JPS6159700A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS6159700A
JPS6159700A JP59183020A JP18302084A JPS6159700A JP S6159700 A JPS6159700 A JP S6159700A JP 59183020 A JP59183020 A JP 59183020A JP 18302084 A JP18302084 A JP 18302084A JP S6159700 A JPS6159700 A JP S6159700A
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秀人 日高
Kazuyasu Fujishima
一康 藤島
Hideji Miyatake
秀司 宮武
Masaki Kumanotani
正樹 熊野谷
Katsumi Dousaka
勝己 堂阪
Yasumasa Nishimura
西村 安正
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、特に、メモリセル
の儂能テスト時に、複数のメモリセルの機能テストを同
時に行なうことができる半導体記憶装置に関するもので
ある。
[従来の技術] 第6図は、従来のダイナミック型半導体記[α装置の主
に出力(読出)回路の電気的4M成を示す概略ブロック
図である。
まず、第6図に示す半導体記憶装置のaり成について説
明する。第6図において、メモリセル・7レイ1は、た
とえば2次元に配列された複数のメモリセルからなるも
のであり、個々のメモリセルは図示されていない。第6
図においては、メモリセル・アレイ1に含まれる複数の
メモリセルの中から4個のメモリセルが選択され、それ
ぞれの記憶内容が対応する前置」曽幅器2ないし5に読
出される。前置増幅器2ないし5はそれぞれ、メモリセ
ル・アレイ1から読出した信号R7〜R4を反R4)と
いう相補的な関係にある信号の相を出力する。前置増幅
器2ないし5から出力された信号(以下、内部出力信号
という)R4−R4はそれぞれ、トランジスタ6.8.
10および12の導通経路を介して1つのラインに結合
され、信号Rとして主増幅器18の一方の入力端子に与
えられる。また、内部出力信号R1〜R4はそれぞれ、
トランジスタ7.9.11および13の導通経路を介し
て1つのラインに結合され、信号Rとして主増幅器18
の他方の入力端子に与えられる。これらの入力信号は主
増幅器18で増幅された後、外部出力信号として外部出
力端子19に与えられる。
次に、第6図に示した半導体記憶装置の機能テスト時の
動作の概略について説明する。
−股に、従来の半導体記憶装置においては、半導体記憶
装置をパッケージに入れる前のウェハ状態で、メモリセ
ルの機能テストを行なっている。
この機能テストは、メモリ試験装置(図示せず)と半導
体記憶装置との間の信号のやり取りによって実行される
。たとえば、最初に半導体記憶装置を植成するすべての
メモリセルに、メモリ試8B置によって一定の論理値(
たとえばO″)を書込む。次に、メモリセルの記憶内容
を1ビツトずつ読出し、予め口込まれている論理値と一
致するか否かを調べることによって当該メモリセルが正
常に機能しているか否かを判定する。
以上のテスト動作を第6図を参照して説明する。
第6図において、メモリセル・アレイ1を(14成する
すべてのメモリセルには、メモリ試験装置によって予め
0″が書込まれているものとする。これらのメモリセル
の中から4ビツトのメモリセルが選択ぎれ、それぞれが
保持している論理値すなわち“O″が前置増幅器2ない
し5に読出される。
前置182幅器2ないし5はそれぞれメモリビル・アレ
イ1から読出した論理値R4〜R,(”O”)と、その
相補的関係にある信号R7〜R4(“°1″)とを内部
出力信号として出力する。次に、前置増幅器2ないし5
の出力する内部出力信号のうちのどれを外部出力端子1
9へ読出すかは、サブデコード信号入力端子14ないし
17に与えられるサブデコード信号のいずれをハイレベ
ルにするかによって決定される。たとえば、入力端子1
4にのみハイレベルのサブデコード信号を与えると、ト
ランジスタ6、ffiよび7のみが導通状態となり、前
置増幅器2の内部出力信号R2およびR4がRおよびR
として主増幅器18に与えられ、増幅されて外部出力端
子19から続出される。残りの内部出力端子を読出すた
