JPS614528A - 水溶性ガスの高純度溶液の製造装置 - Google Patents
水溶性ガスの高純度溶液の製造装置Info
- Publication number
- JPS614528A JPS614528A JP59121984A JP12198484A JPS614528A JP S614528 A JPS614528 A JP S614528A JP 59121984 A JP59121984 A JP 59121984A JP 12198484 A JP12198484 A JP 12198484A JP S614528 A JPS614528 A JP S614528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- pressure
- membrane
- ammonia
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/04—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices using osmotic pressure using membranes, porous plates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば半導体の製造に利用され得る高純度の
薬品、試薬等の溶液を製造するのに用いられる水浴性ガ
スの高純度溶液の製造装置に関するものである。
薬品、試薬等の溶液を製造するのに用いられる水浴性ガ
スの高純度溶液の製造装置に関するものである。
従来の技術
例えば半導体製造技術において利用されるような高純度
のアンモニア水を製造する場合、従来では超純水にアン
モニアガスを吹き込む方法が用いられてきた。しかしこ
のような方法では、ガス中の不純物や微粒子等が溶液中
に混入するという問題があシ、また超純水に原料ガスを
吹き込む方法では濃度調節を容易にかつ正確に行なうこ
とは困難であった。
のアンモニア水を製造する場合、従来では超純水にアン
モニアガスを吹き込む方法が用いられてきた。しかしこ
のような方法では、ガス中の不純物や微粒子等が溶液中
に混入するという問題があシ、また超純水に原料ガスを
吹き込む方法では濃度調節を容易にかつ正確に行なうこ
とは困難であった。
そこで、本発明では超純水に原料ガスを吹き込む代シに
原水に疎水性多孔質膜を介して原料ガスを溶解させるこ
とによってガス中の不純物や微粒子等の混入の問題およ
び製造すべき溶液濃度の容易かつ正確な調節の問題を解
決することを目的としている。
原水に疎水性多孔質膜を介して原料ガスを溶解させるこ
とによってガス中の不純物や微粒子等の混入の問題およ
び製造すべき溶液濃度の容易かつ正確な調節の問題を解
決することを目的としている。
問題点を解決するだめの手段
上述の目的を達成するために、本発明によれば、所要の
溶液を作るための原水の入口と溶液の出口とを備えた容
器内に疎水性多孔質膜を設け、この疎水性多孔質膜を介
して原料の水溶性ガスを原水中に溶解させるに際し原水
の圧力が原料の水浴性ガスの圧力に等しいかそれより高
くなるように構成した水溶性ガスの高純度溶液の製造装
置が提供される。
溶液を作るための原水の入口と溶液の出口とを備えた容
器内に疎水性多孔質膜を設け、この疎水性多孔質膜を介
して原料の水溶性ガスを原水中に溶解させるに際し原水
の圧力が原料の水浴性ガスの圧力に等しいかそれより高
くなるように構成した水溶性ガスの高純度溶液の製造装
置が提供される。
原料ガスとしては水に溶解するガスであればよく、例と
して、塩化水素、フッ化水素等の無機質、ギ酸、酢酸等
の有機酸、アルコール等の有機溶媒、塩素ガスおよびア
ミン類等を挙げることができる。
して、塩化水素、フッ化水素等の無機質、ギ酸、酢酸等
の有機酸、アルコール等の有機溶媒、塩素ガスおよびア
ミン類等を挙げることができる。
作 用
このように構成した本発明の装置においては、疎水性多
孔質膜を介して原水に原料ガスが溶解され、従って原料
ガス中に不純物ガスや微粒子等があっても原水中に混入
することがない。また原料ガスの供給流量を調整するこ
とによって溶液濃度を任意に容易に変えることができる
。
孔質膜を介して原水に原料ガスが溶解され、従って原料
ガス中に不純物ガスや微粒子等があっても原水中に混入
することがない。また原料ガスの供給流量を調整するこ
とによって溶液濃度を任意に容易に変えることができる
。
実施例
以下添附図面を参照して本発明の一実施例について説明
する。
する。
図面には本発明の一実施例による装置の構成を概略的に
示し、ｌは原水（例えば超純水）の入口／ａと生成され
た溶液の出口／ｂとを備えた容器でおり、この容器ｌ内
にその長手方向に沿ってほぼ中心軸線上に中空の疎水性
多孔質膜コが配置され、その一端に原料ガス入口部３が
また他端に不純物出口部≠がそれぞれ取付けられている
。原料ガス入口部３は適当な流量調節手段（図示してな
い）を介して図示してない原料ガス供給源に連結される
。中空の疎水性多孔質膜コとしては好ましくは例えばホ
ローファイバ型の膜部材が用いられ得る。
示し、ｌは原水（例えば超純水）の入口／ａと生成され
た溶液の出口／ｂとを備えた容器でおり、この容器ｌ内
にその長手方向に沿ってほぼ中心軸線上に中空の疎水性
多孔質膜コが配置され、その一端に原料ガス入口部３が
また他端に不純物出口部≠がそれぞれ取付けられている
。原料ガス入口部３は適当な流量調節手段（図示してな
い）を介して図示してない原料ガス供給源に連結される
。中空の疎水性多孔質膜コとしては好ましくは例えばホ
ローファイバ型の膜部材が用いられ得る。
このように構成した装置の動作において、超純水とアン
モニアガスを用いて高純度のアンモニア水を作る場合に
ついて説明すると、アンモニアガスはガス〆ンベよシ適
当な圧力を減圧し、そして流量調整弁等で流量調整され
た状態で入口部３を通って疎水性多孔質膜λ内へ供給さ
れる。一方容器ｌの入口／ａから供給される超純水の圧
力はアンモニアガスの圧力に等しいか或いはそれよシ高
くされているので供給されたアンモニアガスは実質的に
膜λ内の通路を通って出口部≠に向って流 １れる
。その除膜コを浸透して内部に入ってくる超純水中にア
ンモニアガスが溶解する。この場合アンモニアガスの流
量および透過性の膜コの面積を適当に選択することによ
ってアンモニアはほとんど全て水に市解し、不純物出口
部≠よシ出てくるのは極く僅かである。
