JPH0222535B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0222535B2 JPH0222535B2 JP59133735A JP13373584A JPH0222535B2 JP H0222535 B2 JPH0222535 B2 JP H0222535B2 JP 59133735 A JP59133735 A JP 59133735A JP 13373584 A JP13373584 A JP 13373584A JP H0222535 B2 JPH0222535 B2 JP H0222535B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- basket
- wafer
- container
- holder
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は、縦型加熱炉の構造に係り、特に耐震
性と取扱面でウエハ保持の安全を考慮したウエハ
バスケツトの保持に関する。
性と取扱面でウエハ保持の安全を考慮したウエハ
バスケツトの保持に関する。
(b) 技術の背景
近年、特に半導体基板の大形化が進み、高度の
無塵化や自動化の傾向に伴い、従来使用されてき
た横型炉では、石英の容器とウエハを搭載した石
英のウエハバスケツトが摺動して、石英の微粒子
が発生して、これがウエハの歩留りの低下の原因
となる欠点があるために、縦型加熱炉が採用され
はじめ、特に縦型炉は構造的に自動化が容易であ
り、占有スペースが小になる等多くの利点がある
が、通常縦型炉の場合には、容器の内部で加熱さ
れるウエハが1ロツト単位でウエハバスケツトに
搭載され、そのウエハバスケツトの複数個がバス
ケツトホルダに積載されてから、容器に挿入され
て加熱炉で加熱される。
無塵化や自動化の傾向に伴い、従来使用されてき
た横型炉では、石英の容器とウエハを搭載した石
英のウエハバスケツトが摺動して、石英の微粒子
が発生して、これがウエハの歩留りの低下の原因
となる欠点があるために、縦型加熱炉が採用され
はじめ、特に縦型炉は構造的に自動化が容易であ
り、占有スペースが小になる等多くの利点がある
が、通常縦型炉の場合には、容器の内部で加熱さ
れるウエハが1ロツト単位でウエハバスケツトに
搭載され、そのウエハバスケツトの複数個がバス
ケツトホルダに積載されてから、容器に挿入され
て加熱炉で加熱される。
従つてバスケツトホルダは、ウエハバスケツト
を挿入するための開口部があり、外部からの振動
や取扱の不備などのため、この開口部からウエハ
バスケツトに搭載されたウエハが落下するという
欠点があり、これの改善が要望されている。
を挿入するための開口部があり、外部からの振動
や取扱の不備などのため、この開口部からウエハ
バスケツトに搭載されたウエハが落下するという
欠点があり、これの改善が要望されている。
(c) 従来技術と問題点
半導体基板に酸化膜を形成する場合とか、半導
体基板に不純物をドープして拡散する場合には、
これらの半導体基板を適当な雰囲気ガスの中で高
温に加熱することで行われ、通常この場合の加熱
炉は1000℃程度の温度条件で成される。
体基板に不純物をドープして拡散する場合には、
これらの半導体基板を適当な雰囲気ガスの中で高
温に加熱することで行われ、通常この場合の加熱
炉は1000℃程度の温度条件で成される。
第1図は従来構造の縦型加熱炉の模式的断面図
であり、図において1は被加熱物を加熱する石英
製の管状の容器であり、この管状の容器には密封
製の蓋2があり又、雰囲気ガスの供給孔3と排出
孔4があつて、これらは、容器の周囲に配設され
た加熱体5によつて加熱されている。
であり、図において1は被加熱物を加熱する石英
製の管状の容器であり、この管状の容器には密封
製の蓋2があり又、雰囲気ガスの供給孔3と排出
孔4があつて、これらは、容器の周囲に配設され
た加熱体5によつて加熱されている。
容器内で加熱されるバスケツトホルダ6は石英
製であり、操作索条7によつて上下に操作され、
加熱処理されたバスケツトホルダは、一部密封製
の蓋を有する取り出し桿8によつて外部にとりだ
される。
製であり、操作索条7によつて上下に操作され、
加熱処理されたバスケツトホルダは、一部密封製
の蓋を有する取り出し桿8によつて外部にとりだ
される。
バスケツトホルダ6の内部には複数個をウエハ
バスケツト9が多段に搭載されていて同時に加熱
されるが、通常ウエハバスケツトにはウエハが25
枚程度を1ロツトとして収納して、化学処理や洗
浄処理と併用されることが多い。
バスケツト9が多段に搭載されていて同時に加熱
されるが、通常ウエハバスケツトにはウエハが25
枚程度を1ロツトとして収納して、化学処理や洗
浄処理と併用されることが多い。
この場合に、バスケツトホルダは円筒形の半面
が開口しているため、この部分に搭載されたウエ
ハバスケツトからウエハが落下するという恐れが
あり、これの対策が要望されている。
が開口しているため、この部分に搭載されたウエ
ハバスケツトからウエハが落下するという恐れが
あり、これの対策が要望されている。
(d) 発明の目的
本発明は、上記従来の欠点に鑑み、加熱炉に使
用されるバスケツトホルダに挿入するウエハバス
ケツトからウエハが落下しないようにウエハバス