めには、他のサブデコード信号を順次ハイレベルにすれ
ばよい。このようにして、メモリセルに書込まれた憬能
テストのための論S値は、外部出力端子ごとに1ビツト
ずつ読出され、各メモリセルの良否が開削的に判定され
る。
[発明が解決しようとする問題点] 従来の半導体記憶装置瞥よ、上述のように、メモリセル
の機能テストを、メモリセルの記憶内容を1ビツトずつ
順次読出すことによって行なっていたので、半導体記憶
装置の大言は化に伴い、1つの半導体記憶装置あたりの
テスト時間が非常に長くなるという問題点があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、上)ホの問題点
を解消し、複数ビットのメモリセルから読出された論理
値がすべて同一のときにその論理IUを外部出力するこ
とによって、複数のメモリセルの機能テストを同時に行
なうことができ、テスト時間を大幅に短縮することがで
きる半導体記憶装置を提供することである。
[問題点を解決するための手段] この発明に係る半導体記憶装置は、メモリセルの機能テ
スト時に、複数のメモリセルの各々から読出された論理
値がすべて同一のときにのみ、その論理値と同じ論理値
をテスト用外部出力として出力する論理回路手段を備え
るものである。
[作用] この発明においては、メモリセルの記憶内容を1ビツト
ずつ読出す通常の続出手段とは別に、論理回路手段を有
しているので、複数ビットのメモリセルに保持されてい
る論理値が同一であることと、その当該論理値の値と全
知ることができる。
[実施例] 第1図は、この発明の一実施例である半導体記憶装置の
電気的構成を示す概略ブロック図である。
′i41図に示した実施例の構成は、以下の点を除いて
第6図に示した従来の半導体記憶装置の構成と同じであ
る。
すなわち、前置増幅器2ないし5の各々から出力される
内部出力信号R4〜R4を入力とするANDゲート20
と、R1−R4を入力とするANDゲート21とが設け
らており、さらに、AND゛ ゲート20の出力に結合
された制809子を有するトランジスタ22と、AND
ゲート21の出力に結合された制御端子を有するトラン
ジスタ23とからなる出力回路24が設けられている点
である。
より詳細に説明すると、トランジスタ22およびトラン
ジスタ23の各々の一方の導通端子は結合されてテスト
用外部出力端子25となり、トランジスタ22の他方の
導通端子は、メモリセルの画面テスト時にハイレベルの
一定電圧になる信号を供給する端子26に結合され、ト
ランジスタ23の他方の導通端子は接地されている。
次に、第1図に示したこの発明の一実施例の動作の概略
について説明する。
まず、メモリセルの機能テスト的に、メモリ試験装置く
図示せず)によってメモリセル・アレイ1を構成するす
べてのメモリセルにたとえば、論理値“0″を書込む。
各メモリセルが正常に様0ピしていれば、各メモリセル
からは書込まれた°O°′がそのまま読出されるであろ
うし、もしも゛°0″出力が得られなければ、そのメモ
リセルは不良セルと判定される。第1図の実施例におい
て、各メモリセルが正常に機能しているとすると、各前
置増幅器2ないし5によって読出された内部出力信号R
4〜R4は、予め書込まれた論理値と同一の°“0″と
なり、その相補的信号R1〜R4は°゛1″となる。
第1図に示すように、ANDゲート20は、4つの内部
出力信号R+ 、R2、R−およびR4の論理積信号R
′を出力し、ANDゲート21は、4つの内部出力信号
R,,R2、R,およびR4の論理積信号R=を出力す
る。すなわち、R1−R9がすべて“1″のときにのみ
、ANDゲート20の出力R−は′1″となり、それ以
外の場合にはR′は“O11となる。また、R7−R4
がす・べて1″のときにのみ、ANDゲート21の出力
頁7は°1″となり、それ以外の場合にはR=はO”と
なる。
すなわち、R7−R4がすべて1″のときには、その相
補的関係にある内部出力信号84〜8丁はすべてO”と
なるので、この場合、R=−11111、R+ m 1
10 ITとなる。
また、R,〜R4がすべて゛0″のときには、その相補
的関係にある内部出力信号R4〜R4はすべて1″とな
るので、この場合R= −” O”R−一゛1′°とな
る。
その他の場合、すなわちR4−R4に°′0″と°“1
″とが含まれる場合には、R4−R1にもII OII
と1″とが含まれ、R′およびR′はともに°0″とな
る。
次に、上述のようにR= −” 1 ” 、R”−゛0
