JPS6144896A - アミノメチルホスホネ−ト化合物の製造法 - Google Patents

アミノメチルホスホネ−ト化合物の製造法

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JPS6144896A
JPS6144896A JP16744484A JP16744484A JPS6144896A JP S6144896 A JPS6144896 A JP S6144896A JP 16744484 A JP16744484 A JP 16744484A JP 16744484 A JP16744484 A JP 16744484A JP S6144896 A JPS6144896 A JP S6144896A
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JP
Japan
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formaldehyde
parts
compound
aminomethylphosphonate
alcohol
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Pending
Application number
JP16744484A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Kuno
久野 純一
Yoshitsugu Ishizuka
石塚 義次
Yuji Baba
裕二 馬場
Satoshi Nakagawa
敏 中川
Nobuo Anraku
安楽 信男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は合成樹脂の改良に適したリン化合物の製造法に
関するものである。
詳しくは、合成樹脂、特にフェノール樹脂、エボ苓シ樹
脚、ウレタン樹脂、の諸物性、特に耐燃性についての改
良に適したアミノメチルホスホネート化合物の製造法に
関するものである。
〔従来の技術〕
これまで行なわれてきた合成樹脂の耐燃化紘、テトラプ
四ムビスフェノールA、)リクレジルホスフエート、)
リフェニルホスフェート、リン酸アンモン等のハロゲン
あるいはりン化合物を添加する方法によっていたが、充
分な耐燃性を得るに杜、その添加量が増加し機械的強度
、電気特性の低下、層間接着力、打抜加工性の低下等、
賭物性、加工性の低下はさけられなかったO これらを改良するものとして、ジエチル−N。
N−ビス(2−ヒトルキシエチル)アミノメチルホスホ
ネートを添加反応させる方法(特開昭56−49722
号公報)があるが、この化合物とフェノール類、アルデ
ヒド類との反応性は低く、根本的な解決には至っていな
い。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、フェノール類やアルデヒド類と実質的に反応
するリン化合物、具体的には2ヶ以上の−NH基を含有
するアミノメチルホスホネート化合物の製造に関するも
ので、これを使用することによ)、上述した問題点は一
挙に解決する。゛たとえばフェノール類、アルデヒド類
を主成分としてフェノール樹脂を得るに際して、本発明
で得られる2ヶ以上の−NH基を含有するアミノメチル
ホスホネート化合物を添加、反応させれば、物理的性質
、加工性の優れた耐燃性フェノール樹脂を得ることが出
来る。
一方、エポキシ樹脂の耐燃化についても、本発明の化合
物は有用である。すなわち、エポキシ基と反応性の高い
−NH基を2ヶ以上含有しているリン化合物であるため
、離燃層の硬化剤として使用出来る。
また、ウレタン樹脂用の反応型の離燃剤としても特に有
用で、従来の離燃剤と比較し、耐加水分解性である、高
反応性である、よル多官能化され、リン含量が高い等が
その特長としてあげられる。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の構成の要件は下式(II)で示される1級アミ
ノ基を2つ含有するポリアミン1モルに対し、ホルムア
ルデヒドまたはその誘導体をホルムアルデヒド換算で1
.8〜2.2そル、下式(II)で示されるトリアルキ
ルホスファイトt−1,8〜2.2モル反応させ、約2
モルのアルコールを脱離させることを特徴とする下式(
II1で5示される、アミノメチルホスホネート化合物
を製造することにある。
R7( R1;炭素数1〜4のアルキル基で互に異っていても良
い R2;炭素数2〜6のアルキレン基 n ; 1〜6 一般式(II)で示されるリン化合物はこれまで、高純
度で収率よく経済的に得ることは不可能と考えられてい
九が、本発明者は上記式(υで表わされるポリアミンと
ホルムアルデヒドまたはその誘導体と、上記式(II)
で表わされるトリアルキルホスファイトを反応させ、副
生ずるアルコールを除去することによル極めて容易に、
製造可能であることを見出したのである。
反応式を下に示す。
(II) +2 HCHO+ 2 (II3H アルカノールアミン、アルデヒド類、アルキルホスファ
イトからアミノメチルホスホン酸エステルを得る方法に
ついては、特公昭39−19576号、特公昭44−6
805号各公報等があるが、ヒト四キシ基含有のリン化
合物を得ることを目的としておル、またアルカノールア
ミンもジアルカノールアミン(2級アミン)を使用して
お)本発明で使用する倚ノアルキルアミン(II級アミ
ン)の具体的な例示がされていない。
モノアルカノールアミン(II級アミン)の使用例とし
ては特公昭47−27496号公報があるが、ホスファ
イトとしてはジアルキルホスファイトを使用しておル、
後記する比較例で明らかなように、公知のいずれの方法
においても本発明の目的物である一NH基を2つ以上及
びアミンメチルホスホネート基を2つ含有するリン化合
物は得られない。
本発明で使用されるポリアミンとしては、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン、ペンタエチレンへキサミ
ン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が
あげられる。
ホルムアルデヒドの誘導体としては95%パラホルムア
