JPS6146030A - 加熱炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は通常の構造の加熱炉であるが、加熱炉の炉軸方
向の傾斜角度を可変にした加熱炉に関するものである。

最近半導体装置の製造工程をはじめとして、多くの産業
分野の製造工程で広範囲に加熱炉が使用されている。

例えば半導体装置の製造工程における半導体ウェハを酸
化させる場合とか、半導体ウェハをＣＶＤ法を行う場合
にはこれらの加熱炉−が使用されている。

然しなから従来の加熱炉は、炉軸角度がほぼ水平に保持
されているか、或いはほぼ鉛直に保持されて使用する場
合に限定されているため、例えば半導体ウェハをウェハ
バスケットに収納して、加熱炉の加熱管に挿入する際な
ど、半導体ウェハをウェハバスケットに収納する際の作
業性とか、加熱炉を運転する場合の振動に対する半導体
ウェハの安定性等、加熱炉に多くの不利がある。

例えば最近、広範囲に採用されている縦型加熱炉の場合
には、通常ウェハバスケットには複数の半導体ウェハを
所定のピッチで水平方向に平行に配列され、このウェハ
バスケットを加熱管内に挿入して、加熱炉体によりウェ
ハバスケットが加熱される。

従って、半導体ウェハはウェハバスケットを加熱管に挿
入する際の作業取扱とか、加熱管を移動して加熱炉体に
挿入する際等の機械的振動等により、半導体ウェハがウ
ェハバスケットから滑り洛ちるとか位置ずれ等があって
、それに伴う半導体ウェハの破損や、その破損した破片
が原因となって、更に他の半導体ウェハに損傷を与える
等の不具合があり、それらの改善が要望されている。

〔従来の技術〕

第４図は、従来の縦形加熱炉に半導体ウェハを実装をす
る際の概要を説明する模式図であるが、１は移動する加
熱管であり、２は加熱炉体、３はバスケット台、４はウ
ェハバスケット、５は半導体ウェハである。

加熱炉体は垂直に固定されており、加熱炉体２から下方
に引き出された加熱管１には、その内部に半導体ウェハ
５が収納されたウェハバスケット４がバスケット台３に
積載された後、上部に押し上げられ加熱炉体の内部に挿
入される。

第５図はウェハバスケットの一例を示す斜視図であるが
、ウェハバスケット４に、所定のピッチで、半導体ウェ
ハ挿入溝６が設けられ、半導体ウェハ５が一枚づつが収
納されるが、溝の幅が半導体ウェハの厚みである１ａ＋
ｍに対して約２１１ＩＩＩ程度になっているために、ウ
ェハバスケットに水平に配列されて収納された半導体ウ
ェハは振動が挿入等の際の取扱の際に、屡々変位又は転
落して破損することがある。

又縦形加熱炉の構造では、加熱炉体と加熱管の引出し長
さの合計が長くなり、垂直方向の占有スペースが大きく
、又横型加熱炉にしても同様に水平方向に装置のスペー
スを占有するという不利がある。

このような観点から取扱が容易で且つ被加熱体が安定で
ある加熱炉で、且つ装置スペースの小な加熱炉が要望さ
れている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記の構成のものにおいては、問題点として加熱炉への
ウェハバスケットの挿入や又加熱管の移動の際の半導体
ウェハの振動による破損があるので、ウェハバスケット
の加熱管への挿入や加熱作業時の半導体ウェハが安定性
があり、同時に占有スペースの小なる加熱炉を実現する
ことにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記問題点を解消した可変傾斜角度の加熱炉を
提供するもので、その手段は、加熱炉の炉軸方向の傾斜
角度をほぼ水平からほぼ鉛直：の間に設定したことを特
徴とする加熱炉によって達成できる。

〔１ウミ用〕 即ち、従来の縦型の加熱炉の場合に屡々発生した、加熱
管内にウェハバスケットを挿入する際の半導体ウェハが
移動したり、振動して損傷することがないように、本発
明は、加熱炉の炉軸方向に傾斜角度をつけておき、その
ためにウェハバスケットも傾斜したままで加熱管に保持
され、半導体ウェハも傾斜して装着されることになるた
めに、半導体ウェハが脱落したり移動することがなく安
定に保持されるように考慮したものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の加熱炉で半導体ウェハの実装をする際
の説明する断面図であるが、１１は加熱管であり、１２
は加熱炉体、１３はバスケット台、１４はウェハバスケ
ット、５は半導体ウェハである。

実施例の一例として、加熱炉が自在な可変範囲内に傾斜
されている場合を示すと、加熱管に挿入されたウェハバ
スケットも過熱炉と同様に傾斜され、その内部に収納さ
れた半導体ウェハも傾斜する。

第２図は固定ピン支持によるウェハバスケットの一例を
示す斜視図であるが、ウェハバスケア）１４に所定ピッ
チで半導体ウェハ支持の固定ピン１５が設けられ、半導
体ウェハ５が支持されているが、このウェハバスケット
の特徴として傾斜されたウェハを支持する上で損傷の軽
減化と支持性能の向上が可能になる。

第３図はウェハバスケット１４に半導体ウェハ５を搭載
する際の取扱の容易性を説明する斜視図であるが、半導
体ウェハが傾斜されてウェハバスケットに搭載されてい
ると、その半導体ウェハの挿入や引出しが容易になり取
り扱いの安全性が高まる。

半導体ウェハを取り扱う一例として、真空チャック１６
により半導体ウェハ５を吸着して、ウェハバスケットの
上方に位置させ、そのままの位置で下方から真空ガイド
チャック１７を上昇して半導体ウェハを吸着する。

真空チャック及び真空ガイドチャックにより支持された
ウェハは、ウェハバスケットの所定位置の固定ピンに買
くだげで完全に保持されるし、又常に半導体ウェハがウ
ェハバスケント内のガイドバーに接触し、溝構造の場合
のような接触が無いため、ウェハにａ接触で発生する分
布むらが防止でき、且つ取扱が容易になる。

かかる傾斜した加熱炉装置は占有スペースも、水平、垂
直両方向で均等なスペースとなり、経済的なスペースが
実現できる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように本発明の傾斜角度をもつ加熱
炉は半導体ウェハの安全性と取扱の容易性及び装置の占
有スペースの経済性を計ることができ、効果大なるもの
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の加熱炉の模式断面図、第２図は本発明
の加熱炉に使用されるウェハバスケットの斜視図、 第３図は半導体ウェハの取扱を説明するための斜視図、 第４図は従来の縦型加熱炉の模式断面図、第５図は従来
のウェハバスケットの斜視図である。 図において、１１は加熱管、１２は加熱炉体、１３はバ
スケット台、１４はウェハバスケット、１５は固定ピン
、１６は真空チャック、１７は真空ガイドチャックであ
る。 第　２図 ３ＷＪ １Ｂ　４図 第５ＷＪ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 加熱炉の炉軸方向の傾斜角度をほぼ水平からほぼ鉛直の
   間に設定したことを特徴とする加熱炉。