JPS6143772B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般に２進データ情報記録システムに
係り、特に、集束されたレーザビームからのエネ
ルギに応答するデータ記録媒体に係る。

データ処理産業は、２進コード化された数字及
び文字データを高速度で処理しそしてこの様なデ
ータを高密度且つ低コストで記憶するためのコン
ピユータシステム並びにそれに関連した周辺機器
を提供するという点で急速な進歩を遂げた。大会
社及び政府の各部署では、事務処理や会計情報等
の処理能率を向上させるために自動データ収集、
記憶及び処理という点でデータ処理装置に対する
依存度が次第に増して来ている。高速度で作動す
る２進論理素子やゲートを高密度で含む大規模集
積（LSI）回路を作り出した半導体技術の改良に
よつて主としてコンピユータの作動速度が高めら
れている。メモリ密度の実質的な増加も達成され
ている。半導体メモリの分野では、メモリセル素
子のサイズを縮少できる様にしたLSI技術の改良
並びに磁気バブルドメインメモリの様な新しい
LSI技術の出現の両方によつてピツト密度の増加
が達せられている。磁気メモリの分野では、磁気
記録媒体並びにそれに関連した読み取り及び書き
込みヘツドの改良によつてハードデイスクシステ
ム及びフレキシブルデイスクシステムの密度の改
善が達成されている。

半導体及び磁気メモリシステムの密度は実質的
に増加したが、この様な記録媒体の１ビツト当た
りのコスト及びエンコード化に要するコストは、
この様な技術を用いて大量の一般的な事務記録、
例えばコレスポンテンス、報告書、申込書、公式
文書、等々、をルーチン作業として記憶するのに
妥当なものではない。現在作業中の文書のフアイ
ル、並びに長期間機密保持しなければならない選
択された保存文書の保管及び管理の大部分は依然
として手作業であり、人件費や保管場所のコスト
は次第に高まりつゝある。

コンピユータデータ処理装置並びにフアクシミ
リ文書走査、印字装置の両方と容易に一体化でき
る様な高密度２進データ記憶装置を作るために近
年ではデジタルレーザ記録技術が開発されてい
る。この技術では、非常に圧縮したフオーマツト
で像データを実時間で光学的に記録しそして記録
された像データへ迅速にオプトエレクトロニツク
アクセスとすることができ、従つてコンピユータ
をベースとした文書記憶、検索並びに全記録管理
システムのための基本的な構成を与えることがで
きる。この技術の核心はレーザビーム書き込み及
び読み取りシステムであり、これは高度に集束さ
れ変調されたレーザビームで薄膜記録媒体を横切
つて走査する時にこの記録媒体に作られた小さな
穴の有無で２進デジタル情報を記憶することがで
きる。

レーザ像記録の基本的な原理がBecker氏の米
国特許第3474457号に開示されている。Becker氏
等の米国特許第3654624号並びにMcFarland氏等
の米国特許第3657707号には、プラスチツク物質
（例えばマイラー）の可撓性ストリツプと、その
上のエネルギ吸収物質の層とで構成されたレーザ
記録媒体を支持する回転ドラムを用いたレーザ記
録システムが開示されている。このレーザ記録媒
体はBecker氏等の米国特許第3665483号に詳細に
説明されている。然し乍ら、回筒ドラムを用いた
り或いはその他記録媒体を機械的に走査したりす
る場合には、データの記録及び検索中に記録媒体
の走査速度が限定され、従つて人為的にやむおえ
ずシステム全体のデータ書き込み及び読み取り速
度が、利用できるレーザビームエネルギ及び記録
媒体感度により指定された速度よりも実質的に低
いものにされる。それに加えて、可撓性の記録媒
体を使用する場合には、データトラツクとレーザ
ビーム路との間で再現可能に達成できる整列の精
度が限定され、それに応じて、やむおえずシステ
ムのデータビツト密度が、システムの光学系によ
り指定された最小のセルサイズより実質的に低い
ものにされる。更に、可撓性の記録媒体はダスト
粒子による汚れを非常に受け勝ちであり、これは
データの書き込み及び／又は読み取りのエラーを
生じさせることがあり、従つてシステム内のダス
トの無い区画において記録媒体の特殊な取り扱い
及び保管を必要とすることになる。従つて、レー
ザビーム記録技術によつて本来得ることのできる
書き込み／読み取り速度及びビツト密度を充分に
利用し且つ又記録媒体の保管及び取り扱い条件を
簡単化する様なシステムを提供するためには、記
録媒体を横切つてレーザビームで走査する別の解
決策並びに記録媒体自体の別の構造が要望される
ことは明らかである。