ケツトのストツパの利用を提供することを目的と
する。
用されるバスケツトホルダに挿入するウエハバス
ケツトからウエハが落下しないようにウエハバス
ケツトのストツパの利用を提供することを目的と
する。
(e) 発明の構成
この目的は、縦長の管体をほぼ垂直に配列して
なる容器と、該容器の両端部に設けられてなる蓋
部と、該容器を加熱する加熱部と、被処理ウエハ
を保持するウエハバスケツトを該容器中に挿入す
るバスケツトホルダとを有する縦型加熱炉であつ
て、 該バスケツトホルダは、半円筒状に縦方向に配
列した複数の支柱と、該支柱間にその縦方向に間
隔を隔てて配置されてなるバスケツト置台とを具
備し、 該ウエハバスケツトは、半円筒状に配列したウ
エハ落下防止ストツパを含む複数の支柱を具備
し、該支柱の軸方向に間隔をおいてウエハの挿入
が可能に構成されてなり、 該ウエハバスケツトを、前記バスケツト置台上
に設置して、該ウエハバスケツトを構成するウエ
ハ落下防止ストツパを含む複数の支柱と、該バス
ケツトホルダを構成する複数の支柱とが、ウエハ
を囲んで略円筒状に配列するように構成されてな
ることを特徴とする縦型加熱炉の使用により解決
することができる。
なる容器と、該容器の両端部に設けられてなる蓋
部と、該容器を加熱する加熱部と、被処理ウエハ
を保持するウエハバスケツトを該容器中に挿入す
るバスケツトホルダとを有する縦型加熱炉であつ
て、 該バスケツトホルダは、半円筒状に縦方向に配
列した複数の支柱と、該支柱間にその縦方向に間
隔を隔てて配置されてなるバスケツト置台とを具
備し、 該ウエハバスケツトは、半円筒状に配列したウ
エハ落下防止ストツパを含む複数の支柱を具備
し、該支柱の軸方向に間隔をおいてウエハの挿入
が可能に構成されてなり、 該ウエハバスケツトを、前記バスケツト置台上
に設置して、該ウエハバスケツトを構成するウエ
ハ落下防止ストツパを含む複数の支柱と、該バス
ケツトホルダを構成する複数の支柱とが、ウエハ
を囲んで略円筒状に配列するように構成されてな
ることを特徴とする縦型加熱炉の使用により解決
することができる。
(f) 発明の実施例
一般に加熱炉内の容器の内径は、加熱効率が高
く、又加熱炉内の温度の均一性を得るために、被
加熱体の寸法に比較して必要最小限の内径に設定
されるものであり、特に、バスケツトホルダーの
場合には、その間隙がせいぜい数mm乃至拾数mm程
度であるので、例えばバスケツトホルダーが若干
でも振動するとか、又は取扱面でウエハバスケツ
トの位置が適正でないと、ウエハバスケツトの中
からウエハが容器の壁面に当たるとか、落下する
とかの事故を招くことになる。
く、又加熱炉内の温度の均一性を得るために、被
加熱体の寸法に比較して必要最小限の内径に設定
されるものであり、特に、バスケツトホルダーの
場合には、その間隙がせいぜい数mm乃至拾数mm程
度であるので、例えばバスケツトホルダーが若干
でも振動するとか、又は取扱面でウエハバスケツ
トの位置が適正でないと、ウエハバスケツトの中
からウエハが容器の壁面に当たるとか、落下する
とかの事故を招くことになる。
このためバスケツトホルダに挿入されるウエハ
バスケツトには、ウエハが落下しないようなスト
ツパを設ける必要がある。
バスケツトには、ウエハが落下しないようなスト
ツパを設ける必要がある。
第2図は本発明のウエハバスケツトの斜視図で
あるが、半円形の篭型のバスケツトホルダ11が
あり、このバスケツトホルダにはウエハ12を多
段に搭載したウエハバスケツト13があり、これ
らを複数個だけ搭載できるように、ウエハバスケ
ツト置台14,15があるが(第2図ではウエハ
バスケツト置台が2台の場合について図示してあ
る)、ウエハバスケツト置台15にはウエハバス
ケツト16が設置された状態であり、ウエハバス
ケツト置台14にはウエハバスケツト13を設置
するために、バスケツト用フオークリフト17を
用いて、リフト円筒部18にこれを挿入して搬入
し、ウエハバスケツト置台14に搭載せんとする
ものである。
あるが、半円形の篭型のバスケツトホルダ11が
あり、このバスケツトホルダにはウエハ12を多
段に搭載したウエハバスケツト13があり、これ
らを複数個だけ搭載できるように、ウエハバスケ
ツト置台14,15があるが(第2図ではウエハ
バスケツト置台が2台の場合について図示してあ
る)、ウエハバスケツト置台15にはウエハバス
ケツト16が設置された状態であり、ウエハバス
ケツト置台14にはウエハバスケツト13を設置
するために、バスケツト用フオークリフト17を
用いて、リフト円筒部18にこれを挿入して搬入
し、ウエハバスケツト置台14に搭載せんとする
ものである。
本発明によるウエハバスケツト13に設けられ
たウエハ落下防止ストツパ19により、ウエハバ
スケツトがバスケツトホルダーに搭載された後で
も、ウエハがウエハバスケツトから落下すること
がなく又バスケツトホルダー側には支柱20があ
り、このためにウエハバスケツトからウエハが落
下したり、ずれが発生することがなく、取扱面の
不備や、多少の外部の振動があつてもウエハを破
損することが無い。
たウエハ落下防止ストツパ19により、ウエハバ
スケツトがバスケツトホルダーに搭載された後で
も、ウエハがウエハバスケツトから落下すること
がなく又バスケツトホルダー側には支柱20があ
