JPS6160692A - ジフエニルホスフインフエニル‐m‐スルホン酸、フエニルホスフイン‐ジ(m‐フエニルスルホン酸)および/またはトリフエニルホスフイン‐トリ(m‐スルホン酸)の塩の分離および精製法 - Google Patents
ジフエニルホスフインフエニル‐m‐スルホン酸、フエニルホスフイン‐ジ(m‐フエニルスルホン酸)および/またはトリフエニルホスフイン‐トリ(m‐スルホン酸)の塩の分離および精製法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/505—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation
- C07F9/5095—Separation; Purification; Stabilisation
-
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- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/505—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation
- C07F9/5054—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation by a process in which the phosphorus atom is not involved
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明ヲ工、ゾフェニルホスフィンフェニルーコースル
ホン戚、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルスルホ
/戚)および/ま九はトリフェニルホスフィン−トリ(
m−スルホ7tR)の塩を、水溶液O1ら分離および桶
゛製する方法に関する。
ホン戚、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルスルホ
/戚)および/ま九はトリフェニルホスフィン−トリ(
m−スルホ7tR)の塩を、水溶液O1ら分離および桶
゛製する方法に関する。
従来の技術
スルホン化トリアリールホスフィンおよびその塩は公知
であろうそこで、ヰ トリフェニルホスフィンを@燻減故で処理し、引続き反
応混合物をIIa札水ば化ナトリウム溶液で中和するこ
とにより、ジフェニルホスフィンフェニル−m−スルホ
ン酸のNajlが得られる〔チャツト アーラント(C
habt Ahrland )、1シヤーナル オシ
ケミカル ソサイエテイ−(、T、 Chem、 8
0(!、 ) ” 1958年、第276ペーゾ〕。反
応条件、殊に反応時間および反応[jrtらびにトリフ
ェニルホスフィン対三戚化滅黄の比を変えることにより
、シーおよびトリスルホン化化会物フェニルホスフィン
−ジ(m−フェニルスルホンff1)およびトリフェニ
ルホスフィン−トリ(m−スルホン酸)ないしはその塩
が得られる。
であろうそこで、ヰ トリフェニルホスフィンを@燻減故で処理し、引続き反
応混合物をIIa札水ば化ナトリウム溶液で中和するこ
とにより、ジフェニルホスフィンフェニル−m−スルホ
ン酸のNajlが得られる〔チャツト アーラント(C
habt Ahrland )、1シヤーナル オシ
ケミカル ソサイエテイ−(、T、 Chem、 8
0(!、 ) ” 1958年、第276ペーゾ〕。反
応条件、殊に反応時間および反応[jrtらびにトリフ
ェニルホスフィン対三戚化滅黄の比を変えることにより
、シーおよびトリスルホン化化会物フェニルホスフィン
−ジ(m−フェニルスルホンff1)およびトリフェニ
ルホスフィン−トリ(m−スルホン酸)ないしはその塩
が得られる。
水戚化六トリクムの代わりに、スルホ/化漏金物の中和
のために他の塩基も使用できる。この方法で、たとえは
カリウム塩およびアルカリ土類金編塩をJul、反応混
合物から結晶性に分離することができる。ナトリウム塩
のような水暦性塩を錫イオン父戻体で処理すると、遊離
スルホン咳か住じる。それを水酸化物または炭ば塩で中
オロするのは、他の化合物の製法である。
のために他の塩基も使用できる。この方法で、たとえは
カリウム塩およびアルカリ土類金編塩をJul、反応混
合物から結晶性に分離することができる。ナトリウム塩
のような水暦性塩を錫イオン父戻体で処理すると、遊離
スルホン咳か住じる。それを水酸化物または炭ば塩で中
オロするのは、他の化合物の製法である。
それで・一般式” ” (Rx Ra R81IR4)
” C式中R1r a、 r ”3 r R4はそのつ
ど直鎖ま九は分枝のC1〜C4−ア)vギル基を表わす
jの闇イオンf!:’4する拍−1亜瘤−1銅−、アン
モニウム−1@4アンモニウム塩は、その水%[の形で
、および物に減圧下に#@繭縮故固形切とし【得ること
ができる。
” C式中R1r a、 r ”3 r R4はそのつ
ど直鎖ま九は分枝のC1〜C4−ア)vギル基を表わす
jの闇イオンf!:’4する拍−1亜瘤−1銅−、アン
モニウム−1@4アンモニウム塩は、その水%[の形で
、および物に減圧下に#@繭縮故固形切とし【得ること
ができる。
スルホン化トリアリールホスフィノのjJH文、化学工
粟の櫨々の分野で使用きれる。英国特奸第100626
1号明細曹によれは1 これらは1与具乳剤に、かぶり
防止Allとして奈部される@西ドイツlJ特許第27
63516号明n梱沓には、ジエンと可動注水素原子を
仔する化合物とを、遷移金属、殊にバラックムまたは周
期表#c8族の遷移金属化合物および一般武: P(C
6H4SO3MJn(C6Ef5)ill−n の水
杉性トリアリールホスフィンから成る、触媒の存在で反
応式せることによるジエンのテロマー化万成が記載され
ている0工チレン性二直結合少なくとも1つを胃する何
機化合物に対する77/化水素の何/XIは、西−イツ
l!ii特ff塔2700904号明細書により、ニッ
ケル、鉄ま九はバラックムの化合物のはかに、トリフェ
ニルホスフィンスルホネート’1t4tfる、触媒系の
存在で行なわれる、西−イツ国特許第2627354号
明則畳に記載され友、オレフィンに対する一酸化炭素お