モニアガスを用いて高純度のアンモニア水を作る場合に
ついて説明すると、アンモニアガスはガス〆ンベよシ適
当な圧力を減圧し、そして流量調整弁等で流量調整され
た状態で入口部３を通って疎水性多孔質膜λ内へ供給さ
れる。一方容器ｌの入口／ａから供給される超純水の圧
力はアンモニアガスの圧力に等しいか或いはそれよシ高
くされているので供給されたアンモニアガスは実質的に
膜λ内の通路を通って出口部≠に向って流 １れる
。その除膜コを浸透して内部に入ってくる超純水中にア
ンモニアガスが溶解する。この場合アンモニアガスの流
量および透過性の膜コの面積を適当に選択することによ
ってアンモニアはほとんど全て水に市解し、不純物出口
部≠よシ出てくるのは極く僅かである。
下表にアンモニアガスおよび超純水流量とアンモニア水
濃度との例を示す。
濃度との例を示す。
なお図示実施列は単に例示のためのものであシ、超純水
の供給される容器およびその中に挿置される込過性膜の
形状２よび構成については必要に応じて種々変形または
変更することができる。
の供給される容器およびその中に挿置される込過性膜の
形状２よび構成については必要に応じて種々変形または
変更することができる。
効 果
以上説明してきたように、本発明によれば、原水に原料
ガスを吹き込１ずに疎水性多孔質膜を介して原料ガスを
原水中に溶解させるように構成しているので、原料ガス
中に不純物や微粒子等が含まれていてもそれらが溶液中
に混入することがなく、また不純物ガスが含まれていて
も水に溶解していかないので泡として残ることがなく、
従って高純度の水浴液を得ることができる。また原料ガ
スの流量を調整することによって所望の濃度の溶液を容
易に作ることができる。
ガスを吹き込１ずに疎水性多孔質膜を介して原料ガスを
原水中に溶解させるように構成しているので、原料ガス
中に不純物や微粒子等が含まれていてもそれらが溶液中
に混入することがなく、また不純物ガスが含まれていて
も水に溶解していかないので泡として残ることがなく、
従って高純度の水浴液を得ることができる。また原料ガ
スの流量を調整することによって所望の濃度の溶液を容
易に作ることができる。
図面は本発明の一実施例を示す部分断面図である。
図中、ｌ：容器、ｌａ：原水の入口、ｌｂ：両液の出口
、２：疎水性多孔質膜。
、２：疎水性多孔質膜。
Claims (1)
- 所要の溶液を作るための原水の入口と溶液の出口とを備
えた容器内に疎水性多孔質膜を設け、この疎水性多孔質
膜を介して原料の水溶性ガスを原水中に溶解させるに際
し原水の圧力が原料として供給される水溶性ガスの圧力
に等しいかそれより高くなるように構成したことを特徴
とする水溶性ガスの高純度溶液の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121984A JPS614528A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 水溶性ガスの高純度溶液の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121984A JPS614528A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 水溶性ガスの高純度溶液の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614528A true JPS614528A (ja) | 1986-01-10 |
| JPS6244964B2 JPS6244964B2 (ja) | 1987-09-24 |
Family
ID=14824684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59121984A Granted JPS614528A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 水溶性ガスの高純度溶液の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614528A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63302926A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-09 | Eruma:Kk | 液体中の溶存気体置換装置 |
| JPH03293092A (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-24 | Ebara Res Co Ltd | 水中の溶存酸素の除去方法 |
| WO1994020207A1 (en) * | 1993-03-02 | 1994-09-15 | Sri International | Exothermic process with porous means to control reaction rate and exothermic heat |
| US5399188A (en) * | 1993-12-01 | 1995-03-21 | Gas Research Institute | Organic emissions elimination apparatus and process for same |
| US7192609B2 (en) | 2001-04-23 | 2007-03-20 | Shire International Licensing B.V. | Use of rare earth compounds for the prevention of kidney stone disease |
| JP2016077987A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | 株式会社ドクターズ・マン | 水素水供給装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551816A (en) * | 1978-06-15 | 1980-01-09 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Vapor-liquid contactor |
| JPS5786623U (ja) * | 1980-11-17 | 1982-05-28 |
-
1984
