JPS6145202B2 - - Google Patents
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- JPS6145202B2 JPS6145202B2 JP1721878A JP1721878A JPS6145202B2 JP S6145202 B2 JPS6145202 B2 JP S6145202B2 JP 1721878 A JP1721878 A JP 1721878A JP 1721878 A JP1721878 A JP 1721878A JP S6145202 B2 JPS6145202 B2 JP S6145202B2
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- Japan
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- layer
- refractive index
- film
- thickness
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- Expired
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
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- Optical Filters (AREA)
Description
本発明は適切な半値巾を有し、かつ簡単な膜構
成で製作の容易なダイクロイツク膜に関するもの
である。 ３色分解光学系の青反射ダイクロイツク膜には
通常高屈折率層Ｈと低屈折率層Ｌの膜厚比が３：
１（以下Ｈ：Ｌ＝３：１のように略記する）の交
互多層膜が多用されている。 第１図は、基本的な膜厚構成がＨ：Ｌ＝３：１
である青反射ダイクロイツク膜の一実施例の透過
率特性を示す図で、第１表の膜構成に示す如く基
板側より第１層目、第２層目及び最終層がリツプ
ル抑制の為に基本的な膜厚から変化している。こ
のＨ：Ｌ＝３：１を基本構成とする。
成で製作の容易なダイクロイツク膜に関するもの
である。 ３色分解光学系の青反射ダイクロイツク膜には
通常高屈折率層Ｈと低屈折率層Ｌの膜厚比が３：
１（以下Ｈ：Ｌ＝３：１のように略記する）の交
互多層膜が多用されている。 第１図は、基本的な膜厚構成がＨ：Ｌ＝３：１
である青反射ダイクロイツク膜の一実施例の透過
率特性を示す図で、第１表の膜構成に示す如く基
板側より第１層目、第２層目及び最終層がリツプ
ル抑制の為に基本的な膜厚から変化している。こ
のＨ：Ｌ＝３：１を基本構成とする。
【表】
【表】
【表】
ダイクロイツク膜は半値巾を充分取ることが出
来ない難点がある。ダイクロイツク膜の半値巾を
広げる目的で、Ｈ：Ｌ＝３：１構成と、Ｈ：Ｌ＝
１：１構成を混在させて半値巾を広げる方法が特
願昭52−71896（特開昭54−7359号公報）に示さ
れている。第２図はこの方法で半値巾を拡大した
青反射ダイクロイツク膜の一実施例の透過特性曲
線を示すものであり、その構成を第２表に示す。
この方法では、半値巾を拡大することは可能であ
るが、リツプル除去の為に、中間層にもリツプル
抑制用の膜厚を有する層を設ける必要があり、製
造上高等な技術を必要とする。 本発明は上記難点の除去を目的とするもので半
値巾が拡大され簡単な膜構成で且つ製造が容易な
ダイクロイツク膜を提供するものである。 本発明に係るダイクロイツク膜に於ては、高屈
折率層と低屈折率層の交互層より成るもので基準
波長をλ０とすると、高屈折率層の基本的膜厚を
λ0/4、低屈折率層の基本的膜厚を3/4λ０とする
ことにより、上記目的を達成するものである。 以下本発明について詳述する。 第３図は、高屈折率層の分散を考慮して、Ｈ：
Ｌ＝３：１構成とＨ：Ｌ＝１：３構成の透過率特
性を示す図で、点線はＨ：Ｌ＝３：１構成（第３
表）のものであり、実線はＨ：Ｌ＝１：３構成
（第４表）のものである。入射角が零の垂直入射
の場合、分散が無ければこれらの特性曲線は一致
するが、分散を考慮すると、第３図より明らかな
様に、本発明に係るＨ：Ｌ＝１：３の基本構成の
方が広い半値巾を有するものである。