″のときには、トランジスタ22がオン、1〜ランジス
タ23がオフとなる。端子26には、ハイレベルの信号
が供給されており、テスト用外部出力端子25には“1
”が出力される。すなわち、R5−R4がすべて1″の
ときに、同じ論理値” i ”がテスト用外部出力端子
25から出力される。
また、R−一“O”、R−−“1″のときには、トラン
ジスタ22がオフ、トランジスタ23がオンとなる。ト
ランジスタ23の一方の導通端子は接地(ローレベル)
されており、テスト用外部出力端子25には0″が出力
される。すなわち、R7−R4がすべて゛(Onのとき
に、同じ値110 IIがテスト用外部出力端子25か
ら出力される。
さらに、R−−” O” s R−= ” O” ’)
 トキLは、トランジスタ22およびトランジスタ23
は双方ともにオフとなり、テスト用外部出力端子25は
高インピーダンス状態となる。したがって、R4−R4
に0“と“1″の双方が含まれる場合、すなわち内部出
力信号R4〜R4に対応する4ビツトのメモリセルの中
に正常に殿能していないメモリセルが存在する場合には
、テスト用外部出力端子25には出力が現われない。
次に、第2図は、第1図に示したANDゲート20およ
び21と、第1図には示されていないがこれらのAND
ゲートに付随する各種回路の詳綱を示す図である。
次に、第2図に示した回路の構成について説明する。第
2図に示した回路は、大きくはANDゲート20と、A
NDゲート21と、クロック信号発生回路27と、ラッ
チ回路28と、ラッチ回路29とから構成されている。
ANDゲート20の4つの入力端子30〜33の各々に
は、前置増幅器2〜5から内部出力信号R7〜R4が与
えられる。端子34にはハイレベルの信号が供給されて
おり、トランジスタ35.36.37および38はオン
状態となっている。すなわち、内部出力信号R7〜R2
は、トランジスタ39.40.41および42の制御端
子に与えられる。一方ANDゲート21の4つの入力端
子43〜46の各々には、前置増幅器2〜5から内部出
力信@R+〜R7が与えられる。端子47には、ハイレ
ベルの信号が供給されており、トランジスタ48.49
゜506よび51はオン状態となっている。づ°なわち
、内部出力信号R4〜R1はトランジスタ52゜53.
54および55の制wJ端子に与えられる。
次に、クロック信号発生回路27は、トランジスタ56
および57から構成される。トランジスタ56の制(2
I]端子には、入力端子58を介して基本クロック信号
φ1−が常に与えられており、1−ランジスタ56の一
方の導通端子には、外部のメモリ試験装置(図示せず)
から機能テスト時にハイレベルとなるテストモード切換
信号TMが入力端子59を介して与えられる。また、ト
ランジスタ57の制御端子には、同じメモリ試験装置か
らテストモード切換信号TMを反転した信号TMが入力
端子60を介して与えられ、トランジスタ57の一方の
導通端子は接地される。トランジスタ568よび57の
各々の他方の導通端子は結合されて入力クロック信号φ
、をANDゲート20のトランジスタ39の導通端子と
ANDゲート21トランジスタ52の導通端子とに与え
る。
次に、ANDゲート20の出力すなわちトランジスタ4
2の一方の導通端子はラッチ回路28に結合される。こ
のラッチ回路28は、端子61に与えられる、φ1の立
上がりよりも早くローレベルに下がるクロック信号φ2
によってR′を予めii Or+状態にしておくための
回路である。また、ラッチ回路29も同様に、端子62
に与えられるφ2のタイミングでR−を予め“O″状態
しておくための回路である。、最後にA N Dゲート
20のAND出力R′は端子63に、ANDゲート21
のAND出力R−は端子64に与えられる。
次に、第3八図ないし第3D図は第2図に示した回路の
動作を説明するための波形図である。
次に、第3八図ないし第3D図を参照して第2区に示し
た回路の動作について説明する。まず、第3A図はテス
トモード時以外の通常の状態(以下、ノーマルモード)
における動作を表わしている。すなわち、外部のメモリ
試験装置からクロック信号発生回路27の端子59に与
えられるテストモード切換信号下Mは、第3A図(1ン
に示すようにローレベル(L)である。また、TMを反
転した信号TMは第3A図(5)に示すようにハイレベ
ル(H>であり、これによってトランジスタ57はオン
状態になっている。したがって、基本クロック信号φ1
−が第3A図(2)に示すように立上がっても、φ、は