Becker氏等の米国特許第4001840号には、２つ
の直交軸において回転可能なミラー組立体を用い
てレーザビームを２つの方向に偏向し、堅固なガ
ラス基体に形成された記録層にデータを書き込む
様なレーザ記録システムが開示されている。この
ミラーによるビーム偏向システムでは、迅速なビ
ーム走査を得ることができ、且つ記録層を支持し
ている堅固なガラス基体により記録媒体と走査レ
ーザビームとの整列が更に正確で且つ再現可能な
ものにされ得る。然し乍ら、ガラス基体上に直接
記録物質の層を用いて作られたレーザ記録媒体の
感度は、前記プラスチツク基体上に形成された記
録層より成る対応レーザ記録媒体よりも実質的に
低いことが分つた。更に、金属記録層とガラス基
体との親和力により、記録層にあけられる穴の形
状及び寸法にむらができることがある。従つてガ
ラス基体を使用した場合には、レーザ記録システ
ムの全体的な感度を維持し且つエラー発生率の少
ない迅速な書き込み速度を得るためには、もつと
複雑な記録媒体を形成することが必要である。

1978年10月10日に出願されたKaczoro−wski及
びShen氏の特許出願第950066号には、ガラス基
体と記録物質の層との間に溶媒をベースとした一
般のプラスチツク物質の層を用いて、感度及び穴
形成特性を実質的に改善した記録媒体を形成する
ことが開示されている。更にこの特許出願には、
薄い記録層の上に付加的な保護物質の層を使用す
ることも開示されている。基体と記録層との中間
のプラスチツク物質の層に、記録層上の保護被覆
を結合することによる効果については当業者に一
般的に認められている。然し乍ら、保護層として
プラスチツクを用いることが示唆されているが、
実際には当業者は典型的に二酸化シリコンの様な
無機物質を保護被覆に使用している。というの
は、中間層として用いる様に前記で示唆された溶
媒をベースとした一般のプラスチツク物質は、溶
媒をベースとした同じ又は同様のプラスチツク物
質の保護層を溶媒として付与する様に試みた時
に、溶解されるか又は侵食されてレーザ記録物質
の薄い層へ容易に入り込むからである。

Forster氏及びM.Ockers氏の特許出願において
は、レーザ記録媒体の保護被膜として蒸着プラス
チツク層を用いることが開示されている。この特
許出願においては、記録媒体の記録層の上に保護
プラスチツク層を蒸着する方法によつて、基体と
記録層との間の中間層の侵食が排除される。とい
うのは、蒸着プロセスには溶媒が存在しないから
である。従つて記録層と基体との間の中間層は溶
媒をベースとしたプラスチツク物質でよい。或い
は又、Forster及びOckers氏は基体と記録層との
間の中間層としてプラスチツク物質の蒸着層を用
いることを開示している。Forster及びOckers氏
の解決策は、記録層が２つのプラスチツク層の間
に包囲された記録媒体を与えるが、記録媒体に用
いられるパリレン層を形成するために特殊な蒸着
装置を使用することが必要である。

本発明によるレーザ記録媒体は基体と、この基
体上に形成されたプラスチツク物質の第１層と、
このプラスチツク物質の第１層上に形成された光
学エネルギ吸収物質の層（即ち、記録層）と、保
護層を与えるためにこの記録層上に形成されたプ
ラスチツク物質の第２層とを具備し、上記第１層
のプラスチツク物質は実質的に耐溶媒性のもので
あり、そして上記第２層のプラスチツク物質は溶
媒をベースとしたプラスチツク物質である。本発
明の更に別の要旨によれば、基体上に形成された
第１層のプラスチツク物質は、活性ポリマより成
る種類の物質の１つ或いはそれ以上の成分を、ク
ロスリンク有機モイエテイより成る種類の物質の
１つ或いはそれ以上の成分と反応させることによ
つて生成されたクロスリンクされたポリマ性物質
である。上記クロスリンクされたポリマ性物質を
生成する反応は、該物質の生成を迅速にするため
に、高温において或る選択された触媒の存在する
中で行なわれるのが好ましい。或いは又、或る選
択された触媒の存在する中でクロスリンク有機モ
イエテイの或る成分を一緒に反応させて自己凝縮
性クロスリンクポリマを生成してもよい。適当な
選択により、中間層として働くに必要な全ての特
性を有する耐溶媒性のプラスチツク層が形成され
る。

