JPS61500253A - 光学系用トラッキングミラー撓み回転支持装置 - Google Patents

光学系用トラッキングミラー撓み回転支持装置

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JPS61500253A
JPS61500253A JP59501425A JP50142584A JPS61500253A JP S61500253 A JPS61500253 A JP S61500253A JP 59501425 A JP59501425 A JP 59501425A JP 50142584 A JP50142584 A JP 50142584A JP S61500253 A JPS61500253 A JP S61500253A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 光学系において用いられるトラッキングミラー及び類似物を取シ付は得るピボッ ト回転メカニズム回転メカニズム(pivotal mechanism )  K関する。よシ詳細には、本発明は改良されたピボット回転メカニズムまたは撓 みメカニズム(flexural mechanism )に関し、該メカニズ ムは安価であシ、回転方向以外の方向へ(は回9づらく、そして温度変化1cよ る影響ヲ受けない。更によシ詳細には、本発明は撓みメカニズムに関し、該メカ ニズムは、ピボット軸を回転する質量の重心の如き所望の位置に選択的に配置す る様に設計出来るものであり、該所望の位置がメカニズムの外側にある場合にも 同様でちる。
ミラーは光学系において、光ビームを所望の位置に指向する為に用いられる。大 部分の光学系においては、′指向されたビームの位置を変更する為に、ミラーを 回転出来る事が必要とされる。回転の量は通常小さく、典型的には何れの方向疋 おいても2〜3°のみでちるが、しかしこの回転は正確に制御されなくてはなら ない。
ミラー及び類似物をその上部に取り付は得る種々のピボット回転メカニズムは、 必要な回転能力を提供するために当該技術において知られている。しかしながら 、出願人が知っている総てのその様なメカニズムは、7つ又はそれ以上の欠点を 有し、該欠点は該メカニズムの使用に関連する。これ等の欠点は、限定された寿 命、高コスト、高い感温性、回転方向以外の方向における必要とされる桜械的強 度の不足、嵩高性、固定されたピボット軸、及び過度のノイズを包含する。(ピ ボット回転メカニズムの用語のため、及びこの出願のために、ノイズはミラーの 回転1.ておけるガタつきとして定義され、該ガタつきは典型的には、ミラーが 回転する事を生ずるメカニズム内の摩擦の量が相違することによう発生する。) 当該技術において知られたピボット回転メカニズムの幾つかの例は、(1)ボー ルベアリング中に取り付けられた軸;(2)弾性ヒンジ;(3)受は石ビ&、ト (jeweledpivot )上口■付けられた軸:及び(4)ベンディック ス(Bendix )社たより製造されたr Free Flex Jピボット ;を備えている。(r Free Flex JはBendiX社の登録商標で ある。) 不都合な事に、ゴールベアリング中に取シ付けられた軸は限定された寿命を有し 、過度のノイズを示し、そして軸中心線において固定されたピボット軸を有して いる。−力受は石ピボット上に取シ付けられた軸はノイズを減少するが、その様 なメカニズムは未だに幾つかの望ましくない摩擦を示し、そして限定された寿命 及び固定されたピボット軸(Cよシ損傷を受ける。弾性ヒンジは高張るものであ シ、温度による影響を受け易く、ノイズを生じ易く、そして回転方向以外の方向 においては機械的に弱い。その上、弾性ヒンジのピボット軸を明確に画定するこ とは困難でちる。「Freepy6z J ピボットは、他のピボット回転メカ ニズムのうち幾つかよシも大いに改良された部分を示すけれども、それでも尚コ スト高であシ、高張シ、且つピボット軸の位置決めばFrexビゴットの内部の 位置に限定されている。
それ故、当該技術においては、改良されたメカニズムでaづて上記の欠点によシ 損傷を受けないメカニズムが必要とされている。
発明の概要 本発明の7つの目的は、光学系中にて使用する為の改良されたピボット回転メカ ニズムまたは撓みメカニズムでちって、制御された回転のために該メカニズムの 上にミラー又は類似物が取シ付けられ得る様なメカニズムを提供することである 。
