JPS6148583A

JPS6148583A - スケ−ル除去剤

Info

Publication number: JPS6148583A
Application number: JP16639284A
Authority: JP
Inventors: Motoyuki Kitahata; 北畑　元幸; Taichi Nakamura; 仲村　太一; Teruyuki Hotta; 輝幸堀田
Original assignee: Uemera Kogyo Co Ltd; C Uyemura and Co Ltd
Current assignee: Uemera Kogyo Co Ltd; C Uyemura and Co Ltd
Priority date: 1984-08-10
Filing date: 1984-08-10
Publication date: 1986-03-10

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】及■μ」」すＬｌ本発明は鉄ニツケル合金、鉄ニツケルコバルト合金表面
上から酸化スケールを除去するために好適に用いられる
スケール除去剤に関する。

：　技ｉ　びその問題点従来、パーマロイや４２７０イ等の鉄ニツケル合金やコ
バール等の鉄ニツケルコバルト合金はその特有の物性か
ら神々の電子部品用材料として多用されており、また電
気的接触性やハンダ付は性の向上のためにその表面に電
気めっきや無電解めっき等の表面処理を施すことが行な
われている。

この場合、これら合金製の電子部品を製作する過稈にお
いて、例えばガラス封入や溶接加工を施されたものはそ
の表面に熱による酸化スケールが生成付着しており、こ
れにめっき表面処理を行なう場合はめつき加工前にその
酸化スケールを除去する必要がある。

このような鉄ニツケル合金や鉄ニツケルコバルト合金上
の酸化スケールを除去する方法としては、従来塩酸又は
塩酸を基体とした酸溶液に少量のインヒビターと界面活
性剤を添加したスケール除去剤を加温した液に浸漬して
処理する方法が採用されている。

しかしながら、従来のこの種のスケール除去剤は、塩酸
ベースであるために塩化水素ガスが発生し、作業環境を
箸しく悪化させ、作業員の健康を阻害させたり、まわり
の作業機械、建屋を発錆させる問題があった。更に、腐
食性の強い塩酸中の塩素イオンが部品の間隙に残留する
危険があり、塩素イオンが残留すると、製品組立後、部
品が残留する塩素イオンにより早期腐食劣化し、製品の
故障を導くことが多かった。

従って、従来より塩素イオンを含まないスケール除去剤
が望まれていた。

１１列」」本発明者らは、上記事情に鑑み、畝ニッケル合金や鉄ニ
ツケルコバルト合金のスケールを除去するのに好適に用
いられる塩素イオン無含有のスケール除去剤につき鋭意
研究を行なっ１＝結果、硫酸を好ましくは２０〜６０％
（型開％、以下同じ）、硝酸イオンを好ましくは０．１
〜１０％、カルボン酸、スルホン酸及びこれらの塩から
選ばれる少なくとも１種の化合物を好ましくは０．１％
以上を含むスケール除去剤が上記目的を効果的に達成す
ることを知見した。

即ち、本発明者らは鉄ニツケル合金や鉄ニツケルコバル
ト合金のスケール除去法につき検討したところ、種々の
酸、酸化剤の相合ゼのうちこれら合金のスケール除去剤
には硫酸に硝酸イオンを混合したもののみが有効である
ことを見い出した。

このため、ｆＪＩ　ｌｌｉと硝酸とを含む液について検
討を行なったが、＠酸と硝酸のみでは素地を過度にエツ
チングし、合金表面を荒らしたり、部品の寸法精度を低
下させたりする問題が生じる。それ故、本発明者らは更
に検討を進めた結果、＠酸−硝酸液にカルボン酸イオン
及び／又はスルホン酸イオンを添加づると、畝ニッケル
合金、鉄ニツケルコバルト合金素地をエツチングでるこ
とが効果的に防止され、これら合金上のスケールを良好
に除去し得ることを知見した。更に、カルボン酸イオン
及び／又はスルホン酸イオンに加えて有機アミン化合物
を添加づるとカルボン酸イオン又はスルホン酸イオンの
エツチング防止作用を強くすること、また界面活性剤を
添加すると洗浄性と浸透性が向上し、油の付着した品物
もそのまま処理でき、酸ミストの飛散も防止し得ること
を知見し、本発明をなすに至ったものである。

以下、本発明につき更に詳しく説明する。

１１丸」【本発明のスケール除去剤は、硫酸を好ましくは２０〜６
０％、硝酸イオンを好ましくは０．１〜１０％、カルボ
ン酸、スルホン酸及びこれらの塩から選ばれる少なくと
も１種の化合物を好ましくは０．１％以上を含有してな
るものである。

ここで、硫酸はスケール除去に必要な酸度を保持させる
ために使用され、その使用量は２０〜６０％、より好ま
しくは３０〜４５％とすることが好適である。使用量が
２０％より少ないとスケール除去作用が弱く、６０％よ
り多いとＭＩＮが強すぎて過度のエツチングが生じる場
合がある。

また、硝酸イオンは硝酸或いは硝酸リチウム、カリウム
、ナトリウム、アンモニウム等の硝酸塩で与えられ、硝
酸イオンの添加により酸化スケールを溶解し易い高次の
酸化物に酸化し、スケールの除去を促進づる。硝酸イオ
ンの添加（６）は０．１〜１０％、より好ましくは３〜
５％とすることが好適である。添加用が０．１％より少
ないとその　　　′効果が認められず、１０％より多い
と過度のエツチングが生じる場合がある。