本発明の別の要旨によれば、第１層のプラスチ
ツク物質は、高温の反応性モノマ蒸気がポリマ性
被覆として基体上に凝縮される様な蒸着プロセス
で形成されたポリマ性物質である。この様にして
形成されたポリマ性物質はパリレン物質を含んで
もよい。

先ず初め、基体上に耐溶媒性のプラスチツク物
質の層を形成し、次いでこの耐溶媒性の中間層の
上に薄い記録層を形成し、そして溶媒をベースと
した一般のプラスチツク物質の層でこの記録層を
素早く被覆して、劣化が生じない様にこの記録層
を密封することによつて（さもなくば摩滅や、雰
囲気と反応して金属酸化物を生成することや、或
いは周囲からの汚染等によつて劣化が生じること
がある）、多層のレーザ記録媒体を容易に完成す
ることができる。従つて、本発明によれば、レー
ザ記録媒体を形成するプロセス中のあまり厳密で
ない時間に耐溶媒性の被膜が基体上に形成され、
従つてその上に形成された記録層の最終的な保護
は、溶媒をベースとしたプラスチツク層によつて
簡単且つ素早く与えることができる。

本発明の他の特徴及び効果は添付図面を参照し
た以下の詳細な説明より明らかとなろう。

第１図は典型的なレーザビーム記録システムに
用いられる装置を示している。この型式のレーザ
記録システムは現在では一般に知られており、
こゝでは詳細に説明しない。レーザ記録の原理並
びにこれら原理を用いた例示装置の詳細な説明に
ついては前記したBecker氏の米国特許第3474457
号並びにBecker氏等の米国特許第4001840号を参
照されたい。一般に、レーザビーム記録にはレー
ザ１０の使用が含まれ、その出力はビーム変調器
２０へ接続され、この変調器は入力信号手段５０
によつて駆動されて変調されたレーザビーム出力
を発生する。２進データ書き込みモードにおいて
は、入力信号手段は２進デジツトの流れを送り、
変調器はレーザビームの２進振巾変調を作り出
す。集束及び走査装置３０は変調されたレーザビ
ームを受け、それを記録媒体４０上の非常に小さ
なスポツトに集束し、そして記録媒体４０を横切
つて所定のパターンで走査する。変調されたレー
ザビームがレーザ記録媒体４０の記録層の種々の
セル位置に逐次に当たるにつれて、この変調され
たレーザビームはもしこれがその時オンであれば
そこに非常に小さな穴（直径0.5−1.0ミクロン）
を焼き、或いはこれがオフであれば記録層をその
まゝの状態に残す。“焼く”という語は、一般的
な意味で焼くというよりもむしろ記録層が実際上
溶融又は気化されて穴を作る場合であつても記録
層における穴形成を説明する語として公知技術で
典型的に用いられているものである。従つて、変
調器２０への２進データ入力は、記録媒体４０に
おいてこの記録媒体の各セル位置に穴があるかな
いかで表わされる。記録媒体４０へ書き込まれた
ビツトパターンは、変調されないレーザビームで
記録媒体を再び走査しそして各セル位置で反射さ
れる光の量に関して各セル位置に穴があるかない
かを検出することによりレーザで読み取ることが
できる。

前記で一般的に述べた様に、レーザ型のデータ
記録装置は、本来、１平方インチ当たり約10⁹ビ
ツトという非常に高い密度で２進データを記録す
ることができる。前記した様に、この本来の技術
的性能に近いビツト密度をレーザ記録システムで
得ることができる様にする装置を提供するために
は、レーザ記録システム及び特にレーザ記録媒体
のあらゆる観点に厳しい要求が課せられる。デー
タは高度に集束されたレーザビームによつて記録
層に焼き込まれる小さな穴の有無の形態で記録さ
れるので、長期間に亘り低いエラー発生率でデー
タの書き込み及び読み取りを達成でき且つ利用す
ることのできる最終的なビツト密度を決定する場
合には、記録プロセス中及びその後の長期間に亘
るレーザ記録媒体の全体的な安定性及び耐久性が
重要である。後で破棄される文書から像レーザを
記憶保存するためにレーザ記録システムを用いる
場合にはこの安定性及び耐久性が特に重要であ
る。