第3A図(3)に示すように常にLレベルの信号である
。また、φ2が第3A図〈4)に示すようにHレベルの
ときには、ラッチ回路28および29が働いて、R′お
よびR′が第3A図(6)および(7)に示すようにL
レベルに保たれる。しかしながら、φ2が(4)に示す
ようにLレベルに下がった後でも、φ1が常にLレベル
なので、内部出力信号R1〜R,i15よびR1へR4
に関係なく、R−およびR−は双方ともに、第3A図く
6)および(7ンに示すようにLレベルすなわち○′″
となる。したがって、このテストモード時には第1図の
テスト用外部出力a子25には出力が現われない。
次に、第3B図は、テストモード時における動作を表わ
しており、特に、R1へR4が1″の場合を表わしてい
る。すなわち、この場合には第3B図(1)に示すよう
にTM倍信号常にHレベルであり、(5)に示すように
TM倍信号常にLレベルとなるので、トランジスタ57
は常にオフ状態となる。したがって、第3B図(2)お
よび(3)に示すように、基本クロック信号φ1 ′が
立上がると同時にクロック信号φ、が立上がる。
(4)に示すクロック信号φ2によってラッチ回路28
および29が動いている間は、R′およびR−は双方と
もにしレベルに1呆たれる。しかし、クロック信号φ2
がLレベルに下がった後は、R1へR4がすべて1″の
ために、トランジスタ39〜42がすべてオン状態とな
り、Hレベルのクロック信号φ、がR−に出力されてく
6)に示すようにR= −” 1″となる。また、R,
〜R4がすべて1″のときには、81〜尺4はすべて1
10 I+のため、トランジスタ52〜55はすべてオ
フ状態となり、R′はLレベルのrr Oprとなる。
したがってこのテストモード時には、第1図のテスト用
外部出力端子25には“1″の信号が出力される。
次に、第3C図は同じくテストモード時における動作を
表わしており、待にR1へR4が0″の場合を表わして
いる。すなわち、第3C図(1)に示すようにTM倍信
号常にHレベルであり、(5)に示すようにT M信号
はLレベルとなるので、トランジスタ57は常にオフ状
態となる。したがって、第3C図(2)および(3)に
示す、1:うに、基本クロック信号φ、′が立上がると
同時に、クロック信号φ1が立上がる。く4〉に示すク
ロック信号φ2によってラッチ回路28および29が動
いている間は、(6)および(7)に示すようにR−お
よびR′はLレベルである。しかし、クロック信号φ2
が(4ンに示すようにLレベルに下がった後は、R4へ
R4がすべてO′′のため、トランジスタ39〜42は
すべてオフ状態となり、R′の出力はLレベルの○″と
なる。
一方、R5−R4がすべて0″のときはR,〜E−はす
べて゛1パのため、トランジスタ52〜55はすべてオ
ン状態となり、(7)に示すようにHレベルのφ、がR
′に出力されてR= −” 1 ”となる。したがって
、このテストモード時には第1図のテスト用外部出力端
子25には” o ”の信号が出力される。
次に、第3D図は同じくテストモード時における動作を
表′わしており、特に、R,−R4に○″と′1″とが
含まれる場合を表わしている。すなわち、第30図〈1
)に示すようにTM倍信号常にHレベルであり、(5)
に示すようにT M +=号は常にLレベルとなるので
、トランジスタ57は常にオフ状態となる。したがって
、第3D図(2)および(3)に示すように、基本りO
ツク信号φ、−が立上がると同時にクロック信号φ、が
立上がる。(4〉に示すクロック信号φ2によってうッ
チ回路28および2つが働いている間は、(6)および
(7)に示すようにR=およびR−はトルベルである。
そして、クロック信号φ2が(4)に示すようにトルベ
ルに下がった後でも、R1−R4のいずれかは0″であ
るため、トランジスタ39〜42のいずれかがオフ状態
となり、R=の出力は(6)に示すようにトルベルの0
″となる。一方、R4−R4のいずれかも0″であるた
め、トランジスタ52〜55のいずれかがオフ状態どな
り、R′の出力は(7)に示ずようにトルベルの“0″
となる。したがって、このテストモードOLには、第1
図のテスト用外部出力端子25は高インピーダンス状態
となり、出力が現われない。
さらに、第1図に示した出力回路24を1増幅器18に
組み入れ、テストモード切換信号TMの切換えによって
1つの外部出力端子19から、ノーマルモードの外部出
力と、第1図の実施例でテスト用外部出力端子25から
出力されたテストモードのテスト外部出力とを交互に出
