JPS6158708A - マルチプランジヤ型モ−ルド装置のプランジヤ - Google Patents

マルチプランジヤ型モ−ルド装置のプランジヤ

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JPS6158708A
JPS6158708A JP18042584A JP18042584A JPS6158708A JP S6158708 A JPS6158708 A JP S6158708A JP 18042584 A JP18042584 A JP 18042584A JP 18042584 A JP18042584 A JP 18042584A JP S6158708 A JPS6158708 A JP S6158708A
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JP
Japan
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plunger
film
resin
mold
molding device
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Michitoshi Sera
世良 通利
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/46Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it into the mould
    • B29C45/58Details
    • B29C45/586Injection or transfer plungers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/02Transfer moulding, i.e. transferring the required volume of moulding material by a plunger from a "shot" cavity into a mould cavity

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、マルチプランジャ型モールド装置に好適な
プランジャに関するものである。
[発明の技術的背景] 半導体装置など電子部品の樹脂封止に使用されるトラン
スファモールド装置では、シングルポットシングルブラ
ンジル型が普通であるが、最近ポットとキャビティとの
間のランナ一部分をなくしたマルチポットマルチプラン
ジャ型が採用されるようになってきた。
第2図乃至第4図を参照して本発明に関連する公知のマ
ルチプランジャ型モールド装置のt[’J 18構造及
び作動について説明する。 第27乃至第4図において
、第2図は上金型の斜視図、第3図は下金型の平面図、
第4図は成形時の状態の上金型及び下金型の横断面図で
ある。
同図にJ5いて、1は上金型、2は下金型であり、両者
の相対向する而には複数のカル3、カル3に連通するゲ
ート4、及びキャビティ5が形成されている。 また、
上金型には各カル3に連通するシリンダ形の[1のポッ
ト6が設けられ、この各ポット6内にはその中を胃降動
するプランジャ7が挿入されるようになっている。 前
記金型は法1脂封止型半導体装1r)の樹脂製外囲器部
分を成形するだめのものであり、キャごティ5の形状は
樹nu封止型半導体装置の外囲器部分の形状となってい
る。
成形時には、成形用樹脂の硬化温度(たとえば180℃
程度)に上下の金型を加熱しておく一方、予め半導体チ
ップを搭載したリードフレームFを第4図の如く下金型
2の上に置いた後、下金型2を上昇させて型締めを?テ
う。 次に、第2図に示すように、各ポット6の上方の
口から各ポット6内に短円柱状の樹脂タブレットTを挿
入して該樹脂タブレットTを溶融させつつ各ポット6内
でプランジ!/7を降下させ、これにより溶融樹脂を諸
プランジャ7の圧力でカル3、ゲート4を通ってキャご
ティ5内に圧入する。 キャビティ5内への溶融樹脂の
充填後、一定時間、加圧保持して樹脂を硬化させた後、
プランジャ7を上昇ざばて圧力を除き、しかる後、型開
きを行って、リードフレームEと一体になった成形品を
型内から取り出す。
前記のごときマルチプランジャ型モールド装置では、そ
のプランジャとして、焼入れ処理したダイス鋼、高速度
鋼、あるいは粉末高速度鋼などの素材で構成され°ると
ともにその表面に 1〜10μm程度の硬質クロムめっ
きを施したプランジャが使用されていた。
[青用技術の問題点1 前記のごとぎマルチプランジャ型モールド装置において
は従来のシングルポットシングルプランジ1フ型モール
ド装首にくらべて4〜5倍の高速サイクル(約60秒/
リ−イクル)で成形が行われるため、前記のごとき従来
のプランジャでは穫めて1♀耗が早く、寿命が短かった
くたとえば7〜14日程度)。 このため、次のような
問題が生じていた。
(i )  摩耗が早いのでポットの内周面とプランジ
ャの外周面との間のクリアランスが大きくなり、該クリ
アランスに樹脂が入り込んでプランジャの摩蕨抵抗が急
増し、その結果、キャビティ内への樹脂充填圧力が低下
して、充填不足による成形不良や巣の発生による成形不
良が発生し、半導体装置の製品歩留り悲化さけていた。
(ii>  ポットとプランジャとの間に生じたクリア
ランスに入り込lνだ樹脂が剥がれて大最の「樹脂かす
jとなり、このr樹脂かず」が金型内や装置内に設置し
たセンサ等に付着したりして該センサ等の正常な作動を
妨害し、その結果、該装置の故障を誘発して該装置の稼
働率を低下させていた。
(iii )  プランジャの交換頻度が高いため、予
備プランジャを大棗に作成しておかなければならないの
で装置面のランニングコストが高いものとなっていた。
 また、プランジャの交換の度毎に装置の運転を停止す
るので該装置の稼働率が低く、これも装置のランニング
コストを高くする原因となっていた。
(1■)  従来のプランジャを装備したマルチプラン
ジャ型モールド装置では、前記のように稼j仙率が低い
うえ、製品歩留りが悲いので生産性が低く、このため半
導体装置製造における生産性の向上を用言する一要因と
なっていた。
[発明の目的] この発明の目的は、前記のごとき問題をM消しうる、従
来のプランジャよりもはるかに耐久性の高い、改良され
たプランジャを提供することである。
〔発明の概要] プランジャ表面の耐摩耗性を向上させるにはプランジャ
の材質そのbのを変更するという方法も考えられるが、
この方法ではプランジャの製造コストが高騰するので、
プランジャ表面の硬度を高くする方法の方が経済的にも
有利である。 本発明者は種々の実験の結果、イオンプ
レーティング法を利用して従来の材質のプランジャの表
面に硬質膜を形成させると従来のプランジャよりも極め
