JPS6160693A - ダウノサミン誘導体の製法 - Google Patents
ダウノサミン誘導体の製法Info
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- JPS6160693A JPS6160693A JP18152884A JP18152884A JPS6160693A JP S6160693 A JPS6160693 A JP S6160693A JP 18152884 A JP18152884 A JP 18152884A JP 18152884 A JP18152884 A JP 18152884A JP S6160693 A JPS6160693 A JP S6160693A
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- Japan
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- methyl
- formula
- trideoxy
- benzoyl
- alpha
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はダウノサミン誘導体の新規な製法に関する。
ダウノサミンは抗腫瘍活性を有する″アンスフサイタリ
ン系抗生物質ダウノマイシン(米国特許第3,616,
242号明細書)及びアドリアマイシン(米国特許第3
,590,028号明細書)等の構成成分である。これ
等の抗生物質を化学的に修飾して強力で、かつ副作用が
軽減された安全性の高い誘導体を見出すぺ〈種々の試み
が行なわれていることからアンスラサイクリン誘導体を
化学的に合成する場合の出発原料として、ダウノサミン
誘導体は極めて有用な化合物である。
ン系抗生物質ダウノマイシン(米国特許第3,616,
242号明細書)及びアドリアマイシン(米国特許第3
,590,028号明細書)等の構成成分である。これ
等の抗生物質を化学的に修飾して強力で、かつ副作用が
軽減された安全性の高い誘導体を見出すぺ〈種々の試み
が行なわれていることからアンスラサイクリン誘導体を
化学的に合成する場合の出発原料として、ダウノサミン
誘導体は極めて有用な化合物である。
従来、ダウノサミンの製造法としては、ウオング等の方
法(Can、 J、 Chcm、、且、 3144 (
1975) )。
法(Can、 J、 Chcm、、且、 3144 (
1975) )。
つ゛イーマン等の方法(Angew、 Chem、In
t、 Ed、 EngL。
t、 Ed、 EngL。
17.682(1978))、松本等の方法(Bull
、 Chem。
、 Chem。
Soe、Jpn、、52.2731(1979))、グ
レテ等の方法(特開昭56−108782)及びウオブ
クリンチ等の方法(J、Am、Chem、Soc、、
103.3956(1981))が、ラセミのダウノサ
ミンを得る方法として知られているが、いずれも収率が
低く、各種のエピマーの混合物として得られる場合が多
く、また目的とするし・体を光学分割によって分けなけ
ればならないと云う欠点を有している。
レテ等の方法(特開昭56−108782)及びウオブ
クリンチ等の方法(J、Am、Chem、Soc、、
103.3956(1981))が、ラセミのダウノサ
ミンを得る方法として知られているが、いずれも収率が
低く、各種のエピマーの混合物として得られる場合が多
く、また目的とするし・体を光学分割によって分けなけ
ればならないと云う欠点を有している。
一方、L・体のみを合成する方法として、!3!lを出
発原料に用いる製造法が知られているが、やけシ種々の
欠点を有しており、例えばグツドマン等の方法(J、
Chem、 Soc、 Chem、 Comn、、 9
73(1967))では非常に高価なL・ラムノースを
出発原料としていること、嘔らに収率が低いこと、工程