レーザ記録システムにおいて走査レーザビーム
と正確に且つ再現可能に整列できる記録媒体を提
供するためには、大規模集積回路の製造に用いら
れる非常に正確なホトマスクを形成する際に半導
体工業で一般に使用されている型式の薄いガラス
スライドの様な寸法の安定した非可撓性基体を記
録媒体に用いることが必要である。この様なガラ
ススライドは記録媒体の基板を形成し、従つてこ
の記録媒体は寸法安定性が優れ、そしてレーザビ
ームの走査路に対して記録媒体を再現可能に位置
設定する全データスライド処理システムに容易に
結合することができる。更に、記録媒体に対して
全体的な長期間安定性及び耐久性を与える様に、
レーザビームの波長の光学エネルギに感じる記録
物質層をガラス基体上に形成することが必要であ
る。

第２図は本発明によるレーザ記録媒体の構造を
示しており、このレーザ記録媒体は透明な基体４
１を具備し、その上には、プラスチツク物質の第
１層４２、記録層４３及びプラスチツク物質の第
２層４４が形成される。透明基体４１はガラスス
ライドであるのが好ましい。便宜上、このガラス
スライドは約４インチ（10cm）平方であり且つ60
ミル（1.5mm）の厚みである。ガラス基体４１の
１方の表面にはプラスチツク物質の第１層４２が
形成される。レーザビームはガラス基体４１及び
中間層４２を経て記録層４３に入射するのが好ま
しい。というのは、露出した基体面に堆積するこ
とのあるダスト粒子により、記録層４３にデータ
を書き込んだりそこからデータを読み取つたりす
る間に、焦点ずれが生じるからである。本発明に
よれば、この第１層４２の物質は実質的に耐溶媒
性であることを特徴とする。この特徴はクロスリ
ンクされたポリマ性物質を用いることによつて得
られ、このポリマ性物質は溶媒をベースとしたプ
ラスチツク物質を用いて生成されるが、この層の
最終物質を構成するポリマのクロスリンクにより
実質的な耐溶媒性を達成する。

或いは又、耐溶媒性のプラスチツク層４２は、
大きな耐溶媒性を有するパリレン（parylene）の
様なポリマ物質を用いて作ることもでき、高温の
反応性モノマ蒸気がポリマ性被覆として基体４１
上に凝縮される様な蒸着プロセスにおいて形成さ
れる。この凝縮されたポリマ性被覆は、ガラス基
体４１の１方の面に適当なマスキング技術を用い
た場合にはガラス基体の他方の面のみに任意選択
的に形成することもできるし、或いは基体４１の
全面に形成することもできる。この耐溶媒性プラ
スチツク層４２を形成するのに用いられるプロセ
スに基づいて、このプラスチツク層は0.05ミクロ
ンないし10ミクロンのレンジの厚みに形成され
る。パリレンの蒸着プロセスを用いればこのレン
ジ内のどの厚みでも容易に得ることができる。初
めに溶媒に溶かされたプラスチツク物質を伴なう
被覆形成プロセスを用いた時には、0.5ないし約
２ミクロンのレンジの厚みが容易に達成される。

耐溶媒性プラスチツク物質の中間層４２の光学
特性及び他の特性は、基体及び中間層の両方を通
して送られたレーザビームによつて記録層が焼か
れる様なシステムに使用されるレーザ記録媒体に
適したものである。光学的に非常に透明な中間層
が作られる。耐溶媒性の物質は1.3ないし1.7のレ
ンジの屈折率を有し、従つてガラス基体の屈折率
に対して充分密接に調和し、レーザビームの反射
を最小にする。又、これらの物質はガラス基体よ
りも熱伝導率が非常に小さく、レーザ記録媒体を
レーザビームエネルギに対して感度の高いものに
する。又、これらの物質はガラス基体に良く接着
し且つ金属の記録層にも良く接着し、安定した記
録媒体を形成する。

データ記録層４３としては多数の既知の物質を
用いることができる。好ましくは、記録層４３は
比較的融点の低い金属例えばビスマス又はテルル
で形成される。入射するレーザエネルギに対して
感度を高くするためには記録層４３は約50ないし
200Åの厚みに形成されるのが好ましい。