よび水素の付加によるアルデヒrの製法は、触媒として
ロジウムのはかに、水浴性スルホン化アリールホスフィ
ンを使用する。
粟の櫨々の分野で使用きれる。英国特奸第100626
1号明細曹によれは1 これらは1与具乳剤に、かぶり
防止Allとして奈部される@西ドイツlJ特許第27
63516号明n梱沓には、ジエンと可動注水素原子を
仔する化合物とを、遷移金属、殊にバラックムまたは周
期表#c8族の遷移金属化合物および一般武: P(C
6H4SO3MJn(C6Ef5)ill−n の水
杉性トリアリールホスフィンから成る、触媒の存在で反
応式せることによるジエンのテロマー化万成が記載され
ている0工チレン性二直結合少なくとも1つを胃する何
機化合物に対する77/化水素の何/XIは、西−イツ
l!ii特ff塔2700904号明細書により、ニッ
ケル、鉄ま九はバラックムの化合物のはかに、トリフェ
ニルホスフィンスルホネート’1t4tfる、触媒系の
存在で行なわれる、西−イツ国特許第2627354号
明則畳に記載され友、オレフィンに対する一酸化炭素お
よび水素の付加によるアルデヒrの製法は、触媒として
ロジウムのはかに、水浴性スルホン化アリールホスフィ
ンを使用する。
スルホ/化アリールホスフィンの公知製法の欠点は、多
数の111生成物、味IC櫨々のアリールホスフィンオ
キ7ドおよびアリールホスフィンスルフィドの形成であ
る。これらの晶@−吻からの純粋な化合物の製造は、費
用のかかり01つ損失の多い11■によって達成される
にすぎない。
数の111生成物、味IC櫨々のアリールホスフィンオ
キ7ドおよびアリールホスフィンスルフィドの形成であ
る。これらの晶@−吻からの純粋な化合物の製造は、費
用のかかり01つ損失の多い11■によって達成される
にすぎない。
純粋な化合物な製造する尿の進歩は、西タイツ国特粁第
5zs5o6o号明、國薔に記載され7を炸薬方法であ
る。これによれは、スルホン化生成物は、水に4浴の浴
剤中の水に4浴のアミンの浴歇で処理する。胃機相中に
存在するスルホン化トリアリールホスフィンは、塩基の
水溶液を用いて、丹び水相中へ移し、最後にこれから単
離することができる。
5zs5o6o号明、國薔に記載され7を炸薬方法であ
る。これによれは、スルホン化生成物は、水に4浴の浴
剤中の水に4浴のアミンの浴歇で処理する。胃機相中に
存在するスルホン化トリアリールホスフィンは、塩基の
水溶液を用いて、丹び水相中へ移し、最後にこれから単
離することができる。
相当する方法は、その活性が諷少した、触媒糸o−ラス
ルホン化トリフェニルホスフィンを回収および積装する
ためにも通してする。
ルホン化トリフェニルホスフィンを回収および積装する
ためにも通してする。
即ち、上記に例示した方法くおいて使用される、とりわ
けスルホン化トリフェニルホスフィンを言脣する触媒系
は、一連のt占性減少性影響′ft51する。そこで九
とえは、反応の間装置部分に開成化炭素が作用すること
により形成石れる鉄カルボニルが准媒4として作用する
。スルホン化トリフェニルホスフィンは、部分的に不活
性ホスフィンオキシトに酸化されるf)s、 または
同様に不活性の反応生成物ペンゾールスルポンばの形成
下に分解する。
けスルホン化トリフェニルホスフィンを言脣する触媒系
は、一連のt占性減少性影響′ft51する。そこで九
とえは、反応の間装置部分に開成化炭素が作用すること
により形成石れる鉄カルボニルが准媒4として作用する
。スルホン化トリフェニルホスフィンは、部分的に不活
性ホスフィンオキシトに酸化されるf)s、 または
同様に不活性の反応生成物ペンゾールスルポンばの形成
下に分解する。
記載されたように、スルホン化トリフェニルホスフィン
ないしはそれらの壜ン1そのd zA (’)際生じる
反応混合物からffC,は不活性になった触媒糸01ら
大きな出費なしに製造することかり能ではあるが、それ
を水溶液から分離および精練する量率な方法への関心が
存在する。珠に〜使用ず一’+11触媒系の後処理の際
、スルホン化フェニルホスフィンを選択的に分離して、
これが触媒の金属成分?言傅しないようにすることが望
ましい。
ないしはそれらの壜ン1そのd zA (’)際生じる
反応混合物からffC,は不活性になった触媒糸01ら
大きな出費なしに製造することかり能ではあるが、それ
を水溶液から分離および精練する量率な方法への関心が
存在する。珠に〜使用ず一’+11触媒系の後処理の際
、スルホン化フェニルホスフィンを選択的に分離して、
これが触媒の金属成分?言傅しないようにすることが望
ましい。
前述の課題は、本発明による、ノフェニルホスフィンフ
ェニルーm−スルホン酸、フェニルホスフィ/−シー(
m−フェニルスルホン酸)および/またはトリフェニル
ホスフィン−トリ(m−スルホンfi)の塩の分離およ
び椙JJI法により解決され、該方法は、上記スルホノ
ばの1櫨ま几は数種またはその堰の水溶液に、当鎗また
は過剰のシー(n−(ンデル)アミンまたはジ−(n−
ヘキシル)アミンま九はこれらアミンの水溶性塩な側底
、その際アミンないしはアミン塩の麻IJ:J鏝、水溶
液の間両はく7であり、生じ九沈賊物を分離し、洗浄し
、引続き塩基の水溶液と反応させることを特鹸とする。
ェニルーm−スルホン酸、フェニルホスフィ/−シー(
m−フェニルスルホン酸)および/またはトリフェニル
ホスフィン−トリ(m−スルホンfi)の塩の分離およ
び椙JJI法により解決され、該方法は、上記スルホノ
ばの1櫨ま几は数種またはその堰の水溶液に、当鎗また
は過剰のシー(n−(ンデル)アミンまたはジ−(n−
ヘキシル)アミンま九はこれらアミンの水溶性塩な側底
、その際アミンないしはアミン塩の麻IJ:J鏝、水溶
液の間両はく7であり、生じ九沈賊物を分離し、洗浄し
、引続き塩基の水溶液と反応させることを特鹸とする。
鳶い九ことに、シー(n−ペンチル)アきノおよびクー
(n−ヘキシル)アミンはジフェニルホスフィノフェニ
ル−m−スルホン酸、フェニルホスフィン−ジ−(m−
フェニルスルホン酸)およびトリフェニルホスフィンー
トIJ (m−スルホン酸〕とは水および無極性N機m
剤に4!W性の塩を生じ、このものは固形で分離し、良
好に暉過OfrMであり、水で容易に十分に洗浄できる
。この特注により、これは他のアミンの塩と明らosv