力することも可能である。
第4図は、上述のようにテスト用の外部出力回路を並ね
た主増幅器18の回路図である。まず、第4図に示す回
路の溝底について説明する。
端子65には、従来のサブデコード信号によって選択さ
れた内部信号Rが与えられ、端子66にも同じくサブデ
コード信号によって選択された内部信号Rが与えられる
。さらに、端子67および68には、ANDゲート2o
の出力R′が与えられ、端子69および70には、AN
Dゲート21の出力R−が与えられる。また、端子71
にはTM倍信号反転したTM倍信号与えられ、端子72
には主増幅器全体を活性化する信号φ4が与えられ、端
子73には主増幅器活性化前のイコライズ信号φ5が与
えられ、端子74には同じイコライズ信号φ6が与えら
れる。トランジスタ75および76は、φ4によって主
増幅器全体が活性化される前に、ノードN1およびN2
をトルベルにする信号φフを発生するための回路である
。端子65に与えられたRは、TMによって制御される
トランジスタ77を介して、活性化信号φ4に結合され
たトランジスタ78の制御端子に結合される。
また、端子66に与えられたRは、TMによって制御さ
れるトランジスタ79を介して、活性化信号φ4に結合
されたトランジスタ80の制tlIl喘子に結合される
。さらに、トランジスタ78の一方の導通端子は、出力
回路を構成するトランジスタ81の制御端子に結合され
、トランジスタ80の一方の導通端子は同じく出力回路
を構成するトランジスタ82の制御端子に結合される。
また、9+il子67に与えられたR′は、トランジス
タ83の制wJ端子に与えられ、端子84から供給され
るトルベルの一定電圧の信号はトランジスタ83を介し
てトランジスタ78の制tfil端子に結合される。
また、端子69に与えられたR′はトランジスタ85の
制御端子に与えられ、端子86から供給されるトルベル
の一定電圧の信号はトランジスタ85を介してトランジ
スタ80の制m端子に結合される。また、TM倍信号テ
ストモードのトルベルのときに、トランジスタ71はオ
フとなり、基本クロック信号φ7′が入力クロック信号
φ、として、トランジスタ75の一方の導通端子から出
力され、トランジスタ87および88のt!f’l ’
50 N子に与えられる。さらに、端子7oに与えられ
たR=はトランジスタ8つの$1 flu ’IN子に
結合され、端子68に与えられたR−はトランジスタ9
0の制御端子に結合される。
端子91にはトルベルの信号が供給されているため、ト
ランジスタ81の制御KIQ’M子にトルベルの信号が
、トランジスタ82の制御端子にトルベルの信号が与え
られたときに、外部出力端子1つにはトルベルの信号I
I 1 I+が出力され、トランジスタ81の制mQ子
にトルベルの信号が、トランジスタ82の制御2I]端
子にトルベルの信号が与えられたときに、外部出力端子
1つにはトルベルの信号+i 0 nが出力され、トラ
ンジスタ81および82の双方の制御端子にトルベルの
信号が与えられたときには、外部出力端子19は高イン
ピーダンス状態(開放状態)となる。
次に、第5八図ないし第5D図は第4図に示した回路の
動作を説明するための波形図である。
次に、第5八図ないし第5D図を参照して、第4図に示
した回路の動作について説明ツる。まず、第5A図はノ
ーマルモードにおける動作を表わしている。すなわち、
T M信号はLレベルであり、T :’vl信号は1(
レベルであり、1−ランジスタフ7および7つはオン状
態となる。したがって、RおよびRは、トランジスタ7
8および80の制御911子に与えられる。次に、(5
)に示すタイミングで、φ、がHレベルに立上がると、
キれ以後はトランジスタ78の制御端子に与えられてい
る信号Rがトランジスタ81の制御端子に与えられ、ト
ランジスタ80のtlJ 121]端子に与えられてい
る信号Rがトランジスタ82の制御端子に与えられ、外
部出力端子1つからは(10)に示すようなノーマル・
モードの信号が出力される。
次に、第5B図は、テストモードにおいて、待にR′−
“’1”(R+〜R,−”1”ンかつR−一“○”(R
,〜R,−”O”)の場合の動作を説明するための波形
図である。この場合、TM倍信号Hレベルであり、TM
倍信号Lレベルであり、トランジスタ77および7つは
オフ状態となる。
次に(5)に示すタイミングでφ4がHレベルに立上が
ると、それ以後はトランジスタ83の制御端子に与えら
れているR−がトランジスタ81の制till 端子に