ルデヒド、86%バラホルムアルデヒド等があげられる
トリアルキルホスファイトとしてはトリメチルホスファ
イト、トリエチルホスファイト、ジエチルイソプロピル
ホスファイト、トリブチルホスファイト等があげられる
ポリアミン:ホルムアルデヒド:トリアルキルホスファ
イトの使用モル比は実質的に1=2:2であ)、それぞ
れが他の原料に対し10〜程度の増減となっても、製造
上、使用上の支障を住じないが、たとえば前記モル比を
1:3:3とするとゲル化反応が進行するし、1:1:
1では未反応アミンが残シ、目的の反応が進行しない。
反応温度は生成物の色調劣化、反応熱除去の効率などか
ら40〜120Cが好ましい。
反応温度を下げるため、溶媒を使用する方が良く、溶媒
としては反応によシ脱離してくるアルコールと同じアル
コールを使用すれば、回収後の利用の面で有利となる。
脱離アルコール、および溶媒の除去、回収は常圧または
減圧下、40〜120Cで留去させるのが良い。
本発明で得られたアミノメチルホスホネート化合物を樹
脂に使用する場合の使用量は5〜40重量%とするのが
好ましい。
〔実施例〕
以下に実施例、比較例、使用例を示す。なお例中の部は
重量基準である。
アミノメチルホスホネート化合物の製造〔実施例−1〕 反応種にエチレンジアミン60部、溶媒としてエタノー
ル50部をとル、50〜(SOCに保ちながら、95%
パラホルムアルデヒド63.2部を添加、反応させた。
所要時間は30分であった。
次いで70〜80Cでトリエチルホスファイト332部
を1時間かかって送入し、さらに同温度で2時間かきま
ぜた。
常圧、次いで減圧下で揮発分を除去して得た生成物は淡
黄色の液体でその収量は358部(収率99.4%)で
あった。留分は123部であシ、ガスクロ分析の結果、
着干の水を含むエタノールであることがわかった。生成
物の分析値は表−1に記載した。また、この生成物のI
Rスペクトルを第1図に示した。
これらの結果から下式の化合物を得たことがわかる。
〔実施例−2〜−5〕 実施例−1と同様の方法でそれぞれ下式化合物を得た。
製造データー、分析結果を表−1にまとめた@実施例−
2 実施例−3 実施例−4 実施例−5 〔比較例−1〕 エチレンジアミン60部、溶媒トシてエタノール30部
、95%パラホルムアルデヒド65.2部、ジエチルホ
スファイト276部を実施例−1と同様に処理し、赤橙
色の粘ちょうな生成物302部を得た。生成物のIRチ
ャートには2400crn  付近に大きな吸収がみら
れ、目的の反応が進行しないことがわかった。
〔使用例−1〕 フェノール150部、57%ホルマリン156部、実施
例−1で得た、アミノメチルホスホネート化合物50部
、26%アンモニア6部を還流温度で1時間反応させた
減圧下で脱水を行なった後、メタノールで希釈、樹脂分
50%のワニスを得た。
このワニスを樹脂含量50%になるように0.25mの
クラフト紙に含浸させ、乾燥させた。
得られたグリブレグツ枚と銅箔1枚を積層し16001
00k)/iテ1時間加圧り、、厚す1.61111の
銅張積層板を得た〇 このものの試験結果を表−2に記載した◇〔使用例−2
〜5〕〔比較使用例1〕 固形分50%のフェノール樹脂ワニスに実施例2〜5で
得たアきツメチルホスホネート化合物、市販の添加型難
燃剤を所定量加え、メタノールで希釈固形分50%とし
た。
このワニスを使用し、使用例−1と同様の工程で銅張積
層板を得た。
アきツメチルホスホネート化合物、添加mll燃剤の配
合量、得られた積層板の試験結果を表−2に記載した。
エポキシ樹脂の製造 〔使用例−6,7,8〕[比較使用例−2,3〕市販の
ビスフェノール系液状エボ* シ樹脂(エポキシ当量1
90)に、メタキシレンジアミン、難燃剤、触媒を所定
量加え、室温で放置硬化させた。
各原料の配合比、硬化状態等を表−6に示した。
ウレタン樹脂の製造 〔使用例−9〕 実施例−1で得たアミノメチルホスホネート化合物40
部、水酸基価502〜KOH/ lのポリオキシプロピ
レンシュークローズ60部、トリクロロモノフロロメタ
ン21部、シリコン系整泡剤3.0部、アミン系触媒0
.6部を混合し、これ“t−A成分とした。ポリフェニ
レンポリメチレンポリイソシアネート140部をB成分
とした。
A成分とB成分を急速に混合し、オープンモールドに注
ぎ込み、反応、泡化させ、密度0.03817crt+
3の均−気mのウレタンフオームtiだ。
このものの燃焼テストの結果紘不燃であった。
〔比較使用例−4〕 実施例−1で得たアミノメチルホスホネート化合物に替
え、ジエチルビス(ヒドロキシエチル)アミノメチルホ
スホネート40部を使用した以外は使用例−9と同様の
熟理を行なった。
その結果は、反応泡化が遅く、得られたフオームもセル
荒れがみられた。また、燃焼テストは自己消火となった
〔発明の効果〕
本発明の効果はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂等の耐燃化に有用な化合物を提供したことにある
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例−1で得られた生成物のIRスペクトル
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下式( I )で示される1級アミノ基を2つ含有するポ
    リアミン1モルに対し、ホルムアルデヒドまたはその誘
    導体をホルムアルデヒド換算で1.8〜2.2モル、下
    式(II)で示されるトリアルキルホスファイトを1.8
    〜2.2モル反応させ約2モルのアルコールを脱離させ
    ることを特徴とする下式(III)で示されるアミノメチ
    ルホスホネート化合物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) R^1;炭素数1〜4のアルキル基で互に異っていても
    良い R^2;炭素数2〜6のアルキレン基 n;1〜6
JP16744484A 1984-08-10 1984-08-10 アミノメチルホスホネ−ト化合物の製造法 Pending JPS6144896A (ja)

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