c区別される。そこで、友とえはシー(n−グテルンア
ば)およびトリー’(n−グチル)アばンの相当するス
ルホネートは水に易mである。従って、これは上述の咳
を、その水溶液から分離する九めには適していない。こ
れとは異なり、シー(n−オクチルアミンおよびトリー
(n−オクチルアミ/)のスルホネートは、水にdaで
あり、非または弱他a膏機浴剤に湯浴であり、油状から
7aツデ状の性質のものである。これは櫨々の不純物、
たとえはスルホン化トリフェニルホスフィンオキ7げの
アミン塩を餅かし、従ってホスフィノスルホンばないし
はそれらの塩のqll−のためには通していない。
(n−ヘキシル)アミンはジフェニルホスフィノフェニ
ル−m−スルホン酸、フェニルホスフィン−ジ−(m−
フェニルスルホン酸)およびトリフェニルホスフィンー
トIJ (m−スルホン酸〕とは水および無極性N機m
剤に4!W性の塩を生じ、このものは固形で分離し、良
好に暉過OfrMであり、水で容易に十分に洗浄できる
。この特注により、これは他のアミンの塩と明らosv
c区別される。そこで、友とえはシー(n−グテルンア
ば)およびトリー’(n−グチル)アばンの相当するス
ルホネートは水に易mである。従って、これは上述の咳
を、その水溶液から分離する九めには適していない。こ
れとは異なり、シー(n−オクチルアミンおよびトリー
(n−オクチルアミ/)のスルホネートは、水にdaで
あり、非または弱他a膏機浴剤に湯浴であり、油状から
7aツデ状の性質のものである。これは櫨々の不純物、
たとえはスルホン化トリフェニルホスフィンオキ7げの
アミン塩を餅かし、従ってホスフィノスルホンばないし
はそれらの塩のqll−のためには通していない。
シフェニルホスフイツクエニルーm−スルホン酸、フェ
ニルホスフィンーゾ(m−フェニルスルホン酸)オよび
/マたはトリフェニルホスフィン−トリ(m−スルホン
酸)の分離および稽裏のためには、#親方法により、7
− (n −ペンチル)アミ/またを裏シー(n−へキ
シル)アミンを使用する。これは純粋な形、即ち浴剤に
より布択せずに使用される。アミンの・代わりに、その
水M注嵯も、工槓試榮として使用することができる。ア
ミン塩は有利に、より高い関度のトリフェニルホスフィ
ンスルホン酸MOを用いて作業するO)、または特に純
粋な沈殿物を得よ5とするときに選択される。このよ5
な場合、アミンに比してより良好な水に対するアミン塩
のm確度は、分離工程を容易にしかつ促進する。4当な
アミン塩は、たとえばハロゲン化物、酢戚項および珠に
@C岐塩および晩成水素塩である。銅1貢埴のような、
酸化作用性成のアミン埴は、オスフィンかホスフィ/オ
キ7ドへ変わる可能性があるために、さほど4当ではな
h0アミンないしはアミン塩の麻加後、トリフェニルス
ルホン酸をその塩の形で沈殿させ友、水相を裏、スルホ
ン酸かアミンと相当する塩を形成するのを1′値実にす
る九めに、く7のP)11曲を何しなければならない。
ニルホスフィンーゾ(m−フェニルスルホン酸)オよび
/マたはトリフェニルホスフィン−トリ(m−スルホン
酸)の分離および稽裏のためには、#親方法により、7
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シル)アミンを使用する。これは純粋な形、即ち浴剤に
より布択せずに使用される。アミンの・代わりに、その
水M注嵯も、工槓試榮として使用することができる。ア
ミン塩は有利に、より高い関度のトリフェニルホスフィ
ンスルホン酸MOを用いて作業するO)、または特に純
粋な沈殿物を得よ5とするときに選択される。このよ5
な場合、アミンに比してより良好な水に対するアミン塩
のm確度は、分離工程を容易にしかつ促進する。4当な
アミン塩は、たとえばハロゲン化物、酢戚項および珠に
@C岐塩および晩成水素塩である。銅1貢埴のような、
酸化作用性成のアミン埴は、オスフィンかホスフィ/オ
キ7ドへ変わる可能性があるために、さほど4当ではな
h0アミンないしはアミン塩の麻加後、トリフェニルス
ルホン酸をその塩の形で沈殿させ友、水相を裏、スルホ
ン酸かアミンと相当する塩を形成するのを1′値実にす
る九めに、く7のP)11曲を何しなければならない。
このために、アミンでの沈IIj!12を、過剰のばを
富何するm液から行なうことか必要である。過剰の或を
含有しない水溶液にも一アミンおよびばを同時に礪加す
るかま九はj6t41Jにアミンを触部し、その説に酸
を礪加することもできる。この目的の定めに會裏、瞳改
を使用することがと(に有利であることが立証されたが
、塩酸または酢ばのような市の非酸化性1g/も適当で
ある。最後に、中性ま7こを工藏注m漱をアミン塩と反
応させることもできる。
富何するm液から行なうことか必要である。過剰の或を
含有しない水溶液にも一アミンおよびばを同時に礪加す
るかま九はj6t41Jにアミンを触部し、その説に酸
を礪加することもできる。この目的の定めに會裏、瞳改
を使用することがと(に有利であることが立証されたが
、塩酸または酢ばのような市の非酸化性1g/も適当で
ある。最後に、中性ま7こを工藏注m漱をアミン塩と反
応させることもできる。
アミンな−しはアミン塩は、トリフェニルスルホン酸に
対し、当tま几は過剰に使用される。
対し、当tま几は過剰に使用される。
有利に、1.0〜1.5倍当鑞のアミンないしはアミン
塩を用いて作業する。
塩を用いて作業する。
大過剰の沈殿剤は、ジフェニルホスフィンフェニル−1
0−スルホン酸、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニ
ル−スルホンV>およヒドリフェニルホスフィン−トリ
(m−スル*7Gg−)以外のm液の成分も分離するこ
とVcなゐ◎これらは、トリフェニルホスフィンスルホ
ネートの固形tJ:、jG物上に粘稠ないし70ノブ状
の層を形成し、核層はトリフェニルホスフィンスルホネ
ートとは異なり、胃FAm剤、殊に脂肪族および芳香族
炭化水素または水に%解し、d易に除去することができ
る。その醒屏力を薦りる比的に、炭化水素に、なお2−
エチルへキテノールのような、8以上の炭4原子を何す
るアルコール、たとえは2−エチルへキテノールを添加
することができる。6〜6の炭素原子を有するアルコー