数が多いこと等があけられ、また山口等の方法(Car
bohydr、Res、、 59,343(1977)
)では、原料として安価なグルコースを使用しているも
のの、アミノ基導入の際に樹脂を用いるコト、クロマト
グツフィー的な分離精製が必要なこと、工程数が多いこ
と停があげられ、さらに国中等の方法(特開昭54−1
4913号公報)では、やはシ原料として安価なグルコ
ースを使用しているものの、リチウムアルミニウムヒド
リド還元工程が2箇所もあること、メチルグリコンド合
成の際に水銀を用いること、そして工程数が多いこと等
があげられる。
発原料に用いる製造法が知られているが、やけシ種々の
欠点を有しており、例えばグツドマン等の方法(J、
Chem、 Soc、 Chem、 Comn、、 9
73(1967))では非常に高価なL・ラムノースを
出発原料としていること、嘔らに収率が低いこと、工程
数が多いこと等があけられ、また山口等の方法(Car
bohydr、Res、、 59,343(1977)
)では、原料として安価なグルコースを使用しているも
のの、アミノ基導入の際に樹脂を用いるコト、クロマト
グツフィー的な分離精製が必要なこと、工程数が多いこ
と停があげられ、さらに国中等の方法(特開昭54−1
4913号公報)では、やはシ原料として安価なグルコ
ースを使用しているものの、リチウムアルミニウムヒド
リド還元工程が2箇所もあること、メチルグリコンド合
成の際に水銀を用いること、そして工程数が多いこと等
があげられる。
またL・体のみを合成する方法として、ホートン等は比
較的安価なり一マンノースを出発原料として用いる方法
(Carbohydr、 Res、 44.227(1
975))を開示している。このホートン等の方法は収
率が良く、また精製工程も少ない優れた方法である。し
かしながら、ダウノサミンをアグリコンと縮合せしめて
アンスラサイクリン誘導体を製造するには、ダウノサミ
ンから例えば式02 %式% で表わされる糖ハライド等のダウノサミン誘一方、前高
等の方法(第45同右機合成シンポジウム講演要旨集第
59頁(講演番号1−14))Kよれば式(9) で表ワされるメチ/I/8−)リフルオロアセトアミド
−2,3,6−)リゾオキシ−α−り一エリスロへキン
ピラノシドを次式に従って製造することができる〇 (式中、Phはフエニル基をあられす。以下同様である
)また、このようにして得られる化合物(9)からは、
ダウノサミンを経由することなく、比較的短工程で前記
糖ハフイド(2)を製造することができるので、前高等
の方法は化合物(9)の製法としてだけでなく、糖ハフ
イド(2)9製法の一部としても優れた方法であると言
える。
較的安価なり一マンノースを出発原料として用いる方法
(Carbohydr、 Res、 44.227(1
975))を開示している。このホートン等の方法は収
率が良く、また精製工程も少ない優れた方法である。し
かしながら、ダウノサミンをアグリコンと縮合せしめて
アンスラサイクリン誘導体を製造するには、ダウノサミ
ンから例えば式02 %式% で表わされる糖ハライド等のダウノサミン誘一方、前高
等の方法(第45同右機合成シンポジウム講演要旨集第
59頁(講演番号1−14))Kよれば式(9) で表ワされるメチ/I/8−)リフルオロアセトアミド
−2,3,6−)リゾオキシ−α−り一エリスロへキン
ピラノシドを次式に従って製造することができる〇 (式中、Phはフエニル基をあられす。以下同様である
)また、このようにして得られる化合物(9)からは、
ダウノサミンを経由することなく、比較的短工程で前記
糖ハフイド(2)を製造することができるので、前高等
の方法は化合物(9)の製法としてだけでなく、糖ハフ
イド(2)9製法の一部としても優れた方法であると言
える。
しかしながら、この方法に於ても中間体(至)が比穀的
不安定であることから、meの面での制約がある。