与えられ、トランジスタ85の制(21Ii子に与えら
れているR′がトランジスタ82の制御2(I端子に与
えられ、外部出力端子19からはく10)に示すように
、R4−R4と等しい論理値111 I+が出力される
次に、第5C図は、テストモードにおいて、待にR−−
”O”  (R+ 〜R4−”O” ) かつF< −
=″“1” (R,〜R,−”1”)の場合の動作を説
明するための波形図である。すなわち、TM倍信号Hレ
ベルであり、TM倍信号Lレベルであり、トランジスタ
77および79はオフ状態となり、次に(5)に示すタ
イミングでφ4がHレベルに立上がると、それ以後はト
ランジスタ83の制御端子に与えられているR′がトラ
ンジスタ81の制tIIitf子に与えられ、トランジ
スタ85の制’IfJ’A子に与えられているR−がト
ランジスタ82の制御ION子に与えられ、外部出力端
子19からは(10)に示すようにR4−R4と等しい
論理値“O゛が出力される。
次に、第5D図はテストモードにおいて、待にR” −
”○” (R+ 〜R4ニ”O” (!: ”1 ” 
トlfiと1″とが含まれる)の場合の動作をHit明
するための波形図である。この場合、TM倍信号Hレベ
ルであり、TM倍信号Lレベルであり、トランジスタ7
7および7つはオフ状態となる。次に(5)に示すタイ
ミングでφ4がHレベルに立上がると、それ以後はトラ
ンジスタ83の制91目11子に与えられているR′が
トランジスタ81の制911端子に与えられ、トランジ
スタ85の制御11子に与えられているR−がトランジ
スタ82の制御9:11子に与えられ、外部出力端子1
9は(10〉に示すように高インピーダンス状態となる
以上のように、ANDゲートを用いて4ビツトのメモリ
セルの記憶内容を1つのAND出力信号(4ピツトI退
信丹)にまとめることによって、外部出力端子から出力
された論理値が4ビツトのメモリセルのすべてに記憶さ
れているものと判断することができ、その論理値がテス
トのためにメモリセルに予め書込んだ論理値と等しけれ
ば、4ビツトのメモリセルはすべて正しく機能している
ものと考えることができ、また、論理頃が出力されない
とき、すなわち外部出力端子が高インピーダンス状態の
ときには、4ビツトのメモリセルの中に“o″を記憶し
ているメモリセルと1″を記憶しているメモリセルとが
含まれており、少なくとも1つのメモリセルが不良であ
ることがわかる。
なお、このような場合4ビツトのメモリセルの  ・中
からさらに不良セルを1存定する必要があるときは、テ
ストモードをノーマルモードに切換え、不良セルが含ま
れている4ピツ1へのメモリセルのグループを通常の読
出手段によって順次読出し、1ビツトずつ判定すればよ
い。
また、上述の実施例では、1つの外部出力信号に対し4
ビツトのメモリセルがら記憶内容が読出される半導体記
憶¥i置について説明したが、これは何ビットであって
もよく、半導体記憶装置iffの型式も上述のダーrナ
ミック型半導体記憶賃買に限らずどのような型式のもの
であってもよい。
ざらに、複数ピッ1〜の並列]込手段をiRね(佑えれ
ば、さらにテスト時間を短縮できることは明白で6)る
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、簡単な回路構成の論
理回路を複数ビット(nビット)のメモリセルごとに1
つ設けることに才って、nビットのメモリセルの根面テ
ストをnビットごとにまとめて同時に行なうことができ
るので、機能テスト時のメモリセルのテス1へ時間を1
ピツトあたり1/’nに短縮することができ、大容蚤の
半導体記憶装置であっても、そのテスト時間を大幅に短
縮づ゛ることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の電気的イ苫成を示す概略
ブロック図である。第2図は第1図に示したA N D
ゲートの詳細を示す回路図である。第3八図ないし第3
D図は、第2図に示した回路の動作を説明するための波
形図である。第4図はこの発明の一実施例を構成する主
増幅器の回路図である。第5八図ないし第5D図は第4
図に示した回路の動作を説明するための波形図である。 第6図は従来の半導体記憶装置の電気的構成を示す概略
ブロック図である。 図において、1はメモリセル・アレイ、2.3゜4.5
は前置増幅器、18は主増幅器、1つは外部出力端子、
2o、21はANDゲート、24は出力回路、25はテ
スト用外部出力端子、27はクロック信号発生回路、2