ルハ、トリフェニルホスフィンスルホン酸のシー(n−
ベンチルンアミンーおよびシー(n−ヘキゾル)アミン
塩をM屏し、従って炭化水素への礒加物としては適当で
ない。
0−スルホン酸、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニ
ル−スルホンV>およヒドリフェニルホスフィン−トリ
(m−スル*7Gg−)以外のm液の成分も分離するこ
とVcなゐ◎これらは、トリフェニルホスフィンスルホ
ネートの固形tJ:、jG物上に粘稠ないし70ノブ状
の層を形成し、核層はトリフェニルホスフィンスルホネ
ートとは異なり、胃FAm剤、殊に脂肪族および芳香族
炭化水素または水に%解し、d易に除去することができ
る。その醒屏力を薦りる比的に、炭化水素に、なお2−
エチルへキテノールのような、8以上の炭4原子を何す
るアルコール、たとえは2−エチルへキテノールを添加
することができる。6〜6の炭素原子を有するアルコー
ルハ、トリフェニルホスフィンスルホン酸のシー(n−
ベンチルンアミンーおよびシー(n−ヘキゾル)アミン
塩をM屏し、従って炭化水素への礒加物としては適当で
ない。
gT現方法は、水1G液で存在する、クフェニルホスフ
ィン7工品ルーm−スルホン酸、クエニルホスフインー
ゾ(m−フェニルスルホン酸)およびトリフェニルホス
フィン−トリ(m−スルホン酸)を分離および積装すゐ
のに過当である。2つまたは全6つの化合物を同時に倉
何すル蕗漱から、該化合物は、シー(Q−ペンテノ9ア
ミンおよびシー(n−ヘキシル)アミンまたはその塩に
よって一紹に沈殿するつ多(の使用4Aレリには、たと
えば触媒成分として、使用する一合1cは、2つまたは
6つのスルホン酸の混合物を使用することかできるので
、モノスルホンば、ジスルホンばおよびトリスルホン1
31[分離する必要はない。
ィン7工品ルーm−スルホン酸、クエニルホスフインー
ゾ(m−フェニルスルホン酸)およびトリフェニルホス
フィン−トリ(m−スルホン酸)を分離および積装すゐ
のに過当である。2つまたは全6つの化合物を同時に倉
何すル蕗漱から、該化合物は、シー(Q−ペンテノ9ア
ミンおよびシー(n−ヘキシル)アミンまたはその塩に
よって一紹に沈殿するつ多(の使用4Aレリには、たと
えば触媒成分として、使用する一合1cは、2つまたは
6つのスルホン酸の混合物を使用することかできるので
、モノスルホンば、ジスルホンばおよびトリスルホン1
31[分離する必要はない。
そこで有利に、トリフェニルホスフィンのスルホン化の
喉に生じるゾフェニルホスフィンフユニルーm−スルホ
ン酸、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルスルホン
酸)およびトリフェニルホスフィン−トリ(m−スルホ
ン酸)ヲ宮臀するm液をIjL接に、つまり先行する4
1改工橿なしに、使用することができる。之んに、瞳散
濃度をさげるために、これを水で布択してすることが心
安であるにすぎない。これは広い範囲に及ぶことができ
、これを溶液に対し、杓20〜約50重膚饅の直に調節
するのが有利であることが立証された。
喉に生じるゾフェニルホスフィンフユニルーm−スルホ
ン酸、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルスルホン
酸)およびトリフェニルホスフィン−トリ(m−スルホ
ン酸)ヲ宮臀するm液をIjL接に、つまり先行する4
1改工橿なしに、使用することができる。之んに、瞳散
濃度をさげるために、これを水で布択してすることが心
安であるにすぎない。これは広い範囲に及ぶことができ
、これを溶液に対し、杓20〜約50重膚饅の直に調節
するのが有利であることが立証された。
金属成分のはかにゾフェニルホスフインク二二ルーm+
スルホン葭、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルス
ルホン酸)および/マ之はトリフェニルホスフィン−)
jj(m−スルホノ酸)をその埴の形で含有する、不粘
性にされた触媒水溶液からも、本元明による方法ンこよ
り、スルホン酸を困蛾なしVcOXつ純粋な形で分離で
きる。このためには、何機glitおよび水溶液を、互
いに分離しなければならない。スルホン酸含有水相は、
前処理なしに、殊に予め414しないで使用できる。之
んに、沈殿物の形成のために必要なP)′1価が存在す
ることに注意すれはよい口また場合により、溶液に、酸
、有利にV&戚を添加することもできる。スルホン酸の
分離後に残留する水相は、なお触媒系の金鵡成分をIv
sして言膏し、その回収の九めにさらに処理することが
できる。新規方法は、ジェノのテロマー化の鑵、7ア/
化水素をエチレン性不紹和化合物に付加する場合および
オンフィンと一酸化炭素および水素との反応(ヒドロホ
ルミル化)の際に生じる触媒水溶液を後処理する場合、
とくに有利であることが立証された。水溶液は、スルホ
ン酸のほかになお他の浴Sされた成分な會奮し′″Cい
てよい。殊にこれ(入るのは、フェニルホスフィン−ス
ルホン酸からさらに反応させることにより形成されるホ
スフィンオキシPおよびホスフィンスルフィド、および
リンー炭イら結合の分離により形成されるペンゾールス
ルホン酸、ざらVCは、たとえはスルホン化混合物の部
分的中和の際((生じる塩、ならびに触媒俗孜中に存在
する金属錯化合物である。
スルホン葭、フェニルホスフィン−ジ(m−フェニルス
ルホン酸)および/マ之はトリフェニルホスフィン−)
jj(m−スルホノ酸)をその埴の形で含有する、不粘
性にされた触媒水溶液からも、本元明による方法ンこよ
り、スルホン酸を困蛾なしVcOXつ純粋な形で分離で
きる。このためには、何機glitおよび水溶液を、互
いに分離しなければならない。スルホン酸含有水相は、
前処理なしに、殊に予め414しないで使用できる。之
んに、沈殿物の形成のために必要なP)′1価が存在す
ることに注意すれはよい口また場合により、溶液に、酸
、有利にV&戚を添加することもできる。スルホン酸の
分離後に残留する水相は、なお触媒系の金鵡成分をIv
sして言膏し、その回収の九めにさらに処理することが
できる。新規方法は、ジェノのテロマー化の鑵、7ア/
化水素をエチレン性不紹和化合物に付加する場合および