不安定であることから、meの面での制約がある。
かかる状況下に、本発明者らは前記式(9)で表わされ
る糖誘導体の効率的な製造法につき検討した結果、本発
明を完成するに到った。
る糖誘導体の効率的な製造法につき検討した結果、本発
明を完成するに到った。
すなわち本発明は前記式(7)で表わされるメチル4−
0−ベンシイ/L’−8−)リフルオロアセトアミド−
2,3,6−トリデオキシ−α−D−エリスロヘキセン
ー5−ビフノシドのメチリデン基の部分を還元すること
により式(8)で表わされるメチル4−0−ベンシイ/
v−3−トリフρオロアセトアミドー2.3.6−)リ
ゾオキシ−α−D−エリスロヘキソビラノシドを得、次
いで化合物(8)を脱ベンゾイル反応に付することによ
り前記式(9)で表わされる糖誘導体を製造する方法に
関する。
0−ベンシイ/L’−8−)リフルオロアセトアミド−
2,3,6−トリデオキシ−α−D−エリスロヘキセン
ー5−ビフノシドのメチリデン基の部分を還元すること
により式(8)で表わされるメチル4−0−ベンシイ/
v−3−トリフρオロアセトアミドー2.3.6−)リ
ゾオキシ−α−D−エリスロヘキソビラノシドを得、次
いで化合物(8)を脱ベンゾイル反応に付することによ
り前記式(9)で表わされる糖誘導体を製造する方法に
関する。
前記式(7)で表わされる原料化合物および前記式(9
)で表わされる本発明目的化合物はいずれも公知である
(前高等、biJ述)が、本発明は前記式(8)で表わ
される新規な中間体を経由する点に特徴があり、かかる
本発明方法によシ化合物(9)を収率よく効率的に製造
することができる。以下に本発明を更に詳創に説明する
。
)で表わされる本発明目的化合物はいずれも公知である
(前高等、biJ述)が、本発明は前記式(8)で表わ
される新規な中間体を経由する点に特徴があり、かかる
本発明方法によシ化合物(9)を収率よく効率的に製造
することができる。以下に本発明を更に詳創に説明する
。
メチ、/I/ 4−0−ベンシイIV−3−)!J7〜
オロアセトアミドー2.3.6− )リゾオキシ−α−
り一エリスロヘキセンー5−ビヲノシド(7)の還元は
例えば水素添加法によ)実施することができる。水素添
加反応の溶媒としては、例えばメタノ−°ル、エタノー
ル等のアルコール系溶媒、例えばTHF、ジオキサン等
のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶
媒等が用いられるが、酢酸エチルを用いるのが好ましい
。また触媒としてはパラジウム、白金等の金属触媒ある
いはこれらを担体に付着させた触媒等が用いられ、例え
ばバッジラム炭素、パラジウム−硫酸バリウム等を挙げ
ることができるが、パラジウム−硫酸バリウムが好まし
い。このようにして得られる中間体(8)は、前記中間
体(至)よ)もはるかに安定であって取り扱いが容易で
ある。さらに、本反応で5−エビ体を全く生成しないこ
とも本発明の特徴である。
オロアセトアミドー2.3.6− )リゾオキシ−α−
り一エリスロヘキセンー5−ビヲノシド(7)の還元は
例えば水素添加法によ)実施することができる。水素添
加反応の溶媒としては、例えばメタノ−°ル、エタノー
ル等のアルコール系溶媒、例えばTHF、ジオキサン等
のエーテル系溶媒、例えば酢酸エチル等のエステル系溶
媒等が用いられるが、酢酸エチルを用いるのが好ましい
。また触媒としてはパラジウム、白金等の金属触媒ある
いはこれらを担体に付着させた触媒等が用いられ、例え
ばバッジラム炭素、パラジウム−硫酸バリウム等を挙げ
ることができるが、パラジウム−硫酸バリウムが好まし
い。このようにして得られる中間体(8)は、前記中間
体(至)よ)もはるかに安定であって取り扱いが容易で
ある。さらに、本反応で5−エビ体を全く生成しないこ
とも本発明の特徴である。
メチル 4−0−ベンシイ/l’−3−)リフルオロア
セトアミド−2,3,6−)リゾオキシ−α−り一エリ