プラスチツク物質の層４４は、記録媒体４０が
用いられる周囲環境に存在する化学成分又は他の
物質による汚染や摩滅から記録層４３を保護する
という主たる機能を果たす。中間層４２は耐溶媒
性のプラスチツク物質で形成されるので、保護層
４４は、アクリル、ポリスチレン、ポリウレタ
ン、ポリエチレン、エポキシ、セルロースアセテ
ート物質又はその混合体を含む一般のプラスチツ
クをトルエン、ケトン、又は芳香族炭化水素の如
き溶媒中に溶解したものを用いた溶媒−プラスチ
ツクの被覆プロセスにおいて形成することができ
る。溶媒自体は薄い記録層に悪影響を及ぼすこと
がなく、そして中間層４２の耐溶媒性により、記
録層４３と中間層４２との結合及び中間層４２と
基体４１との結合の完全性が維持される。記録層
４３に対して充分な保護を与えるため、保護層４
４は少なくとも0.5ミクロンの厚みに形成される
のが好ましい。

一般に、中間層４２として働くクロスリンクさ
れたポリマ性物質の生成は、活性の水酸基、カル
ポキシル基又は水素（アミド）基を有するポリマ
性物質を１つ或いはそれ以上選択して、触媒の存
在する中で高温においてこの様な活性基に対して
凝縮する有機モイエテイと反応させ、クロスリン
ク作用の速度を速めることを含む。或いは又、有
機モイエテイの或る成分を或る触媒と共に反応さ
せて、自己凝縮ポリマを生成することもできる。
用いることのできる活性ポリマの幾つはの一般的
な例は、セルロースエステル、ポリビニルアセタ
ール、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセ
テート及びアルキド樹脂である。クロスリンクモ
イエテイの幾つかの例はメラミン樹脂、イソシア
ネート、酸無水物及びホルムアルデヒド樹脂であ
る。有用な触媒は多数の酸、塩基及び有機金属を
含む。

以下に特定例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明の範囲はそれに限定されるものではな
い。

例 １ 次の様な成分を有するプラスチツクで透明ガラ
ススライドに被覆を形成した。

成 分 重量部 ポリエステル4900（デユポン） ５ 塩化メチレン 86.75 流れ制御剤 0.16 メチルオキシトール 7.8 イソシアネートプレポリマ（RC803−デユポン）
0.25 この成分で被覆形成したガラススライドを150
℃の温度で４時間ベーキングし、ポリエステル樹
脂及びイソシアネートプレポリマのクロスリンク
を形成した、それにより約0.5ミクロンの厚みの
透明プラスチツク被覆ができ、これはガラススラ
イドに対して優れた接着性を有し且つ耐溶媒性も
良好であつた。この被覆層にセロハンテープを貼
りそしてガラス基体に対して直角にそれを引き離
すことによつて接着性を試験した。被覆の表面に
メチルエチルケトンを落としそしてMEKを有す
る布でこの表面をこすることによつて耐溶媒性を
試験した。その後、約200Å厚みのテルルの層を
真空蒸着によつて上記クロスリンクされたプラス
チツク層に付着した。次いで、次の様な成分を用
いてポリマ性物質の保護被覆を上記テルルの記録
層に付着した。

成 分 重量部 セルロースアセテートブチレート 7.5 （CAB381−20−イーストマンケミカルズ） メチルエチルケトン 89.5 流れ制御剤 0.06 メチルオキシトール 2.94 この保護被覆を110℃の温度で約15分間ベーキ
ングした。その後、この３層構造体を試験したと
ころ、上記クロスリンクされたポリマ層の溶解は
生じず且つ一体的に包囲された金属の記録層が形
成されたことが示された。

例 ２ 次の様な成分を有するプラスチツクで透明ガラ
ススライドに被覆を形成した。

成 分 重量部 脱油性のポリエステルアルキド樹脂 58 （Aroplaz6755−Al−80アシユランドケミカル
ズ） メチルエチルケトン 274 ヘクサメトキシメチルメラミン 22.5 （CYMEL303−アメリカンサイアナミド） 流れ制御剤 0.6 セルロースアセテートブチレート 1.6 （CAB551−0.2−イーストマンケミカルズ） メチルオキシトール 235 Ｐ−トルエンスルホン酸（触媒として） 0.7 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） イソプロパノール 15.4 上記成分を有するプラスチツク被覆を150℃の
温度で15分間ベーキングし、クロスリンクされた
メラミン−ポリエステルフイルムを形成した。こ
のプラスチツクフイルムは接着性及び耐溶媒性が
優れた光学的に透明な被覆であつた。この被覆の
厚みは約0.5ミクロンであつた。