更に本発明の目的は、安価でちシ、どの様なサイズにても製造出来、そして個々 の適用例の要件に適合する為に選択的に位置決め出来るピボット軸全有する様な 撓みメカニズムを提供することである。
更に別の本発明の目的は、低いノイズを示し且つ温度変化によって影響全受は難 い様な撓みメカニズムを提供することである。本発明の別の目的は、改良された 撓みメカニズムであって回転方向以外の方向については機械的IC回転しづらい メカニズムを提供することである。
本発明の更に別の目的は、調節、修理、又は交換の必要性を伴うことなく長時間 に亘って使用され得る様な撓みメカニズムを提供することである。
上述及びその他の本発明の目的は、材料の単一のシートから撓みメカニズムを組 み立てる事によシ実現され、該材料は所望の機械的性質を示す金属の様な材料で ある。所望のパターンがシート内にエッチ(etch )され又七スタンプ(s tamp )され、そして製造された形態は撓みメカニズムを形成する為1(折 シ曲げられ、該メカニズムは基部、取付表面(該取付表面上にはミラーが取シ付 けられ得る)、及び該基部を基取付表面部合良く、多数の変形が存在し、撓みメ カニズムに所望の特性全与える様に、該撓みメカニズムの設計及び製造の間に該 変形は容易に調節され得る。例えば、使用される材料のタイプ、その厚さ、及び 材料中にエッチまたはスタンプされた正確な/やターンは、製造される撓みメカ ニズムが上述した目的と適合するのを許容する様に、総てが選択的に調節出来る 。
本発明の独自の特徴は、材料内にエッチされ又はスタンプされたノリーンの形態 を変える事によって、撓みメカニズムのピボット軸を変化出来ることである。
理想のピボット軸は、典型的には回転している質量の重心を通っている。都合の 良い事に本発明は、組み立てられるべき撓みメカニズムが、ピボット軸がメカニ ズムの内側にあるか外側にあるかにかかわらず、回転している質量の中心を通る ピボット軸を有している。
図面の簡単な説明 本発明の上述及びその他の目的、特徴及び利点は、下記の図面と関連して示され る以下の発明のより詳細な記載から更に明らかになるであろう。
第1図は、当該技術1(おいて既に知られたビピット回転メ)ニズムの1つのタ イプの斜視図であシ:第、2a図及び第2b図は、それぞれ第1図の従来技術の メカニズムの側面図及び端面図であシ;第3図は、当該技術において既に知られ た別のタイプのピボット回転メカニズムの斜視図でアシ:第4ta図、第11t b図及び第≠C図は、それぞれ第3図の従来技術のメカニズム中の/対の撓みア ーム(f lex arm )の平面図、端面図及び側面図であシ;第!図は、 本発明の撓みメカニズムの一実旅例の折シ曲げられる以前の平面図でおって、且 つ本発明を構成する為に用いられる材料のシート中にエッチされ又はスタンプさ れ得る7つのパターンを図解するものでらシ: 第68図、第6す図及び第6C図は、第5図の撓みメカニズムが折シ曲けられた 後のそれぞれ平面図、側面図及び端面図でおυ; 第7図は、本発明の撓みメカニズムの別の実施例の折シ曲けられる以前の平面図 でちって、且つ本発明を構成する為に用いられる材料のシート中にエッチされ又 ハスタンゾされ得る別のノやターンを図解するものでちシ; 第ga図、第fb図及び第ど0図は、第7図の撓みメカニズムが折シ曲けられた 後のそれぞれ平面図、側面図及び端面図であり;そして 第り図は、本発明の典型的な適用例の横断面図であって、礪♂図中に示すタイプ の撓みメカニズムが回転すべきミラーを支持しているのを示し、且つミラーが回 転する事を生ずる為に用いられる装置を備えているのを示している。
発明の詳細な説明 本発明を実行するのに意図されている形式であって、現在量も良いものについて 以下に記載する。この記載は、本発明の概略的な主要部を図解する為にのみ提供 されるものであシ、限定する事を意図するものではない。本発明の正確な範囲は 、添付された請求の範囲によって定義される。
第1〜≠図は、従来技術のピボット回転メカニズム(pivotal mech anism )の種々の図である。これ等図面は、ピボット回転メカニズムの作 用をよシ良く理解し、同様に従来技術に優る本発明の利点を指摘する為に提供さ れたものでちる。