スロヘキソピフノシド(8)の脱ベンゾイル化は、例え
ばアルコール系溶媒中または含水アルコール系溶媒中で
水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物を作用さ
せてもよいが、好ましくはメタノール中でナトリウムメ
チラートを作用させることにより行う。
セトアミド−2,3,6−)リゾオキシ−α−り一エリ
スロヘキソピフノシド(8)の脱ベンゾイル化は、例え
ばアルコール系溶媒中または含水アルコール系溶媒中で
水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物を作用さ
せてもよいが、好ましくはメタノール中でナトリウムメ
チラートを作用させることにより行う。
このようKして得られる本発明目的化合物であるメチ/
l/8−)リフルオロアセトアミド−2,8,6−ドリ
デオキシーα−D−エリスロヘキソビラノシド(9)は
、例えば公知の方法(J。
l/8−)リフルオロアセトアミド−2,8,6−ドリ
デオキシーα−D−エリスロヘキソビラノシド(9)は
、例えば公知の方法(J。
Antibiotics、32,228(1979))
に準じて、次の反応式に従って糖ハライド(2)とする
ことができる、 すなわち、化合物(9)を例えば25%酢酸中で加熱還
流することによりメチル基を除去して弐〇〇で表わされ
る8−N−)リフルオロアセトアミドダウノサミンとし
、次いで例えば無水トリフルオロ酢酸を作用させるとと
くより弐01)で表わされる1、4−ジー0−)リフル
オロアセチル−3−N−)リフルオロアセトアミドダウ
ノサミンを得、さらに塩化水素と反応させることによシ
糖ハライド(2)を製造することができる。
に準じて、次の反応式に従って糖ハライド(2)とする
ことができる、 すなわち、化合物(9)を例えば25%酢酸中で加熱還
流することによりメチル基を除去して弐〇〇で表わされ
る8−N−)リフルオロアセトアミドダウノサミンとし
、次いで例えば無水トリフルオロ酢酸を作用させるとと
くより弐01)で表わされる1、4−ジー0−)リフル
オロアセチル−3−N−)リフルオロアセトアミドダウ
ノサミンを得、さらに塩化水素と反応させることによシ
糖ハライド(2)を製造することができる。
前記一般式(7)で表わされる原料化合物自体は公知で
あシ、例えば次の反応式に従って製造することができる
。以下に各工程を説明する0 D−マンノース(1)からメチ〜 4,6−0−ベンジ
リデン−2−デオキシ−α−D−エリスロヘキソビラノ
シドー3−ウロース(3)の製造は公知の方法によシ行
なわれる(ホートン等、Cabohydr、 Ras、
、 44 、227 (1975) )。
あシ、例えば次の反応式に従って製造することができる
。以下に各工程を説明する0 D−マンノース(1)からメチ〜 4,6−0−ベンジ
リデン−2−デオキシ−α−D−エリスロヘキソビラノ
シドー3−ウロース(3)の製造は公知の方法によシ行
なわれる(ホートン等、Cabohydr、 Ras、
、 44 、227 (1975) )。
ケトン体(3)の7ミノ体(4)への変換はホートン等
の方法によシ行うこともできるが、g媒中アンモニウム
塩の存在下、還元剤を用いることKよって行なうことが
できる。反応〆媒としては、メタノ−1vlエタノール
、n−プロパノ−/I/、イソゾロパノール等のアルコ
−ノリ系溶媒、またはアpコー/I’系溶媒とテトフヒ
ドロフフン、ジオキサン等のエーテル系溶媒トの混合溶
媒が用いられ、好ましくはメタノールが用いられる。ま
た、アンモニウム塩としては例えば塩化アンモニウム、
酢酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等が用いられ、好
ましくは酢酸アンそニウムが用いられる◇さらに、還元
剤としては、リチウムポロヒドリド、ナトリクムボロヒ