オンフィンと一酸化炭素および水素との反応(ヒドロホ
ルミル化)の際に生じる触媒水溶液を後処理する場合、
とくに有利であることが立証された。水溶液は、スルホ
ン酸のほかになお他の浴Sされた成分な會奮し′″Cい
てよい。殊にこれ(入るのは、フェニルホスフィン−ス
ルホン酸からさらに反応させることにより形成されるホ
スフィンオキシPおよびホスフィンスルフィド、および
リンー炭イら結合の分離により形成されるペンゾールス
ルホン酸、ざらVCは、たとえはスルホン化混合物の部
分的中和の際((生じる塩、ならびに触媒俗孜中に存在
する金属錯化合物である。
水tna中でのトリフェニルホスフィンスルホン酸の濃
度は、本発明による方法の実施のためには臨界釣線では
ない。これは旨い純度で、より高い濃度、たとえは30
mはチ(浴l汰に対し〕の溶液からも\ またより低い
一度、たとえ1″r、1湛賦%(#1液に対し)の溶液
からも分離することができる。そのトリフェニルホスフ
ィンスルホ/R−濃度が2〜15嵐llt慢である酪孜
を用いて作業するのがとくに傳利であることが立証され
た。
度は、本発明による方法の実施のためには臨界釣線では
ない。これは旨い純度で、より高い濃度、たとえは30
mはチ(浴l汰に対し〕の溶液からも\ またより低い
一度、たとえ1″r、1湛賦%(#1液に対し)の溶液
からも分離することができる。そのトリフェニルホスフ
ィンスルホ/R−濃度が2〜15嵐llt慢である酪孜
を用いて作業するのがとくに傳利であることが立証され
た。
本発明による方法を冥除に実施するのは間車である。ス
ルホン酸の水I@液に、4m押しなから少t911厘m
でまfcは−10〜+1(]’C[冷却しながら、アミ
ンまたはアミン塩溶液を加える。
ルホン酸の水I@液に、4m押しなから少t911厘m
でまfcは−10〜+1(]’C[冷却しながら、アミ
ンまたはアミン塩溶液を加える。
トリフェニルホスフィノスルホン酸のアミンsBは、ワ
ックス状から固形の沈殿として析出し、躍別できる。、
醒契の比めに、洗浄するか、これを水とおよび必要によ
り、上述され比ように、何機溶剤と捏和する。
ックス状から固形の沈殿として析出し、躍別できる。、
醒契の比めに、洗浄するか、これを水とおよび必要によ
り、上述され比ように、何機溶剤と捏和する。
NaOHま几はKOHのような塩基の水溶液を用いる処
理により、ゾフェニルホスフイン7二二ルーm−スルホ
ン酸、フェニルスルホンージ(m−フェニルスルホン1
m) t7tti ト1j 7エ二ルートリ(m−スル
ホン酸)のシー(n−ペンチル)アミン塩まtはシー(
n−ヘキシル)アミン塩から、再び相当する水溶性塩の
溶液をつくることができる。水九対するジフェニルホス
フィンフェニル−m−スルホネートのわずかなm解性の
ため(、このスルホン酸が存在する場合には、処理は4
0〜80℃の高められ′Ic温度またはよつ大きい希釈
で冥施する。この反応の際、アミンが水と混じらない層
として、水面上に分離する;これは水相の分離後j「た
に本発明による方法において使用することができる。
理により、ゾフェニルホスフイン7二二ルーm−スルホ
ン酸、フェニルスルホンージ(m−フェニルスルホン1
m) t7tti ト1j 7エ二ルートリ(m−スル
ホン酸)のシー(n−ペンチル)アミン塩まtはシー(
n−ヘキシル)アミン塩から、再び相当する水溶性塩の
溶液をつくることができる。水九対するジフェニルホス
フィンフェニル−m−スルホネートのわずかなm解性の
ため(、このスルホン酸が存在する場合には、処理は4
0〜80℃の高められ′Ic温度またはよつ大きい希釈
で冥施する。この反応の際、アミンが水と混じらない層
として、水面上に分離する;これは水相の分離後j「た
に本発明による方法において使用することができる。
i+dun rt ト!J 、yエニルホスフィンスル
ホネートの水溶液は、多くの場合、そのまま引続きび用
するか一イオ7父良により債の塩の溶液1fCは化され
几塩を製造することもできる。
ホネートの水溶液は、多くの場合、そのまま引続きび用
するか一イオ7父良により債の塩の溶液1fCは化され
几塩を製造することもできる。
久の実施例で本発明を詳述するが、本発明はこれに限定
されるものではない。
されるものではない。
次の略語を使用する:
TPPTS トリフェニルホスフィン−トリー(スル
ホン酸ナトリウム〕 TPPOTS トリフェニルホスフィンオキシト−トリ
ー(スルホン酸ナトリウム) TPPST8 ) +7 フェニルホスフィンスルフィ
ド−トリー(スルホン酸ナトリウム) TPPDS トリフェニルホスフィン−ジ−(スルホ
ンtIRナトリウム) TPPODS トIJ フェニルホスフイノオ千シ闘−
シー(スルホン酸ナトリウム) TPPSDS ト!jフェニルホスフィンスルフィげ一
シー(スルホン戚ナトリウム〕 TPPMS トリフェニルホスフィン−モノ−(スル
ホン酸ナトリウム) TPPOMS )リフェニルホスフインオキシドーモノ
−(スルホン酸ナトリウム) BSNS ペンゾールスルホン竣ナトリウム爽施例 例 1 トリフェニルホスフィンと、2oチ発燻硫駿との反応の
瞳に生じるスルホン化混合物を、水で60.2嵐1に%
の滅戯績度に布択する二このものは次の組成を何する=
(スルホン酸の濃度はナトリウム塩として計算) TPPTS 2.61 46.0TPPOT
S O,7312,5 TPPSTS O,111,8 TPPDS 1.02 21.9TPPOD
8 0,16 5.5TPPSO80,040
・8 他の成分 0.49 この反応混合物1000.lC,攪拌しながら、60分
間に、シー(n−ペンチル)アミン361を加える。6
0分間仮攪拌し、沈殿した沈殿物を濾別し、水5531
で洗浄する。引続き、沈殿物を、m液が11.5のPt
1価を有するような址の2N力性ソ一ダ水m液の添加に
より内房する。その組成は表1に記載されている。回収
され九シー(n−(ンテル)アミ/は水相θ)ら分離し
、精製することなしに、新几に沈殿の几めに匣用するこ
とができる。
ホン酸ナトリウム〕 TPPOTS トリフェニルホスフィンオキシト−トリ
ー(スルホン酸ナトリウム) TPPST8 ) +7 フェニルホスフィンスルフィ
ド−トリー(スルホン酸ナトリウム) TPPDS トリフェニルホスフィン−ジ−(スルホ