更に、本発明ではカルボン酸、スルホン酸及びそれらの
塩から選ばれる１種以上の化合物を添加するもので、こ
れによりｆｉＡｅ−硝酸イオン系によるエツチング作用
を緩和し、過度のエツチングを防止してスケールの除去
された面を良好に保護する。

この場合、カルボン酸としては帽り酢酸、プロビΔン酸
、蓚酸、マＬｌン酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、グ
リコール酸、グルコン酸、モノクロル酢酸、トリクロル
酢酸等が挙げられ、またスルホン酸としては、Ｒ−８Ｏ
ｓ　Ｈ，ＲＣ；Ｈ２＝Ｃｌ−１−Ｒ’　−８０３Ｈ，Ｒ
−ＣＥＣＲ’　−８０３ＨＮ更に（ＬＥＩ　Ｌ、、Ｒ，Ｒ’　はｌ−１，０Ｈ，アルキル
基、アルキレン基等を示す）等のスルホン酸、具体的に
はベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、アリールスルホン酸、フコ。ノールスル
ホン酸、ナフトールスルホン酸等が挙げられる。更に、
塩としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ア
ンモニウム塩等が挙げられる。本発明においては、これ
らのカルボン酸、スルホン酸、それらの塩の１種を単独
で用いてもよく、２種以上を併用するようにしてもよい
。その゛　　　、ヵｏｍ＋ｔｏ、１％、よ、よＩＩＬＩ
：ｂｉ、ｔｌ　〜１０％とすることが好適であり、添加
量が０．１％より少ないと効果がなく、またその上限は
必ずしも制限されないが、１０％より多く配合しても作
用効果の目立った上昇がなく、経済的でないので１０％
とすることが好ましい。

本発明スケール除去剤には、更に必要により有機アミン
化合物を添加することができ、有機アミン化合物はカル
ボン酸イオン、スルホン酸イオンのエツチング防止作用
を強く補助する。この場合、有機アミン化合物としては
モノエタノールアミン。

ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、ニトリロ
トリ酢酸、エチレンジアミン４酢酸、ヒドロキシルエチ
ルエチレンジアミン３酢酸、エチレンジアミン、グリシ
ン、エチルアミン、ジエチルアミン、これらの塩等の１
種又は２種以上を添加することができる。その添加量は
０１１％以上、好ましくは１〜１０％とすることが効果
的である。

また、本発明スケール除去剤には、界面活性剤を添加す
ることができ、これににり洗浄作用、浸透作用、酸ミス
ト防止作用を向上することができる。界面活性剤として
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、アルキルフェニル
スルホン酸ナトリウム、アルキル硫酸ナトリウム、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンポ
リオキシプロピレンブロックポリマー等のノ：′Ａン系
、アニオン系、カチオン系、両性などの界面活性剤が添
加し得る。これら界面活性剤の添加量は０．１〜５％と
することが好ましく、０．１％より少ないと界面活性剤
添加の効果が弱く、また５％より多いと発泡作用が過度
になる場合がある。

本発明のスケール除去剤は、上述した成分を水に溶解す
ることにより製造し得る。本発明スケール除去剤はパー
マロイや４２アロイ等の鉄ニツケル合金やコバール等の
鉄ニツケルコバルト合金のスケール除去に好適に使用さ
れる。その使用方法としては特に制限されないが、字溝
〜６０℃で５〜１５分間スケールが除去されるまで被処
理物を浸漬する方法が採用し得る。この場合、超音波撹
拌を採用したり、被処理物をバレルやカゴに入れ、回転
したり揺動したりすることはスケール除去のスピードを
上げることができるので推賞される。

１１些１東本発明のスケール除去剤は、硫酸と硝酸イオンとカルボ
ン酸、スルホン酸及びこれらの塩から選ばれる少なくと
も１秤の化合物とを含有していることにより、鉄ニツケ
ル合金や鉄ニツケルコバルト合金のスケールを温度のエ
ツチングをなくして確実に除去することができる。

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的゛に説明
するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではな
い。

〔実施例、比較例１第１．２表に示す成分からなるスケール除去剤を製造し
、これに４２アロイ合金をベースにし線状のコバール合
金製の足をガラス封入した電子部品を４０℃で８分間浸
漬し、スケール除去処理を行なった。

この場合、スケール除去程度は顕微鏡観察により、表面
状態は目視観察により評価し、更にマイクロメーターで
上記浸漬時間における部品の肉厚減少量を測定づること
によりエツチングの状態を評価した。結果を第１．２表
に４Ｊ前記する。

第１．２表の結果より、本発明のスケール除去剤は表面
状態を良Ｏｒな状態に保持し、過洩のエツチングを可及
的に防止してスケールを確実に除去覆ることが認められ
た。

Claims

【特許請求の範囲】１、硫酸と硝酸イオンとカルボン酸、スルホン酸及びこ
れらの塩から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有
してなることを特徴とするスケール除去剤。２、硫酸の含有量が２０〜６０重量％、硝酸イオンの含
有量が０．１〜１０重量％、カルボン酸、スルホン酸及
びこれらの塩から選ばれる化合物の含有量が０．１重量
％以上である特許請求の範囲第１項記載のスケール除去
剤。３、有機アミン化合物を添加した特許請求の範囲第１項
又は第２項記載のスケール除去剤。４、有機アミン化合物の添加量が０．１重量％以上であ
る特許請求の範囲第３項記載のスケール除去剤。５、界面活性剤を添加した特許請求の範囲第１項乃至第
４項いずれか記載のスケール除去剤。６、界面活性剤の添加量が０．１〜５重量％である特許
請求の範囲第５項記載のスケール除去剤。