- 1984-06-15 JP JP59121984A patent/JPS614528A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551816A (en) * | 1978-06-15 | 1980-01-09 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Vapor-liquid contactor |
| JPS5786623U (ja) * | 1980-11-17 | 1982-05-28 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63302926A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-09 | Eruma:Kk | 液体中の溶存気体置換装置 |
| JPH03293092A (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-24 | Ebara Res Co Ltd | 水中の溶存酸素の除去方法 |
| WO1994020207A1 (en) * | 1993-03-02 | 1994-09-15 | Sri International | Exothermic process with porous means to control reaction rate and exothermic heat |
| US5583240A (en) * | 1993-03-02 | 1996-12-10 | Sri International | Exothermic process with porous means to control reaction rate and exothermic heat |
| US5936106A (en) * | 1993-03-02 | 1999-08-10 | Sri International | Process with porous means to control reaction rate and heat |
| US5399188A (en) * | 1993-12-01 | 1995-03-21 | Gas Research Institute | Organic emissions elimination apparatus and process for same |
| US7192609B2 (en) | 2001-04-23 | 2007-03-20 | Shire International Licensing B.V. | Use of rare earth compounds for the prevention of kidney stone disease |
| JP2016077987A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | 株式会社ドクターズ・マン | 水素水供給装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6244964B2 (ja) | 1987-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100395081B1 (ko) | 오존수제조방법및장치 | |
| US7329312B2 (en) | Apparatus for supplying water containing dissolved gas | |
| US7537200B2 (en) | Controlled atmosphere gas infusion | |
| JP3765354B2 (ja) | 水素含有超純水の製造方法 | |
| US6509305B1 (en) | Method for preparing cleaning solution | |
| US5114549A (en) | Method and apparatus for treating water using electrolytic ozone | |
| AU683533B2 (en) | Unit for treating water by ozonation, and corresponding ozonised water production apparatus | |
| KR100783857B1 (ko) | 초순수의 비저항 조정 장치 및 조정 방법 | |
| US5246556A (en) | Process and apparatus for producing high concentrating ozone water | |
| JPH11138181A (ja) | オゾン含有超純水供給装置 | |
| JPS6244964B2 (ja) | ||
| KR20040101272A (ko) | 오존수 공급 장치 | |
| JP4151088B2 (ja) | 水素含有超純水の供給装置 | |
| NO313994B1 (no) | Våtoksidasjon ved hjelp av en porös katalytisk kontaktor | |
| JPS62270406A (ja) | 高濃度次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の連続製造装置 | |
| JP3720292B2 (ja) | オゾン水の製造方法および製造装置 | |
| JPH0521841B2 (ja) | ||
| JPH0639256A (ja) | オゾンの溶解方法及び装置 | |
| JP4069334B2 (ja) | オゾン溶解装置 | |
| KR20210100543A (ko) | 가스 용해액 제조 장치 | |
| JP3509091B2 (ja) | オゾン含有超純水の供給装置 | |
| JPH11319743A (ja) | ガス溶解洗浄水供給配管 | |
| JP2002172318A (ja) | 超純水の比抵抗調整装置及び調整方法 | |
| Grieves et al. | Continuous foam separation and activated carbon filtration to clarify dilute colloidal suspensions | |
| JPH11302002A (ja) | オゾン含有水供給装置 |