来ない難点がある。ダイクロイツク膜の半値巾を
広げる目的で、Ｈ：Ｌ＝３：１構成と、Ｈ：Ｌ＝
１：１構成を混在させて半値巾を広げる方法が特
願昭52−71896（特開昭54−7359号公報）に示さ
れている。第２図はこの方法で半値巾を拡大した
青反射ダイクロイツク膜の一実施例の透過特性曲
線を示すものであり、その構成を第２表に示す。
この方法では、半値巾を拡大することは可能であ
るが、リツプル除去の為に、中間層にもリツプル
抑制用の膜厚を有する層を設ける必要があり、製
造上高等な技術を必要とする。 本発明は上記難点の除去を目的とするもので半
値巾が拡大され簡単な膜構成で且つ製造が容易な
ダイクロイツク膜を提供するものである。 本発明に係るダイクロイツク膜に於ては、高屈
折率層と低屈折率層の交互層より成るもので基準
波長をλ０とすると、高屈折率層の基本的膜厚を
λ0/4、低屈折率層の基本的膜厚を3/4λ０とする
ことにより、上記目的を達成するものである。 以下本発明について詳述する。 第３図は、高屈折率層の分散を考慮して、Ｈ：
Ｌ＝３：１構成とＨ：Ｌ＝１：３構成の透過率特
性を示す図で、点線はＨ：Ｌ＝３：１構成（第３
表）のものであり、実線はＨ：Ｌ＝１：３構成
（第４表）のものである。入射角が零の垂直入射
の場合、分散が無ければこれらの特性曲線は一致
するが、分散を考慮すると、第３図より明らかな
様に、本発明に係るＨ：Ｌ＝１：３の基本構成の
方が広い半値巾を有するものである。
【表】
【表】
【表】
これは高屈折率物質が一般に分散をもつ為に短
波長側でその屈折率が変化し、それに伴つて光学
的膜厚が波長により変化している為である。従つ
て半値巾を拡大する効果は、短波長側に反射帯域
を有する青反射ダイクロイツク膜に於て特に顕著
な効果を示すものである。 以上の如く、本発明は基準波長をλ０とすると
基板側から第１層目が高屈折率層で始まり、高屈
折率層の膜厚をλ0/4、低屈折率層の膜厚を3λ0/
４とする基本構成により、Ｈ：Ｌ＝３：１構成よ
りも半値巾を拡大し、かつ、Ｈ：Ｌ＝３：１，
１：１の混合膜構成より製作の容易なダイクロイ
ツク膜を構成するものである。 通常用いられている高屈折率蒸着物質は全て分
散を有しており、本発明に用いることができる。
例えば、高屈折率物質としてはZrO2，TiO2，
Ta2O5，CeO2，ZnS，ThO2およびこれらの混合
物、低屈折率物質としては、MgF2，SiO2，
ThF4，Na3AlF6およびこれらの混合物等を用い
ることができる。 第４図は本発明の一実施例で、高屈折率物質と
してCeO2、低屈折率物質としてMgF2を使用した
10層のダイクロイツク膜の透過率特性を示す図
で、その時の膜構成を第５表に示す。 第４図に示すＨ：Ｌ＝１：３構成では、基板側
の２層及び外側媒質側の２層、計４層を基本膜厚
からずらすことにより、容易にリツプルを抑制す
ることができる。第４図は、この方法でリツプル
抑制を行なつたものである。 第４図を第１図のＨ：Ｌ＝３：１構成の特性図
と比較すれば、半値巾は明らかに拡大されてお
り、また第２図のＨ：Ｌ＝３：１，１：１混合膜
と比較すれば、半値巾はほとんど同程度に拡大さ
れて、しかも、膜構成は単純化されて規則的であ
り、製作は従来のものとほとんど同程度に容易で
ある。
波長側でその屈折率が変化し、それに伴つて光学
的膜厚が波長により変化している為である。従つ
て半値巾を拡大する効果は、短波長側に反射帯域
を有する青反射ダイクロイツク膜に於て特に顕著
な効果を示すものである。 以上の如く、本発明は基準波長をλ０とすると
基板側から第１層目が高屈折率層で始まり、高屈
折率層の膜厚をλ0/4、低屈折率層の膜厚を3λ0/
４とする基本構成により、Ｈ：Ｌ＝３：１構成よ
りも半値巾を拡大し、かつ、Ｈ：Ｌ＝３：１，
１：１の混合膜構成より製作の容易なダイクロイ
ツク膜を構成するものである。 通常用いられている高屈折率蒸着物質は全て分
散を有しており、本発明に用いることができる。
例えば、高屈折率物質としてはZrO2，TiO2，
Ta2O5，CeO2，ZnS，ThO2およびこれらの混合
物、低屈折率物質としては、MgF2，SiO2，
ThF4，Na3AlF6およびこれらの混合物等を用い