ンtIRナトリウム) TPPODS トIJ フェニルホスフイノオ千シ闘−
シー(スルホン酸ナトリウム) TPPSDS ト!jフェニルホスフィンスルフィげ一
シー(スルホン戚ナトリウム〕 TPPMS トリフェニルホスフィン−モノ−(スル
ホン酸ナトリウム) TPPOMS )リフェニルホスフインオキシドーモノ
−(スルホン酸ナトリウム) BSNS ペンゾールスルホン竣ナトリウム爽施例 例 1 トリフェニルホスフィンと、2oチ発燻硫駿との反応の
瞳に生じるスルホン化混合物を、水で60.2嵐1に%
の滅戯績度に布択する二このものは次の組成を何する=
(スルホン酸の濃度はナトリウム塩として計算) TPPTS 2.61 46.0TPPOT
S O,7312,5 TPPSTS O,111,8 TPPDS 1.02 21.9TPPOD
8 0,16 5.5TPPSO80,040
・8 他の成分 0.49 この反応混合物1000.lC,攪拌しながら、60分
間に、シー(n−ペンチル)アミン361を加える。6
0分間仮攪拌し、沈殿した沈殿物を濾別し、水5531
で洗浄する。引続き、沈殿物を、m液が11.5のPt
1価を有するような址の2N力性ソ一ダ水m液の添加に
より内房する。その組成は表1に記載されている。回収
され九シー(n−(ンテル)アミ/は水相θ)ら分離し
、精製することなしに、新几に沈殿の几めに匣用するこ
とができる。
例 2
刻1からの反応混合物1000FVC,攪拌しながら3
0分間に、10%の誠戚140.9中のシー(n−ペン
チル)アミン5011の溶液を加える。ざらに:30分
の攪拌時間後、沈殿物を列1に記載し几ように後処理す
る。
0分間に、10%の誠戚140.9中のシー(n−ペン
チル)アミン5011の溶液を加える。ざらに:30分
の攪拌時間後、沈殿物を列1に記載し几ように後処理す
る。
この試験の結果は表1に記載されて−る。
列 3
例1からの反応混合物100011に、撹拌しながら6
0分間に、10%のvtrR168,P中のシー(n−
ペンチル)アミン5610m液を加える。さらに60分
間の攪拌時間後、沈、穀物を列IK記載したよ5に、後
処理する。
0分間に、10%のvtrR168,P中のシー(n−
ペンチル)アミン5610m液を加える。さらに60分
間の攪拌時間後、沈、穀物を列IK記載したよ5に、後
処理する。
この試験の結果は、表1に記載されている。
列 4
列1からの反応混合物1oooIを、紙にガラス濾過フ
リットおよびフックを装えた二頭フラスコ中に装入する
。攪拌しながら60分間に、10%の硫酸1681中の
シー(n−ベンチルンアミノ5611の1!!!液を加
える。さらに50分の攪拌時間後、thl液をフラスコ
鷹から排出する。
リットおよびフックを装えた二頭フラスコ中に装入する
。攪拌しながら60分間に、10%の硫酸1681中の
シー(n−ベンチルンアミノ5611の1!!!液を加
える。さらに50分の攪拌時間後、thl液をフラスコ
鷹から排出する。
沈殿物を2回、そのつど脱イオノ水5661と、それぞ
れ10分閲攬押し、洗浄水を濾別する。
れ10分閲攬押し、洗浄水を濾別する。
引続き沈殿物を、I′Jt拌しながら2N力性ソ一ダ水
/Ig液を、11.5の間両価が生じるまで諒加するこ
とにより的解する。
/Ig液を、11.5の間両価が生じるまで諒加するこ
とにより的解する。
I@液は表1で挙げられ次組成な葺する。
回収されたシー(n−ペンチル)アミンは、水相から分
離し、イl製することなしに#7tに沈殿のために使用
することができる。
離し、イl製することなしに#7tに沈殿のために使用
することができる。
例 5
トリフェニルホスフィンと20−発1IJItaとを0
℃で反応させる1Aに生じるスルホノ化混合物を、水で
3011%の威tR濃度に希釈し、そノ後これから未反
応のトリフェニルホスフィンヲ痣別する。これは、矢の
スルホン酸を含宵する:(スルホン緻ハナトリウム塩の
形で記載されているン TPPMS 3.05 85.7T)’
POMS O,143,7この反応混合物200
0gに、攪拌しながら50分間に、10%の1plEd
160y中のシー(n−ペンチル)アミン31の溶液を
加える(アミン1.6モル/TPPM81モルに相当)
。
℃で反応させる1Aに生じるスルホノ化混合物を、水で
3011%の威tR濃度に希釈し、そノ後これから未反
応のトリフェニルホスフィンヲ痣別する。これは、矢の
スルホン酸を含宵する:(スルホン緻ハナトリウム塩の
形で記載されているン TPPMS 3.05 85.7T)’
POMS O,143,7この反応混合物200
0gに、攪拌しながら50分間に、10%の1plEd
160y中のシー(n−ペンチル)アミン31の溶液を
加える(アミン1.6モル/TPPM81モルに相当)
。
50分間tI?、債押し、生じ友沈殿吻を濾別し、水1
000#で洗浄する。引続き、沈殿物を45′Cで、m
故が11.5の一価を胃するよ5な童のI N jj
t&:ソーダ水mtKを麻加することにより浴牌する。
000#で洗浄する。引続き、沈殿物を45′Cで、m
故が11.5の一価を胃するよ5な童のI N jj
t&:ソーダ水mtKを麻加することにより浴牌する。
回収され九シー(n−ペンチル)アミンは水相から分離
し、少量のTPPMS 8:除去する九めに濾過し比後
、新たに沈殿のためlc&!用することができる。
し、少量のTPPMS 8:除去する九めに濾過し比後
、新たに沈殿のためlc&!用することができる。
スルホネート水溶液は、室温で部分的に固形物として沈
殿するTPPMS 60−31およびTPPOl、/i
s1.419を含臂する。lA綬および洗浄水中、ば酸
のほかになおTPPMS O,65jjおよびTPPO
l、4S 2.3Iが残留する。
殿するTPPMS 60−31およびTPPOl、/i
s1.419を含臂する。lA綬および洗浄水中、ば酸
のほかになおTPPMS O,65jjおよびTPPO
l、4S 2.3Iが残留する。
列 6
使用ずみのaゾウムおよびTPPTS fr:ま「する
触媒水#11000gに、60分間に酸素の遅断下に攪
拌しながら、10慢のI!ic敲592.9中のツー(
n−ペンチル)アミ7127IのMず浅を加える。ざら
に60分の尻J′P時聞伎、沈殿物を濾別し、水500