8.29はラッチ回路を示す。 第3A l固 (7)  R’  L 第3C図 (+)TMH (7)マ 、□ 1区n1&り纜 d ≧俟 主5  Σ←   へ1ヒ 更 倉♀ Q ’−OC’−cts O’)  ?’:
3++/ ++/  ++/ +/  ++/  +7
  −    ν ν   Q既ソ1シシよ ば ばζ
 ξ貰 3 L:2 士 リ 菅 鋤 89 3旧Σ−ばば5省
書芸二

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数ビットのメモリセルと、 前記メモリセルの各々に保持されている論理値を読出し
    て出力する複数の内部出力信号発生手段と、 前記複数の内部出力信号発生手段の各々から出力される
    複数の論理値の中からn(nは2以上の整数)ビットご
    とに1つの論理値を選択して出力する少なくとも1つの
    信号選択手段と、 前記信号選択手段ごとに選択された論理値を出力する外
    部出力端子とを有する、半導体記憶装置であつて、 前記内部出力信号発生手段から出力される論理値がすべ
    て同一のときに、当該論理値を出力する論理回路手段と
    、 前記メモリセルの機能テスト時にのみ、前記論理回路手
    段を機能させるためのテストモード切換手段とを備えた
    、半導体記憶装置。
  2. (2)前記内部出力信号発生手段は、前記論理値と相補
    的関係にある論理値を出力し、 前記論理回路手段は、 出力端子と、 一定電圧の信号を供給する信号源と、 前記内部出力信号発生手段から出力される論理値の中か
    らnビットの論理値の論理積を出力する第1の論理積回
    路と、 前記nビットの論理値の各々と相補的関係にある論理値
    の論理積を出力する第2の論理積回路と、前記第1の論
    理積回路の出力を入力とする制御端子と、前記信号源に
    接続された第1の導通端子と、前記出力端子に接続され
    た第2の導通端子とを有する第1のスイッチング手段と
    、 前記第2の論理積回路の出力を入力とする制御端子と、
    接地された第1の導通端子と、前記出力端子に接続され
    た第2の導通端子とを有する第2のスイッチング手段と
    を含む、特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
  3. (3)前記論理回路手段の出力は、前記外部出力端子を
    介して出力される、特許請求の範囲第1項記載の半導体
    記憶装置。
JP59183020A 1984-08-30 1984-08-30 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JPH0612640B2 (ja)

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KR1019850005459A KR900005666B1 (ko) 1984-08-30 1985-07-29 반도체기억장치
US06/762,632 US4692901A (en) 1984-08-30 1985-08-05 Semiconductor memory
DE19853530591 DE3530591A1 (de) 1984-08-30 1985-08-27 Halbleiterspeicher

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63140499A (ja) * 1986-12-03 1988-06-13 Toshiba Corp 半導体記憶装置

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JPS57105897A (en) * 1980-12-23 1982-07-01 Fujitsu Ltd Semiconductor storage device
JPS57179997A (en) * 1981-04-25 1982-11-05 Toshiba Corp Semiconductor memory
JPS57208697A (en) * 1981-06-16 1982-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device

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