次の工程で、記録層として働くテルルの薄い層
を付着した。これは約200Å厚みの薄いフイルム
を真空蒸着することにより行なわれた。その後、
前記例１で述べたものと同じ保護被覆を付着し
た。それにより出来た構造体は金属の記録層が一
体的に包囲されたものであり、その保護被覆の形
成中に中間層に損傷は生じなかつた。

例 ３ 次の様な成分を有するプラスチツク物質で透明
なガラススライドに被覆を形成した。

成 分 重量部 ヘキサメトキシメチルメラミン 17 （CYMEL303−アメリカンサイアナミド） メチルエチルケトン 423 流れ制御剤 0.34 Ｐ−トルエンスルホン酸（触媒として） 0.8 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） メチルオキシトール 16.7 イソプロパノール 17.2 セルロースアセテートブリレート 25 （CAB381−0.5−イーストマンケミカルズ） この成分を有するプラスチツク被覆を150℃で
15分間ベーキングし、構成物質のクロスリンクを
形成した。それにより出来た透明な被覆は接着性
が優れ且つ耐溶媒性が良好であつた。被覆の厚み
は約0.5ミクロンであつた。

その後、テルルの記録層の真空蒸着プロセスで
約200Åの厚みに蒸着し、そして前記例１で述べ
た保護被覆を付着した。それにより、一体的に包
囲された金属の記録層が形成され、保護被覆の付
着によつて中間被覆は影響を受けなかつた。

例 ４ 次の様な成分を有するプラスチツク物質で透明
ガラススライドに被覆を形成した。

成 分 重量部 脱油性のポリエステルアルキド樹脂 49.2 （Aroplaz6755−Al−80−アシユランドケミカル
ズ） メチルエチルケトン 232.6 ヘキサメトキシメチルメラミン 19.2 （CYMEL303−アシユランドケミカルズ） 流れ制御剤 0.5 セルロースアセテートブチレート 1.4 （CAB551−0.2−イーストマンケミカルズ） メチル オキシトール 199.4 イソプロパノール 13.1 キシレン 105 Ｐ−トルエンスルホン酸（触媒として） 0.6 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） この成分を有するプラスチツク被覆を150℃で
15分間ベーキングし、プラスチツク成分のクロス
リンクを形成した。標準的な試験をしたところ、
接着性及び耐溶媒性が優れ光学的に透明な被覆が
得られた。このプラスチツク層の厚みは約0.5ミ
クロンであつた。

その後、約200Å厚みのテルルの層を真空蒸着
プロセスで中間プラスチツク被覆上に蒸着した。
その後、次の様な成分のプラスチツク物質をテル
ルの層上に付着することによつて第２の層を形成
した。

成 分 重量部 ヘキサメトキシメチルメラミン 8.5 （CYMEL303−アメリカンサイアナミド） メチルエチルケトン 423 流れ制御剤 0.17 セルロースアセテートブチレート 12.5 （CAB381−0.5−イーストマンケミカルズ） メチル オキシトール 0.8 イソプロパノール 8.6 Ｐ−トルエンスルホン酸（触媒として） 0.4 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） この第２のプラスチツク被覆を150℃の温度で
15分間ベーキングし、プラスチツク成分のクロス
リンクを形成した。それにより、テルルの層にも
その下のプラスチツク層にも障害を及ぼすことな
くテルルの記録層の上に保護層が形成された。

その後、この第２のプラスチツク層の上にアル
ミニウムの層を真空蒸着により約750Åの厚みに
蒸着した。最後に、前記例１の保護層成分を用い
てこのアルミニウムフイルムの上にポリマ性物質
の保護被覆を付着した。

この例により形成されたレーザ記録媒体はテル
ルの層を記録層として用いており、アルミニウム
層は薄いテルルの層を通して送られたレーザビー
ムエネルギの反射層として働く。それにより出来
たレーザ記録媒体は成分層の耐久性及び安定性が
優れていることを特徴とする。