Iで洗浄する。濾液および洗浄水を1つにし、−緒に分
析する。
触媒水#11000gに、60分間に酸素の遅断下に攪
拌しながら、10慢のI!ic敲592.9中のツー(
n−ペンチル)アミ7127IのMず浅を加える。ざら
に60分の尻J′P時聞伎、沈殿物を濾別し、水500
Iで洗浄する。濾液および洗浄水を1つにし、−緒に分
析する。
沈殿物を60%のカ性ノーダi@j107.Fに#J解
する。ツー(n−ペンチル)アミン121,81が回収
きれ、これは精製することなしに1.urたに沈殿の几
めに使用することができる。
する。ツー(n−ペンチル)アミン121,81が回収
きれ、これは精製することなしに1.urたに沈殿の几
めに使用することができる。
TPPTS后液を、濃硫酸2.71の添加(Cより、6
.5のpH−1曲に調節し、分析する。
.5のpH−1曲に調節し、分析する。
結果は矢表2にまとめられている。
表 2
使用ずみのTPPTS / Rh水m液からの、トリフ
ェニルホスフィンジスルホンはおよびトリフェニルホス
フィントリスルホ/酸の沈殿 使用物 a) TPPTS / Rh ffj 7[(1!2!
用ずみ) 1[30019シー(n−(ンチル)ア
ミン 127 I!これから回収されtもの 1
21.8.5’I〔10%) 59
2.9(アミン/TPPTS+ TPPDS 1.0
5モ#/Val)悦イオン水 5
00 IIbン力注方柱ダ饅液(30チ)
107II滅酸(a ) 2.
7 、?結果 例 7 例6を繰り返すが、シー(n−ペンチル)アミンの代わ
りにシー(n−へ中シルクアミンを使用する。
ェニルホスフィンジスルホンはおよびトリフェニルホス
フィントリスルホ/酸の沈殿 使用物 a) TPPTS / Rh ffj 7[(1!2!
用ずみ) 1[30019シー(n−(ンチル)ア
ミン 127 I!これから回収されtもの 1
21.8.5’I〔10%) 59
2.9(アミン/TPPTS+ TPPDS 1.0
5モ#/Val)悦イオン水 5
00 IIbン力注方柱ダ饅液(30チ)
107II滅酸(a ) 2.
7 、?結果 例 7 例6を繰り返すが、シー(n−ペンチル)アミンの代わ
りにシー(n−へ中シルクアミンを使用する。
この試験のm来は我6にまとめられている。
表 6
使用ずみのTPPTS / Rh−水m液からのトリフ
ェニルホスフィンジスルホン酸およびトリフェニルホス
フィントリスルホン酸の沈殿 使用物 a) TPPTS / Rh −gi (fl!用スh
) 10001シー(n−へキフル)アミン
158Iこれから回収され友もの 112 jI滅
改(10%) 546 #(7iy
/TPPTS+TPPDS 1,10 モル/Val
)脱イオン水 15001b)方柱
ソーダm液(30%) 109.F〆efi(
屓) 1.7g結果 例 8 試験は、トリフェニルホスフィンジスルホン酸おヨヒト
リフェニルホスフイントリスルホン戚の同時沈殿および
弐に列6および7で使用されたような、使用ずみ触媒水
溶液fJ1らのロジウムの抽出を記載する。作条は窒素
雰囲気中で行なう。
ェニルホスフィンジスルホン酸およびトリフェニルホス
フィントリスルホン酸の沈殿 使用物 a) TPPTS / Rh −gi (fl!用スh
) 10001シー(n−へキフル)アミン
158Iこれから回収され友もの 112 jI滅
改(10%) 546 #(7iy
/TPPTS+TPPDS 1,10 モル/Val
)脱イオン水 15001b)方柱
ソーダm液(30%) 109.F〆efi(
屓) 1.7g結果 例 8 試験は、トリフェニルホスフィンジスルホン酸おヨヒト
リフェニルホスフイントリスルホン戚の同時沈殿および
弐に列6および7で使用されたような、使用ずみ触媒水
溶液fJ1らのロジウムの抽出を記載する。作条は窒素
雰囲気中で行なう。
ビーカー中に、触媒として使用されたTPPTS/Rh
−水fbtFL1009. ドルオール1001およ
び2−エチルーヘギサノール50&を装入し、撹拌しな
がら60分間に、10%の硫#1L855’中のシーn
−ペンチルアミン18.5 、Fの水溶液を加える。さ
らに60分間の攪拌時間後、沈殿物をガラスフィルター
吸引濾過器で濾別し、N2気流中で十分に乾燥する。沈
殿物を、最初にドルオール80.9および2−エチルへ
キーテノール209かも成る混合物で洗浄し、その浸水
5001で洗浄する。濾液および洗浄液を1つにし、水
相およびドルオール相とに分離し、別々に分析する。
−水fbtFL1009. ドルオール1001およ
び2−エチルーヘギサノール50&を装入し、撹拌しな
がら60分間に、10%の硫#1L855’中のシーn
−ペンチルアミン18.5 、Fの水溶液を加える。さ
らに60分間の攪拌時間後、沈殿物をガラスフィルター
吸引濾過器で濾別し、N2気流中で十分に乾燥する。沈
殿物を、最初にドルオール80.9および2−エチルへ
キーテノール209かも成る混合物で洗浄し、その浸水
5001で洗浄する。濾液および洗浄液を1つにし、水
相およびドルオール相とに分離し、別々に分析する。
沈殿物を1N力性ソーダ水@U30Fに浴解し、生じ九
アミン/ドルオール相を分離する。
アミン/ドルオール相を分離する。
水溶液を、滅戚1.51の株加により、6.5の一1I
lillCAjli5シ、分析する。
lillCAjli5シ、分析する。
この試験の結果は表4にまとめられてAる0表 4
トリフェニルホスフィンジスルホン酸すらびにトリフェ
ニルホスフィントリスルホン峻ノ同時沈殿およびロゾク
ム錯体の抽出 使用物 a) TPPTS/)(h m g (使用ずみ)
100 &ドルオール(抽出剤) i
oO&2−エチルへキテノール(@M助剤) 30
、S’誠IR(10%)85y (アミン/TPPTS+TPPDS 1.75モル/
Val)ドルオール bu y
2−エチルへキブノール 20 &脱イオン水
コ002b)力性ソーダ#1液(
I N ) 80.51誠威(債)
LS:j結釆
ニルホスフィントリスルホン峻ノ同時沈殿およびロゾク
ム錯体の抽出 使用物 a) TPPTS/)(h m g (使用ずみ)
100 &ドルオール(抽出剤) i
oO&2−エチルへキテノール(@M助剤) 30
、S’誠IR(10%)85y (アミン/TPPTS+TPPDS 1.75モル/
Val)ドルオール bu y