て耐久性の高いプランジャを製造できることを確認し、
本発明に至ったものである。
一般に、イオンプレーティング法には次のような特徴が
あり、このような特徴は本発明のプランジャを形成する
のに(5Rめて好都合である。
ずなわら、イオンプレーティング法では、(1) イオ
ンボンバードクリーニングの効果により、物品表面への
被刀シ)の密着性が極めて高く、被膜の剥離が生じない
(ii)  処理IUが比較的低4(180℃〜550
℃)であるため、物品の寸法変化や変形が生じない。
(iii )  焼き戻し温度以下で処理できるため、
被膜形成後に焼戻しや焼入れなどの再熱処理を行う必要
がない。
等の利点があり、従って、プランジャ表面に硬質膜を形
成する方法として極めて適している。
本発明のマルチプランジャ型モールド装置におけるプラ
ンジャは、窒化チタンや炭化チタンなどのようにマイク
ロビッカース硬度(Hv )が1500以上の被膜を、
0.5〜10μmの厚さにイオンプレーティング法でプ
ランジャ表面に形成したことを特徴とするものである。
[発明の実施例] 第1図は本発明のプランジャの一実施例の断面図である
。 この実施例のプランジャは、粉末15速度鋼からな
る本体8を有し、該本体8の表面にイオンプレーティン
グ方法でたとえばTiNの膜9を3μmの厚さに被着さ
せたものである。
粉末高速度鋼からなる本体8に錆面しと脱脂洗浄を行っ
た後、該本体8をイオンプレーティング装置内にセット
し、該3A置内を180℃〜550℃に昇温しアルゴン
ガスを導入して該本体8の表面をイオンボンバードクリ
ーニングした。
続いて、反応ガスを導入してTiNの膜9を該本体8の
表面に成長させ、厚さが3μmになったところで膜形成
をやめ、装置外へ冷却して取り出した。 取出後、膜9
の硬度を測定し、マイクロごッカース硬度(Hv )で
2000以上あることを確認した。
なお、種々の実験の結果、股9の厚さと硬度は膜厚が0
.5μ11〜10μm、硬度がマイクロごッカースで1
500以上であれば、後に説明J°るようにマルチプラ
ンジャ型レジンモールド装置では従来のプランジャにく
らべて著しく該装置の性能及び稼動率等を改善すること
がわかった。 また、膜9の材質はTiNばかりでなく
Ti Cでもよく、更にこれらをVi層したものや、他
の硬質化合物膜でもよい。
硬質膜のプランジャに対する被覆個所は、少なくとも樹
脂を押圧する面と押圧面につらなる先端部外周面であれ
ばよいことは当然である。
[発明の効果] 前記のごとき本実施例のプランジャを多数製作し、これ
をマルチプランジャ型モールドHrHに装着して使用す
る一方、従来のプランジャを該装置に装着して同じ条件
で使用した。 なお、従来のプランジャとして、ダイス
鋼で構成された本体の表面に硬質クロムめっきしたもの
を使用した。
第1表に本実施例のプランジャと従来のプランジャとの
使用結果を示す。
第1表 前記の結果から、本発明のプランジャによれば、プラン
ジャの必要交換頻度が大幅に低下して成形装置の稼働率
が向上するとともに製品の成形歩留りも向上し、その結
果、成形装置のランニングコストも大幅に低下すること
がわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のプランジャの一実施例の断面図、第2
図は本発明のプランジャを装備することのできるマルチ
プランジャ型モールド装置の上金型部分の概略斜視図、
第3図はマルチプランジャ型モールド装同の下金型の概
略平面図、第4図はマルチプランジャ型モールド装置の
上下の金型を第3図のIV −IV線で切断した状態の
拡大断面図である。 1・・・上金型、 2・・・下金型、 3・・・カル、
 4・・・ゲート、 5・・・キャビティ、  6・・
・ポット、7・・・プランジi/、 T・・・樹脂タブ
レット、 F・・・リードフレーム、 8・・・(プラ
ンジャ)本体、9・・・膜。 奪 第1図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 マルチプランジャ型モールド装置のプランジャにお
    いて、少なくとも樹脂を押圧する押圧面及び該押圧面に
    連らなる先端部外周面に、マイクロビッカース硬度が1
    500以上で厚さが0.5乃至10μmの被膜をイオン
    プレーティング法で形成したことを特徴とするプランジ
    ャ。 2 前記被膜が、窒化チタン、炭化チタン、乃至はこれ
    らの積層構造で構成されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のプランジャ。
JP18042584A 1984-08-31 1984-08-31 マルチプランジヤ型モ−ルド装置のプランジヤ Granted JPS6158708A (ja)

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JP18042584A JPS6158708A (ja) 1984-08-31 1984-08-31 マルチプランジヤ型モ−ルド装置のプランジヤ

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Publication Number Publication Date
JPS6158708A true JPS6158708A (ja) 1986-03-26
JPH0456729B2 JPH0456729B2 (ja) 1992-09-09

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ID=16083029

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218667A (ja) * 1986-03-20 1987-09-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 液圧ポンプ又はモ−タのピストン
JPS63141877U (ja) * 1987-03-09 1988-09-19
JP2008044306A (ja) * 2006-08-21 2008-02-28 Apic Yamada Corp 樹脂封止装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218667A (ja) * 1986-03-20 1987-09-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 液圧ポンプ又はモ−タのピストン
JPS63141877U (ja) * 1987-03-09 1988-09-19
JP2008044306A (ja) * 2006-08-21 2008-02-28 Apic Yamada Corp 樹脂封止装置

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