ることができる。 第４図は本発明の一実施例で、高屈折率物質と
してCeO2、低屈折率物質としてMgF2を使用した
10層のダイクロイツク膜の透過率特性を示す図
で、その時の膜構成を第５表に示す。 第４図に示すＨ：Ｌ＝１：３構成では、基板側
の２層及び外側媒質側の２層、計４層を基本膜厚
からずらすことにより、容易にリツプルを抑制す
ることができる。第４図は、この方法でリツプル
抑制を行なつたものである。 第４図を第１図のＨ：Ｌ＝３：１構成の特性図
と比較すれば、半値巾は明らかに拡大されてお
り、また第２図のＨ：Ｌ＝３：１，１：１混合膜
と比較すれば、半値巾はほとんど同程度に拡大さ
れて、しかも、膜構成は単純化されて規則的であ
り、製作は従来のものとほとんど同程度に容易で
ある。
【表】
【表】
リツプル抑制膜は第５表に示した値には限らず
多少変化しても実用上さしつかえない領域が存在
する。例えば基板側から第１，２層目を考えれ
ば、第１層目が薄くなつた場合は第２層目を厚く
し、逆に第１層目が厚くなつた場合は第２層目を
薄くすることで、膜厚の変化の影響を少なくする
ことができる。 すなわち、基板側から１層目、２層目の膜厚の
和が３．１５／４λ０から３．８５／４λ０の間に存在
し、第１層 目の光学的膜厚が０．２５／４λ０から０．５／４λ０
の間に存 在するようになせば実用上問題のないリツプル抑
制が行なえる。 外側媒質側のリツプル抑制膜も同様で全層数を
ｎ層とすると、ｎ−１層目とｎ層目の膜厚の和が
４．４／４λ０から５．５／４λ０の間に存在し、第（
ｎ−１） 層目の膜厚が０．７／４λ０からλ０の間に存在するよ うになせばよい。第５図に、これ等膜厚の上限値
及び下限値に対応する実施例の透過率特性曲線
を、その時の膜構成を第６表に示す。 なお、本説明に掲げた特性例は全て、高屈折率
物質にCeO2、低屈折率物質にMgF2を用いたもの
で、屈折率はCeO2は分散式ｎ（λ）＝2.2＋
１１．１／λ−３６７で表わされ、MgF2はｎ＝1.38であ
る。 以上詳述したように、本発明に係るダイクロイ
ツク膜は高屈折率層と低屈折率層の交互多層膜か
ら成り基板から第１層目が高屈折率層で始まり、
高屈折率層の基本となるべき層の光学的膜厚はλ
０／４、低屈折率層の基本となるべき層の光学的膜
厚は3λ0/4とし、基板側の２層及び外部媒質側の
２層を基本膜厚からずらすことにより容易にリツ
プル抑制が行なえ、半値巾を拡大して、しかも構
成が単純で従来通り製作が容易であるという優れ
た効果をもつものである。
多少変化しても実用上さしつかえない領域が存在
する。例えば基板側から第１，２層目を考えれ
ば、第１層目が薄くなつた場合は第２層目を厚く
し、逆に第１層目が厚くなつた場合は第２層目を
薄くすることで、膜厚の変化の影響を少なくする
ことができる。 すなわち、基板側から１層目、２層目の膜厚の
和が３．１５／４λ０から３．８５／４λ０の間に存在
し、第１層 目の光学的膜厚が０．２５／４λ０から０．５／４λ０
の間に存 在するようになせば実用上問題のないリツプル抑
制が行なえる。 外側媒質側のリツプル抑制膜も同様で全層数を
ｎ層とすると、ｎ−１層目とｎ層目の膜厚の和が
４．４／４λ０から５．５／４λ０の間に存在し、第（
ｎ−１） 層目の膜厚が０．７／４λ０からλ０の間に存在するよ うになせばよい。第５図に、これ等膜厚の上限値
及び下限値に対応する実施例の透過率特性曲線
を、その時の膜構成を第６表に示す。 なお、本説明に掲げた特性例は全て、高屈折率
物質にCeO2、低屈折率物質にMgF2を用いたもの
で、屈折率はCeO2は分散式ｎ（λ）＝2.2＋
１１．１／λ−３６７で表わされ、MgF2はｎ＝1.38であ
る。 以上詳述したように、本発明に係るダイクロイ
ツク膜は高屈折率層と低屈折率層の交互多層膜か
ら成り基板から第１層目が高屈折率層で始まり、
高屈折率層の基本となるべき層の光学的膜厚はλ
０／４、低屈折率層の基本となるべき層の光学的膜
厚は3λ0/4とし、基板側の２層及び外部媒質側の
２層を基本膜厚からずらすことにより容易にリツ
プル抑制が行なえ、半値巾を拡大して、しかも構
成が単純で従来通り製作が容易であるという優れ
た効果をもつものである。
第１図は従来のＨ：Ｌ＝３：１構成の一実施例
