されている。パレツト
洗浄処理装置1はハウジング2を有し、ハウジン
グ2内は低圧水洗浄室3、高圧水洗浄室4及び脱
水即ち水切室5に区画されている。更に、ハウジ
ング2にはそれを貫通するパレツト搬送チエーン
コンベヤ6が配置されている。低圧水洗浄室3と
高圧水洗浄室4には共通のパレツト回転支持台1
4が設けられ、水切室5にはパレツト回転支持台
15が設けられている。パレツト回転支持台1
4,15は、パレツト29が載置されるように構
成され、且つパレツト回転装置10,11の回転
軸34,35に取付けた回転板36,37によつ
て挾着回転される。なお、この回転装置は、上記
回転板の代りにマニユプレター等に応用されてい
るフインガー型の保持具でパレツトのリブを保持
するような方法でもよい。
パレツト回転支持台14,15はパレツト29
を搬送する時にパレツト搬送チエーンコンベヤ6
より下方に位置しており、パレツト29の洗浄の
時及び水切の時に突上装置8,9によつて回転位
置まで上昇させられる。低圧水洗浄室3には低圧
水噴射洗浄装置30が設けられており、高圧水洗
浄室4には60Kg/m2の高圧水噴射洗浄装置28が
設けられている。第2図に示すように、低圧水噴
射洗浄装置30は低圧水供給パイプ16を有し、
低圧水供給パイプ16にはデツキ洗浄用ノズル1
7、ボトムデツキ洗浄用レズル17′及び側面洗
浄用ノズル18が取付けられている。これらノズ
ル17,17′及び18から噴射された洗浄水
は、水溜め33を介して図示しない循環装置によ
り循環させて使用できるように構成されている
(図示省略)。
第3図に示すように、高圧水噴射洗浄装置28
は高圧水供給パイプ19を有し、高圧水供給パイ
プ19にはデツキ洗浄用ノズル20、ボトムデツ
キ洗浄用レズル20′及び側面洗浄用ノズル21
が取付けられている。これらのノズル20,2
0′,21は5本(図示参照)が設けられてお
り、洗浄領域を広範囲に拡げて洗浄効果を上げる
ためにノズル自体を回転式機構にする。更に、パ
レツトは方形のため、これが回転した場合、パレ
ツト中心から外方への半径が変化し(半径は対角
線方向が一番大きく中心方向が一番小さくな
る)、対角線方向の半径の調整されたノズルアー
ム長さが固定的であると対辺方向の半径の時はパ
レツト面に当たらない噴射ノズルがあり、効率的
ではない。このため高圧水噴射洗浄装置28はパ
レツト回転支持台14に対し、パレツト29の半
径方向長さに合せて高圧水ノズル移動装置22
(図面では概略的に示す)によつて摺動させるよ
うになしている。洗浄室3,4のパレツト供給口
とパレツト排出口にはそれぞれ2重のシヤツタ1
2,32が設けられている。また、洗浄室3,4
には霧排出ダクト13が設けられてい。水切室5
には上方と下方にエアノズル23,23′が設け
られており、エアノズル23,23′は水切用ブ
ロアー7にエアダクト24,24′を通じて連絡
されている。水切室5のシヤツタ32とエアノズ
ル23,23′の間に振動水切装置38が設けら
れる。この振動水切装置38は固定板39に揺動
自在のアーム40を枢着し、このアーム40の揺
動によつてパレツト29を搬送チエーンコンベヤ
6より上昇させると共に傾斜させ、さらに元位置
にアーム40を復帰させることによつてパレツト
29に振動を与え、パレツト29に付着した大水
滴を除去するようになつている。水切室5は、そ
の出口にシヤツタ31を有しており、エアノズル
23,23′により飛散された水分を集めて排出
するため排出口27を有する。
図中、番号25はパレツト供給ストツクであ
り、パレツト29はここから1つずつ間欠的にパ
レツト洗浄処理装置1に送り込まれる。番号26
はパレツト積重装置であり、ここに洗浄処理され
たパレツトは積重ねられる。
41は搬送ストレージである。
次に、作動について説明する。パレツト供給ス
トツク25から矢印aの方向にパレツト29が1
つずつ間欠的にパレツト洗浄処理装置1に送り込
まれる。パレツト29はパレツト搬送チエーンコ
ンベヤ6によつて、洗浄室のパレツト回転支持台
14の上方まで送られる。それから、突上装置8
によつてパレツト29は洗浄位置まで上昇させら
れる(図示の位置)。その位置でパレツト29は
パレツト回転支持台14とパレツト回転装置10
の回転板36で挾着され、パレツト回転装置10