最初に第1図及び第2図を参照すると、ペンディックス(Bendix )社よ シ商業的に利用されているr Free Flex Jピボットに類似するタイ プのピボット回転メカニズムが示されている。第1図は装置の斜視図でらシ、第 、2c図及び第2b図はそれぞれ側面図及び端面図である。ミラー2は中央ピー ス/2上に取シ付けられてお)、該中央ピースは弘つの撓みアーム(flex  arm) / 3〜l乙によって2つの円筒状端部ピース10及び//に取り付 けられ、且つ端部ピース10・〜//内部にて支持されている。各々の撓みアー ム/3〜/乙は、中央ピース/2の内側表面に溶接されたその上方端を有してい る。撓みアーム/3./IAは端部ピース//に溶接されているその低部端を有 し、そして撓みアーム/り、/乙は端部ピース10に溶接されているその低部端 を有している。
第2b図中に最も良く示されている様に、撓みアーム/3./グ及び/j、/乙 は「X」字を形成し、該形状は該撓みアームが相互に交差していることを明示し ている。内側ピース/2上に支持されているミラータは、第2b図中でAとして 示されたこのrXJの中心において形成されたピボット軸A−Aの回シを回転し 得る。
以前に論述した様に、第1図及び第2図中に示すタイプのピボット回転メカニズ ムにおいては、端部ピース10 、 //を支持して且つミラーを中央ピース/ 2に付加する為に、付加的なカッコ状部材が必要とされておシ:そしてピボット 軸A−Aは、常に端部ピース10、//の内部に位置されてbる。
第3図及び第7図は従来技術において用いられる別のタイプの撓みメカニズムを 示している。第3図は斜視図であり、一方、第pa図、第4tb図及び第41c 図はそれぞれ頂面図、端面図及び側面図である。このタイプの撓みメカニズムは 、典型的には2対の撓みアームを含み、該撓みアームは支持構造2gとミラーλ りとの間で接続している。(第3図及び第ヴ図中では、撓みアームの対を強調す る為に、支持構造2ととミラー2りはダッシュ記号のラインで示されている。) これ等撓みアーム2乙の1つの対が第3図及び第グ図中に示されている。該撓み メカニズムにおいて使用される撓みアームの他方の対は対2乙と全く同一であり 、且つ図示される必要はない。対、2乙は、全く同一ではあるが分離したピース (piece )を備えている。各々のピースは、2つの基部22及び23、又 は24を及び2夕と、撓みアーム20又は2/とから成る。2つの基部22及び 2jは、適当な距離の間隔金空けて離されておシ、そして幾つかの手段によシ支 持構造2gへ取シ付けられていて、該支持構造は、典型的には撓みアームの対の 間に適当な角度をもたらす様(・覧機械加工されている。それからミラー29は 、基部23及び2グの2つの取付表面へ、他の機械加工されたピースによって取 り付けられる。例えば、ねじがこの目的の為に用いられ得る。休止時における場 合、ミラー2りの表面は、材料を取り付ける支持構造2gの表面と平行である。
回転した場合には、ミラーはピボット軸B−Bの回I)を回転し、該軸は、撓み アームが相互に交差していること全明示しているポイントを介して通っている( 該ポイントは第≠b図中でBと明示されている)。
第5図及び第3図は、本発明の7つの実施例の撓みメカニイムを示している。第 5図はシート材料30のピースの頂面図であり、該材料は、その内部にエッチ( etch ) tたはスタンプされた所望の・やターンを有している。(第5図 及び第6図中の異なったクロメノ・ッチングは、材料30の異なった部分又は区 域を強調する為のものであり、横断面図を示すことを意味するものではない。) 好ましくは、シート材料30は好適な金属または合金で、例えば黄銅、13e− Cu(ベリリウム−銅合金)、ステンレス鋼、又は同様なものであシ;そしてシ ート材料30は、メカニズムに所望の性質(剛性、弾性、etc )を授ける為 に、適当な厚さとなっている。
標準的なエツチング(etching )技術が材料からノeターンをエッチす るのに使用され得る。該エツチング技術では、材料30はレジメ) (resi st )と呼ばれる写真感光材料で覆われている。フィルム上に不透明な・母タ ーンを伴った透明プラスチックフィルムから成るマスクが、それからレゾスト上 にしっかりと位置される。(使用されるレジストのタイプによっては1反対の極 性のマスク、例えば透明なパターンを伴う不透明なプラスチックフィルム、が要 求され得る。)それから材料、レジスト、マスクの組合せは適当な波長の光に適 正な時間だけあてられる。レジストで被覆された材料は、それから化学溶剤中で 現像され、該溶剤は除去されるべきパターンの区域上のレソストヲ除去する。
それ力らエツチング溶剤が光にあてられた材料をエッチ除去(etch awa y )するのに使用されるが、一方しシスト被覆された材料は影響を受けない。