2−エチルへキブノール 20 &脱イオン水
コ002b)力性ソーダ#1液(
I N ) 80.51誠威(債)
LS:j結釆
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ジフェニルホスフィンフェニル−m−スルホン酸、
フェニルホスフィン−ジ−(m−フェニルスルホン酸)
および/またはトリフェニルホスフィン−トリ(m−ス
ルホン酸の塩を、分離および精製する方法において、上
記スルホン酸またはその塩の水溶液に、当量または過剰
量のジ−(n−ペンチル)アミンまたはジ−(n−ヘキ
シル)アミンまたはこれらのアミンの水溶性塩を加え、
その際アミンないしはアミン塩の添加後水溶液のpH−
価が≦7であり、生じた沈殿物を分離し、洗浄し、引続
き塩基の水溶液と反応させることを特徴とする、ジフェ
ニルホスフィンフェニル−m−スルホン酸、フェニルホ
スフィン−ジ(m−フェニルスルホン酸)および/また
はトリフェニルホスフィン−トリ(m−スルホン酸)の
塩の分離および精製法。 2、アミンないしはアミン塩を、スルホン酸に対し1.
0〜1.5倍当量で使用する、特許請求の範囲第1項記
載の方法。 3、水溶液中のトリフェニルホスフィンスルホン酸の濃
度が、溶液に対し2〜15重量%である、特許請求の範
囲第1項または第2項記載の方法。 4、アミンないしはアミン塩の添加を、−10〜+10
℃で行なう、特許請求の範囲第1項から第3項までのい
ずれか1項記載の方法。 5、アミンないしはアミン塩の添加により生じた沈殿物
を、水および場合により脂肪族または芳香族炭化水素で
洗浄する、特許請求の範囲第1項から第4項までのいず
れか1項記載の方法。 6、1種ないしは数種のスルホン酸またはその塩の水溶
液として、トリフェニルホスフィンを、発煙硫酸でスル
ホン化する際に生じかつ水で希釈された反応混合物を使
用する、特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれ
か1項記載の方法。 7、1種ないしは数種のスルホン酸またはその塩の水溶
液として、金属成分のほかに、フェニルホスフィン−ジ
(m−フェニルスルホン酸)および/またはトリフェニ
ルホスフィン−トリ(m−スルホン酸)をその塩の形で
含有する、触媒溶液を使用する、特許請求の範囲第1項
から第5項までのいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843431643 DE3431643A1 (de) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | Verfahren zur abtrennung und reindarstellung von salzen der diphenylphosphinphenyl-m-sulfonsaeure, phenylphosphin-di(m-phenylsulfonsaeure) und/oder triphenylphosphin-tri(m-sulfonsaeure) |
| DE3431643.4 | 1984-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6160692A true JPS6160692A (ja) | 1986-03-28 |
| JPH0244834B2 JPH0244834B2 (ja) | 1990-10-05 |
Family
ID=6244120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60186769A Granted JPS6160692A (ja) | 1984-08-29 | 1985-08-27 | ジフエニルホスフインフエニル‐m‐スルホン酸、フエニルホスフイン‐ジ(m‐フエニルスルホン酸)および/またはトリフエニルホスフイン‐トリ(m‐スルホン酸)の塩の分離および精製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4623490A (ja) |
| EP (1) | EP0175919B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6160692A (ja) |
| CA (1) | CA1238920A (ja) |
| DE (2) | DE3431643A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4965404A (en) * | 1989-03-09 | 1990-10-23 | Kuraray Company, Ltd. | Process for the preparation of lithium diphenylphosphinobenzene-m-monosulfonate |
| US5274183A (en) * | 1990-12-17 | 1993-12-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Water-soluble sulfonated diphosphines |
| DE4139651A1 (de) * | 1991-12-02 | 1993-06-03 | Hoechst Ag | Verfahren zur abtrennung organischer phosphorverbindungen und weiterer verunreinigungen aus verduennter schwefelsaeure |
| DE4328384A1 (de) * | 1993-08-24 | 1995-03-02 | Bayer Ag | Stabilisierte, flammwidrige Polycarbonatformmassen |
| DE4427428A1 (de) | 1994-08-03 | 1996-02-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Aldehyden |
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