によつて回転させられ、続いて低圧水噴射洗浄装
置30が作動され、低圧水供給パイプ16からの
低圧水はデツキ洗浄用ノズル17、ボトムデツキ
洗浄用ノズル17′及び側面洗浄用ノズル18を
通じてパレツト29に対して噴射され、パレツト
29の予備洗浄が行なわれる。この場合に洗浄水
は水溜め33に溜り、さらに、循環装置により循
環させて使用できるように構成されている(図示
省略)。所定の予備洗浄が終つた後に、本洗浄に
移る。この本洗浄では低圧水噴射洗浄装置30は
作動したままにし、更に高圧水噴射洗浄装置28
を作動する。ここで、高圧水供給パイプ19を通
る高圧水はデツキ洗浄用ノズル20、ボトムデツ
キ洗浄用ノズル20′及び側面洗浄用ノズル21
を通じてパレツト29に対して噴射され、パレツ
ト29の本洗浄が行なわれる。
この高圧水用のノズル20,20′は回転式機
構に構成されており、しかも方形のパレツトが回
転によつて、半径方向距離が変つても効率よく高
圧水をパレツトに当てるようにパレツト29の半
径方向の変化に対して高圧水ノズル移動装置22
によつて摺動させることができる。
ノズル20,20′を回転及び摺動させて所定
の本洗浄を終つた後に低圧水噴射洗浄装置30の
作動を停止する。引続いて、高圧水噴射洗浄装置
28のみを作動させ、濯ぎ洗浄即ち仕上洗浄を行
なう。この高圧水噴射洗浄装置28で使用する洗
浄水は常に新しいものを使用し、循環させない。
所定の濯ぎ洗浄が終つた時に、高圧水噴射洗浄装
置28を停止させ、パレツト回転装置10を停止
させる。それから、突上装置8によつてパレツト
回転支持台14を降下させ、パレツト29をパレ
ツト搬送チエーンコンベヤ6上に載せ、パレツト
29を水切室5に送り込む。ここで、パレツト2
9はパレツト回転支持台15に支持されて突上装
置9により水切位置まで上昇させられる。そこ
で、パレツト29は回転板37とパレツト回転支
持台15とで挾着され、パレツト回転装置11に
よつて回転させられ、更に、水切用ブロアー7が
作動されて、エアダクト24,24′を通じてエ
アノズル23,23′からパレツト29に対して
エアが吹き付けられる。これによりパレツト各部
に生じている溜水、残水は、パレツト回転による
遠心力及びエアの吹き付けにより水滴が十分に飛
散され除去されて、取除かれる。
なお、水切用ブロアー工程に入る途中に図のよ
うなリフト装置による振動水切装置を設け、これ
でパレツトを上下することによつて、大水滴を除
去するか、特別なリフト装置を設置しなくてもブ
ロアー工程に使用される突上装置によつて上昇せ
られたパレツトを突上装置を急に降下させること
により一担、元の位置に落下させることによつて
軽い衝撃を与え、大まかな水滴を前もつて取り除
くようにすれば、ブロアーによる水切りは一層効
率よく行なわれる。
所定の水切処理が終つた後に、水切用エアブロ
アー7及びパレツト回転装置11の作動を停止し
て、突上装置9を降下させてパレツト29をパレ
ツト搬送チエーンコンベヤ6に載せ、パレツト2
9をパレツト積重装置26へと送出し、さらに搬
送ストレージに移送する。なお、水切室5と積重
装置26の間にパレツト両面を加熱乾燥する補助
乾燥装置を設けることもできる。
考案の効果 本考案は以上の構成であるから、プラスチツク
パレツトに付着・溜積された異物・塵埃及び昆虫
類生殖・繁殖によるコンタミ(汚染)要因を完全
に除去することができ、パレツトの清潔性・衛生
管理を向上させることができる。また、パレツト
洗浄処理装置は、その構造上よりスペースがきわ
めて小さくてすみ、経済的メリツトも大である。
低圧水噴射洗浄ではパレツト各部に溜積付着する
取り易い異物、汚れは完全に除去することがで
き、洗浄水も循環させて使用できるので、多量の
水を必要としない。高圧水噴射洗浄ではパレツト
各部に付着した取り難い異物、汚れを少量の高圧
水で破壊・剥離させることができ、従つてそれら
を完全に除去することができ、しかも、パレツト
回転装置とノズル移動装置によつてパレツトを回
転しながら、そかもそれ自体がそれぞれ回転する
ノズルをパレツト半径方向に摺動させてノズルの
空噴射を無くしながら洗浄するので、パレツトに
当る洗浄水の角度が様々に変り、噴出圧力も高圧
と低圧に変ることと相俟つて洗浄力が高まると共