便利な事に、エツチング技術は低コストにて非常t/c高い精度を提供する。第 5図の例において、材料の全体の長さは0.≠インチ以下にし得る。エツチング 技術を使用すれば、所望のパターンが最初に何回でも製造出来て、そして従って 写真装置によりマスクを製造する事を減少することが出来る。その様なエツチン グ技術を使用すれば、パターンは//100θインチ以下の誤差を有する寸法に て形成され得る。手近な個々の適用についてもしもこの精度の高さが要求されな ければ、所望のパターンが迅速かつ安価に選択的に材料30の中へスタンプされ 得る。
平坦な材料30内にエッチされ又はスタンプされた・ぐターンは、第5図中で用 いられるクロスハツチングの3つの異なったタイプにより表現されている3つの タイプの区域にて構成されている。3つの区域は:(1)基部3ター3乙、(2 )μつの撓みアーム3ノー3≠、及び(3)取付表面37、である。
一度パターンが材料中に配置されると、材料は折シ曲げ工程を介して撓みメカニ ズムを形成する。該折り曲げ工程は、2つの基部セグメント3j−3乙を平坦に 保持し、一方それ等セグメントが相互に向かって動ける事を許容し、そして取シ 付は表面37を引いて基部35−3乙から離す。この工程が行なわれるのと同時 に、撓みアーム3/−3Iltはなめらかな曲線を形成しく第40図参照)、該 なめらかな曲線において、該撓みアームは基部セグメント3!;−3乙と取p付 は表面37とを接合する。撓みアーム3/−3≠内のこの曲線は、折り目がつき 又は折シたたまれた形状となる事を防止しておシ、材料が撓みアーム3/−31 Aのなめらかな曲線において疲労して例えば脆弱になシかっ破壊したりする事無 しに、撓みメカニズムが撓む事を許容する。
第48図は第5図の材料の平面図であシ、該材料が撓みメカニズムを形成した後 の図である。図中にて見ることが出来る様に、撓みアーム3/−311tはその 長さが図面上の平面に位置していないので、短くなる様に表現されておシ、そし て取付表面は基部セグメントから離れる様に引き込まれ、該基部セグメントが相 互に向かって動くので、取付表面37は基部セグメント3、!;−3乙の上方に 広がっている。
第6b図は第48図の撓みメカニズムの側面図であって、取付表面37が基部セ グメント3!;−3乙と平行でりシ、且つ撓みアーム3/−3Iltによシ支持 されているのを示している。第6C図は第48図及び第6す図のメカニズムの端 面図であシ、撓みアーム37゜32及び33.311が交差して明示されている ライン上のピボット軸Dt−示している。
第7(は本発明の第2実施例の撓みメカニズムを示し、そして本発明の融通性を 図解する為に含まれている。
第ど0図中に示される撓みメカニズムの端面図は、材料中にエッチされた異なっ たパターンの結果を示す。
ヒ&ット軸D′は撓みメカニズムの外側で、撓ミアームの線をそれ等が交差する まで延ばすことによって決定されるポイントである。
以前に説明した様に、理想的なピボット軸は回転されるべき質量の重心を通って いる。もしもピボット軸がどこか重心よシずれていれば、それを一つの方向へ動 かすのに小さな力が必要とされ得るが、一方、不均衡な質量を理由として、それ を戻す為には大きな力が要求され得る。その上、基部内の振動が、不均衡な質量 に基づいてミラーの回転を生ずることがある。ミラーの振動に対して影響される 可能性(suaceptabjlity)、それと同様に動かしたシ戻したシす る力が不均等であることは、撓みメカニズム上に取シ付けられたミラーを回転す る為に使用される制御システムについて、過度の複雑化を生じ得る。
第7図は典型的な適用における本発明の撓みメカニズムl/lo’6示す横断面 図である。ミラー4tlは支持構造IA2上に取シ付けられている。更に支持構 造へ取シ付けられているのはコイル13である。回転されるべき全体の質量はミ ラーグ/、支持構造4.2、及びコイル≠34含み、撓みメカニズム≠Oの取付 表面上に取シ付けられる。撓みメカニズム≠0ば、第7図及び第♂図において示 されるタイプのものである事に注意を要する。
撓みメカニズム1lLOは基部支持体4j上に取り付けられる。更に基部支持体 lAS上罠取シ付けられるのは、鉄の極片を乙、≠7である。該極片に取シ付け られるのは、永久磁石グ♂−≠りである。
適用において、コイルグ3中の電流は磁場を発生し、該磁場は永久磁石の磁場と 相互作用する。磁石4tg及び179は磁場の作用を受け、その結果、コイル上 に生ずる力はトルクでアシ(−側では上方へ且つ他方では下方へ)、該トルクは ミラーが回転することを生ずる。