の透過率特性図、第２図はＨ：Ｌ＝３：１，１：
１の混合膜の一実施例の透過率特性図、第３図は
本発明に係るＨ：Ｌ＝１：３構成の効果を説明す
る為の図、第４図及び第５図は本発明に係るダイ
クロイツク膜の実施例の透過率特性を示す図。 Ｔ……透過率、λ……波長。
の透過率特性図、第２図はＨ：Ｌ＝３：１，１：
１の混合膜の一実施例の透過率特性図、第３図は
本発明に係るＨ：Ｌ＝１：３構成の効果を説明す
る為の図、第４図及び第５図は本発明に係るダイ
クロイツク膜の実施例の透過率特性を示す図。 Ｔ……透過率、λ……波長。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高屈折率層と低屈折率層のｎ層の交互層より
成るダイクロイツク膜に於て、主として青色に対
する反射帯域を有しており、基準波長をλ０とす
ると、前記高屈折率層の基本膜厚λ0/4、前記低
屈折率の基本膜厚3/4λ０であり、基板側より数
えて第１層目、第２層目及び第（ｎ−１）層目、
第ｎ層目を上記基本膜厚より変化させ、該第１層
目と該第２層目の光学的膜厚の和は3.15/4λ０か
ら3.85/4λ０の間に存し且つ該第（ｎ−１）層目
と該ｎ層目の光学的膜厚の和が4.4/4λ０から5.
５／４λ０の間に存することを特徴とするダイクロ
イツク膜。 ２ 前記第１層目の光学的膜厚は0.25/4λ０から
0.5/4λ０の間に存し、前記第（ｎ−１）層目の
光学的膜厚は、0.7/4λ０からλ０の間に存する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のダ
イクロイツク膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1721878A JPS54109855A (en) | 1978-02-16 | 1978-02-16 | Dichroic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1721878A JPS54109855A (en) | 1978-02-16 | 1978-02-16 | Dichroic film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54109855A JPS54109855A (en) | 1979-08-28 |
| JPS6145202B2 true JPS6145202B2 (ja) | 1986-10-07 |
Family
ID=11937793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1721878A Granted JPS54109855A (en) | 1978-02-16 | 1978-02-16 | Dichroic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54109855A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04267202A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Horiba Ltd | 多層膜干渉フィルタ |
| IL98713A (en) * | 1991-07-02 | 1997-11-20 | Electro Optics Ind Ltd | Optical notch or minus filter |
| JP4824317B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2011-11-30 | 日本板硝子株式会社 | フィルタ付レンズ、およびこれを用いた波長多重光カプラ |
-
1978
- 1978-02-16 JP JP1721878A patent/JPS54109855A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54109855A (en) | 1979-08-28 |
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