に、方形のパレツトの形状に応じて無駄なく洗浄
領域を広範囲に拡げることができ、効率的な洗浄
を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図A,Bは本考案によるパレツト洗浄処理
装置の正断面図、第2図及び第3図は同上の要部
の側面図である。 1……パレツト洗浄処理装置、2……ハウジン
グ、3,4……洗浄室、5……水切室、6……パ
レツト搬送チエーンコンベヤ、10,11……パ
レツト回転装置、17,20……デツキ洗浄用ノ
ズル、17′,20′……ボトムデツキ洗浄用ノズ
ル、18,21……側面洗浄用ノズル、23……
エアノズル、28……高圧水噴射洗浄装置、29
……パレツト、30……低圧水噴射装置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 ハウジングと、前記ハウジング内を通つて設
    置せられたパレツト搬送手段と、前記ハウジン
    グ内に設けられた洗浄室及び水切室と、前記洗
    浄室及び前記水切室にそれぞれ設けられたパレ
    ツトを回転させるためのパレツト回転装置と、
    前記洗浄室に設けられた低圧水噴射洗浄装置及
    び高圧水噴射洗浄装置と、前記水切室に設けら
    れたエアノズルとから成り、前記高圧水噴射洗
    浄装置の洗浄用ノズルはそれぞれのノズル自体
    が回転する複数個のノズルから成り、かつ前記
    パレツト回転装置により回転するパレツトの半
    径方向に摺動でき、前記低圧水噴射洗浄装置で
    使用される洗浄水は循還させられる循環装置を
    有することを特徴とするパレツト洗浄処理装
    置。 2 前記高圧水噴射洗浄装置及び前記低圧水噴射
    洗浄装置はそれぞれデツキ洗浄用ノズル、ボト
    ムデツキ洗浄用レズル及び側面洗浄用ノズルか
    ら成る実用新案登録請求の範囲第1項記載のパ
    レツト洗浄処理装置。 3 前記低圧水噴射洗浄装置は予備洗浄と本洗浄
    において作動され、前記高圧水噴射洗浄装置は
    本洗浄と濯ぎ洗浄において作動される制御装置
    を有する実用新案登録請求の範囲第1項又は2
    項記載のパレツト洗浄処理装置。
JP7144885U 1985-05-16 1985-05-16 パレツト洗浄処理装置 Granted JPS61888U (ja)

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JP7144885U JPS61888U (ja) 1985-05-16 1985-05-16 パレツト洗浄処理装置

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JP7144885U JPS61888U (ja) 1985-05-16 1985-05-16 パレツト洗浄処理装置

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JPS61888U JPS61888U (ja) 1986-01-07
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JP7144885U Granted JPS61888U (ja) 1985-05-16 1985-05-16 パレツト洗浄処理装置

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009072758A (ja) * 2007-04-09 2009-04-09 Oiwa Machinery Corp 食品運搬薄型容器の洗浄方法及び洗浄装置
JP7012357B2 (ja) * 2018-04-11 2022-01-28 株式会社ショウワ パレット洗浄システム
JP7658302B2 (ja) * 2022-03-01 2025-04-08 株式会社ダイフク パレット洗浄乾燥機、パレット洗浄乾燥方法

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JPS61888U (ja) 1986-01-07

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