第り図中に見られる様に、撓みメカニズム弘0は第7図及び第g図に示されるタ イプであり、第り図中F) (pivot point )を伴なっている。し かしながら、成る種の適用については、永久磁石μg−119に支持構造72上 に取シ付け、且つコイルlA3’c基部支持体4tj上に位置させる事が非常に 有益であり、そして、もし永久磁石≠と一≠りがコイル≠3よりもはるかに大き な質量を有している場合は、回転された質量の重心は第り図中のポイントFよシ も下方に来るであろう。
その様な状況においては、もし重心が未だに撓みメカニズムの外側にあれば、第 7図及び第g図の撓みメカニズムの寸法を、−ポット軸を重心と対応させる為に 容易に変化させる事が出来る。一方、もし重心が撓みメカニズムの内部に設けら れていれば、第5図及び第6図中に示されたタイプのメカニズムを用いることが 出来る。故に本発明は、与えられた適用例の独自の要件に合致する為に、撓みメ カニズムを調節する事を好適に許容するのである。
FIG、6a FIG、 6 b FIG、8b 国際調査報告 1me+ml*MIAwllezbo*+ia、 PCT/LIS 84100 433、。mn1l+。。ml Aeol:+a:。、ア。 ccT/じS 8 4100433

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.撓みメカニズムに付加された第一の対象物が回転軸の回りにピボット回転す る事を許容する撓みメカニズムを形成する方法において: (a)好適左材料のシートを選択する工程を含み、該材料から前記撓みメカニズ ムが形成され得て、前記選択された材料は所望の弾性度を示し; (b)前記材料のシート中にパターンを形成する工程を含み、前記パターンは、 前記シートの両側における2つの基部、前記基部の中間の取付表面部、及び各々 の前記基部を前記取付表面部に接続する複数の撓みアームとを画定し; (c)第一の平面内に前記基部を保持する工程を含み、一方、該基部が前記第一 の平面の内部で相互に向かってスライドして移動する事を許容し; (d)前記取付表面部を第二の平面内に維持する工程を含み、該第二の平面は最 初は前記第一の平面と一致するものであり;そして (e)前記第二の平面を前記第1の平面から離して引き込む工程を含み、それに より、前記取付表面部を前記基部へ可撓的に結合する為に、前記撓みアームは前 記第一の平面及び前記第二の平面内にそれぞれ保持されている前記基部と前記取 付表面部から離れて曲げられる; ことを特徴とする撓みメカニズムを形成する方法。 2.工程(e)は、前記撓みアームが前記基部又は取付表面部に接続するポイン トにおいて、どの様な折り目のついた形状や折りたたまれた形状を生ずることな く、前記撓みアームが前記第一の平面及び前記第二の平面内に維持された部分か ら離れて滑らかに曲げられていることを含む請求の範囲第1項記載の方法。.3 .前記取付表面がその回りをピボット回転する回転軸は、第一の基部から始まる 前記撓みアームの一方が、第二の基部から始まる前記撓みアームの他方と交差し て示されるポイントを介して通っており、前記ポイントは、第一の基部が左側に 且つ第二の基部が右側となる様に、前記撓みメカニズムをその一方の端部から見 た場合に画定される請求の範囲第2項記載の方法。 4.工程(b)において形成されたパターンは、前記ピボット軸が前記第一の平 面と第二の平面との間に位置する様に形成される請求の範囲第3項記載の方法。 5.工程(b)は、前記材料のシートから所望のパターンをエッチングすること を含む請求の範囲第4項記載の方法。 6.工程(b)は、前記材料のシート内に所望のパターンをスタンプすることを 含む請求の範囲第4項記載の方法。 7.工程(b)において形成されたパターンは、前記取付表面がその回りをピボ ット回転する回転軸が、第一の基部から始まる前記撓みアームの一方の延長線が 、第二の基部から始まる前記撓みアームの他方の延長線と交差するポイントであ って前記第二の平面の上方のポイントを介して通る様に形成されており、前記ポ イントは、第一の基部が左側に且つ第二の基部が右側になる様に、前記撓みメカ ニズムをその一端部から見た場合に画定される請求の範囲第2項記載の方法。 8.工程(b)は、前記材料のシートから所望のパターンをエッチングすること を含む請求の範囲第7項記載の方法。 9.工程(b)は、前記材料のシート上に所望のパターンをスタンプすることを 含む請求の範囲第7項記載の方法。 10.