り、このためにウエハバスケツトからウエハが落
下したり、ずれが発生することがなく、取扱面の
不備や、多少の外部の振動があつてもウエハを破
損することが無い。
(g) 発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明のバスケツ
トホルダーを使用することにより、ウエハの落下
防止に対処し得るという効果大なるものがある。
トホルダーを使用することにより、ウエハの落下
防止に対処し得るという効果大なるものがある。
第1図は従来の加熱炉の模式図、第2図は本発
明のバスケツトホルダの斜視図である。 図において、11はバスケツトホルダ、12は
ウエハ、13はウエハバスケツト、14,15は
ウエハバスケツト置台、16はウエハバスケツ
ト、17はバスケツト用フオークリフト、18は
リフト円筒部、19はウエハ落下防止ストツパ、
20は支柱である。
明のバスケツトホルダの斜視図である。 図において、11はバスケツトホルダ、12は
ウエハ、13はウエハバスケツト、14,15は
ウエハバスケツト置台、16はウエハバスケツ
ト、17はバスケツト用フオークリフト、18は
リフト円筒部、19はウエハ落下防止ストツパ、
20は支柱である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 縦長の管体をほぼ垂直に配列してなる容器
と、 該容器の両端部に設けられてなる蓋部と、 該容器を加熱する加熱部と、 被処理ウエハを保持するウエハバスケツトを該
容器中に挿入するバスケツトホルダとを有する縦
型加熱炉であつて、 該バスケツトホルダ11は、半円筒状に縦方向
に配列した複数の支柱20と、該支柱20間にそ
の縦方向に間隔を隔てて配置されてなるバスケツ
ト置台14,15とを具備し、 該ウエハバスケツト13は、半円筒状に配列し
たウエハ落下防止ストツパ19を含む複数の支柱
を具備し、該支柱の軸方向に間隔をおいてウエハ
12の挿入が可能に構成されてなり、 該ウエハバスケツト13を、前記バスケツト置
台14,15上に設置して、該ウエハバスケツト
13を構成するウエハ落下防止ストツパ19を含
む複数の支柱と、該バスケツトホルダ11を構成
する複数の支柱20とが、ウエハ12を囲んで略
円筒状に配列するように構成されてなることを特
徴とする縦型加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13373584A JPS6112024A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 縦型加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13373584A JPS6112024A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 縦型加熱炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6112024A JPS6112024A (ja) | 1986-01-20 |
| JPH0222535B2 true JPH0222535B2 (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=15111687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13373584A Granted JPS6112024A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 縦型加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6112024A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62281321A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Fukui Shinetsu Sekiei:Kk | ウエハ処理装置 |
| JP2620765B2 (ja) * | 1987-09-07 | 1997-06-18 | 東芝セラミックス株式会社 | 縦型拡散炉用ボート |
| JP4543198B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2010-09-15 | 株式会社昭和真空 | 蒸着材料の供給・回収手段及び真空装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56165317A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-18 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP13373584A patent/JPS6112024A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6112024A (ja) | 1986-01-20 |
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