例 ５ 次の様な成分を有するプラスチツク物質で透明
ガラススライドに被覆を形成した。

成 分 重量部 ポリビニルブチラール 11.2 （BUTVAR Ｂ−73−モンサント） メチルオキシトール 924 ヘキサメトキシメチルメラミン 7.4 （CYMEL303−アメリカンサイアナミド） 流れ制御剤 0.14 イソプロパノール 10.7 Ｐ−トルエンスルホン酸 0.49 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） この成分を有するプラスチツク被覆を150℃で
15分間ベーキングして成分プラスチツク物質のク
ロスリンクを形成した。接着性及び耐溶媒性が優
れ光学的に透明な被覆が形成された。この中間層
を用い且つ前記例で述べた更に別の工程のいずれ
かを用いて完全な記録媒体を形成することができ
る。

例 ６ この例では、次の様な成分のプラスチツク物質
で透明ガラススライドに被覆を形成することによ
り、触媒反応された１つの成分プラスチツク層を
形成した。

成 分 重量部 ヘキサメトキシメチルメラミン 25 （CYMEL303−アメリカンサイアナミド） メチルエチルケトン 200 流れ制御剤 0.2 メチルオキシトール 9.8 イソプロパノール 14.3 Ｐ−トルエンスルホン酸（触媒として） 0.7 （CYCAT4040−アメリカンサイアナミド） この成分を有する被覆を150℃の温度で15分間
ベーキングし、プラスチツク物質の自己凝縮型ク
ロスリンクを形成した。その結果、接着性及び耐
溶媒性の優れた光学的に透明な被覆が形成され
た。前記した例１ないし４のいずれかの場合と同
様にしてレーザ記録媒体を完成することができ
る。

例 ７ 透明なガラススライドの両面に約10ミクロンの
厚みにパリレンＣの層を付着した。その後、この
パリレン層上にテルルの層を約200Åの厚みに真
空蒸着した。次いで、次の様な成分を有するプラ
スチツク物質の保護被覆を付着した。

成 分 重量部 セルロースアセテートブチレート 7.5 （CAB381−20−イーストマンケミカルズ） メチルエチルケトン 89.5 流れ制御剤 0.06 メチルオキシトール 2.94 この被覆を110℃の温度で約15分間ベーキング
した。この様にして形成された保護層の厚みは約
２ミクロンであつた。溶媒をベースとした保護被
覆は記録層にもパリレンの中間層にも損傷を与え
ず、従つて一体的に包囲された記録層が形成され
た。

上記例の各々において、流れ制御剤はL4500、
L5310及びL6202という商標で市販されているユ
ニオンカーバイドシリコーンの１つである。前記
した種々の例をもつと別のやり方で組合せしたり
入れ換えたりしても同じ又は同様の結果を得るこ
とができることは当業者に明らかであろう。

本発明の構造は、耐溶媒性物質の次々の層を用
いそして溶媒をベースとした最後の物質を記録媒
体上の保護被覆として用いることにより１つ或い
はそれ以上の付加的な記録層を含む更に複雑なレ
ーザ記録媒体を形成する様に適用できることが当
業者に明らかであろう。更に、本発明は、第２図
に示された保護層４４の上に形成された反射層
（図示せず）を含む記録媒体構造であつて、記録
層４３を通して送られた光学エネルギがその記録
層へ反射されて戻されるのを最大にしてレーザビ
ームエネルギに対する記録媒体の感度を更に高め
る様に保護層の厚みをその上に形成される反射層
の光学特性に関して選択する様な記録媒体構造に
も容易に適用できる。前記した例４は、この様な
反射層を有し且つこのアルミニウム反射層を完全
に包囲する様にこの反射層の上に形成された最終
保護被覆を含む様な記録媒体構造を備えたもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるレーザ記録媒体を用いた
レーザ記録装置を示すブロツク図、そして、第２
図は本発明によるレーザ記録媒体の構造を示す部
分断面図である。 １０……レーザ、２０……ビーム変調器、３０
……集束及び走査装置、４０……記録媒体、５０
……入力信号手段、４１……透明基体、４２……
プラスチツク物質の第１層、４３……記録層、４
４……プラスチツク物質の第２層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基体と、この基体上に形成されたプラスチツ
   ク物質の第１層と、このプラスチツク物質の第１
   層上に形成された光学エネルギ吸収物質の層と、
   保護被覆を与えるためこの光学エネルギ吸収物質
   の層上に形成されたプラスチツク物質の第２層と
   を具備するレーザ記録媒体において、上記第１層
   の上記プラスチツク物質は実質的に耐溶媒性のも
   のであり、且つ上記第２層の上記プラスチツク物
   質は溶媒をベースとしたプラスチツク物質である
   ことを特徴とするレーザ記録媒体。