回転軸の回りで第一の対象物をプラスマイナス2〜3°ピボット回転する 改良された撓みメカニズムにおいて: 第一の平面内に置かれている複数の間隔を空けて配置された基部と; 第二の平面内に置かれている取付表面と;そして前記基部を前記取付表面へ結合 している複数の撓みアームの対とを含み、各々の前記対は、第一の前記基部から 前記取付表面まで延びている第一の撓みアームと、第二の前記基部から前記取付 表面まで延びている第二の撓みアームとを含んでおり、前記回転軸は、前記メカ ニズムをその一端部から見た場合に、前記第一及び第二の撓みアームまたはその 延長線が交差して示されるポイントを介して通っており; 前記基部、取付表面、及び撓みアームの対は、可撓性材料の一体となったシート の最初に形成されている部分として特徴付けられており、該材料はその内部に配 置されたパターンを有していて、該パターンは、前記基部、取付表面、及び撓み アームの対の寸法、形状、及び位置を画定し; 前記基部は好適なベース材料に付加されており、そして前記第一の対象物は前記 取付表面に付加されていて; それにより、もし前記ベース材料又は第一の対象物の一方が固定状態に保持され る場合、前記ベース材料又は第一の対象物の他方は、前記回転軸の回りを選択的 にプラスマイナス2〜3°ピボット回転し得ることを特徴とする改良された撓み メカニズム。 11.前記撓みアームが前記基部及び取付表面の縁部を接合する接合箇所におい て、前記撓みアーム内にどの様な折り目のついた形状や折りたたまれた形状を存 在させることなく、前記撓みアームが前記基部及び取付表面から離れて滑らかに 曲げられている請求の範囲第10項記載の撓みメカニズム。 12.前記回転軸は、前記第一の平面と第二の平面との間に配置されているライ ン上に位置している請求の範囲第11項記載の撓みメカニズム。 13.前記回転軸は、前記第二の平面の上方に配置されているライン上に位置し ている請求の範囲第11項記載の撓みメカニズム。 14.前記第一の対象物は、光学系において用いられるミラーである請求の範囲 第11項記載の撓みメカニズム。 15.前記ミラーが前記回転軸の回りを選択的にピボット回転するための装置を 更に含む請求の範囲第14項記載の撓みメカニズム。 16.改良されたピボット回転メカニズムであって、該メカニズム上では、光学 系において用いられるトラッキングミラー及び類似物が回転軸の回りの選択的な 回転のために取り付けられ得て、前記ピボット回転メカニズムは、好適な支持構 造に固定して取り付けられた第一の部材と、前記回転軸の回りに第二の部材がピ ボット回転する様に前記第一の部材にピボット回転可能に取り付けられた該第二 の部材と、前記第二の部材に取り付けられたトラッキングミラーと、そして前記 回転軸の回りに前記トラッキングミラーを所望の量だけ選択的にピボット回転す るための装置とを備えており、該メカニズムの改良点は: 前記第一の部材及び第二の部材との間を接続している複数の撓みアームを含み、 前記撓みアームは、前記第二の部材が主として前記第二の部材の回転方向に回転 することを許容する様に可撓性となっており、そして前記撓みアームは、前記回 転軸が、その回りでピボット回転している質量の重心にむいて実質的に画定され る様に、選択的に位置決めされており;そして前記ピボット回転メカニズムの構 造においては、前記第一の部材、第二の部材、及び撓みアームは単一の材料のシ ートから形成されており、それにより、前記要素を一緒に固着する為に必要とさ れるどの様な接着剤、ジョイント、及び同様な接合部を排除している;事を含む 改良されたピボット回転メカニズム。 17.前記メカニズムの構造のために用いられる前記シート材料は、黄銅、ベリ リウムー銅合金、ステンレス鋼及び類似物の様左好適な金属又は合金であって、 前記ピボット回転メカニズムに所望の一定の性質を与える様に所望の厚さと剛性 とを有する金属又は合金を含む請求の範囲第16項記載の改良されたピボット回 転メカニズム。 18.前記撓みアームは、どの様な折り目のついた形状または折りたたまれた形 状を伴うこと無く前記第一の部材及び第二の部材から離れて滑らかに曲がってお り、それにより、前記第一の部材と第二の部材及び撓みアームが製造される金属 または合金材料が疲労するのを伴うこと無く、前記第二の部材が前記回転軸の回 りにピボット回転する様に撓みアームが撓み事を許容する請求の範囲第17項記 載の改良されたピボット回転メカニズム。
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