ドリド、リチウムシアノポロヒドリド、ナトリウムシア
ノポロヒドリド等の水素化ホウ素化合物が用いられ、好
ましくは、リチウシアノポロヒドリドあるいは、ナトリ
ウムシアノポロヒドリドが用いられる。
の方法によシ行うこともできるが、g媒中アンモニウム
塩の存在下、還元剤を用いることKよって行なうことが
できる。反応〆媒としては、メタノ−1vlエタノール
、n−プロパノ−/I/、イソゾロパノール等のアルコ
−ノリ系溶媒、またはアpコー/I’系溶媒とテトフヒ
ドロフフン、ジオキサン等のエーテル系溶媒トの混合溶
媒が用いられ、好ましくはメタノールが用いられる。ま
た、アンモニウム塩としては例えば塩化アンモニウム、
酢酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等が用いられ、好
ましくは酢酸アンそニウムが用いられる◇さらに、還元
剤としては、リチウムポロヒドリド、ナトリクムボロヒ
ドリド、リチウムシアノポロヒドリド、ナトリウムシア
ノポロヒドリド等の水素化ホウ素化合物が用いられ、好
ましくは、リチウシアノポロヒドリドあるいは、ナトリ
ウムシアノポロヒドリドが用いられる。
この様にして、メチ/L/3−アミノー4,6−ペンジ
リデンー2.3−ジデオキシ−α−D−リボヘキソピラ
ノシド(4)がケトン体(3)かう従来オキシムを経て
2工程で製造されていたのが1工程に短縮出来、しかも
安全に製造出来ることに本方法の特徴がある。。
リデンー2.3−ジデオキシ−α−D−リボヘキソピラ
ノシド(4)がケトン体(3)かう従来オキシムを経て
2工程で製造されていたのが1工程に短縮出来、しかも
安全に製造出来ることに本方法の特徴がある。。
化合物(4)から化合物(7)までの製法は公知の方法
(前高ら、前述)に従って行うことができる。例えば3
−アミノ体(4)を有機溶媒中、トリフルオロアセチル により、メチ/l’4.6−ペンジリデンー3−トリフ
ルオロアセチドアミド−2.3−ジテ゛オキシーα−D
−リポヘキソピフノンド(5)に導くことが出来る。反
応溶媒としては、エーテル、テトフヒドロフフン、ジオ
キサン等のエーテル系gg、クロロホルム、塩化メチレ
ン、四塩化炭素、塩化エチレン等のハロゲン化フルキp
系溶媒、ピリジン等がまた、トリフルオロアセチル チμクロリド、無水トリフルオロ酢酸等が用いられるが
、好ましくは塩化メチレン中、無水トリフルオロ酢酸を
作用させる0また、得られる8−トリフルオロアセトア
ミド体(5)の他に7%の3−二ビートリフ〃オロアセ
トアミド体が得られるが、後者は、四塩化炭素に不溶で
ちることから、簡便に除くことが出来、次工程での反応
溶媒が四塩化炭素が好ましいことから極めて都合が良い
0 この様にして得られる3−トリフルオロアセトアミド(
5)の酸化開裂は、ハロゲン化フルキル系溶媒中、N−
ゴロモコハク酸イミドを作用させることによう行なわれ
好ましくは、前工程で用い九四塩化炭素を用いる01だ
、本反応が大量スケールで行なわれる場合は、N−ブロ
モコハク酸イミドの他に炭酸バリウム、そして触IR′
fjkのα、α−アゾビスイソグチロニトリ〜を加え九
四塩化炭素溶液を還流させ、これに、前工程で得られた
3−トリフルオロアセトアミド(5)の四塩化炭素溶液
を加えてゆくことKよシ、反応の完結が達成出来る。
(前高ら、前述)に従って行うことができる。例えば3
−アミノ体(4)を有機溶媒中、トリフルオロアセチル により、メチ/l’4.6−ペンジリデンー3−トリフ
ルオロアセチドアミド−2.3−ジテ゛オキシーα−D
−リポヘキソピフノンド(5)に導くことが出来る。反
応溶媒としては、エーテル、テトフヒドロフフン、ジオ
キサン等のエーテル系gg、クロロホルム、塩化メチレ
ン、四塩化炭素、塩化エチレン等のハロゲン化フルキp
系溶媒、ピリジン等がまた、トリフルオロアセチル チμクロリド、無水トリフルオロ酢酸等が用いられるが
、好ましくは塩化メチレン中、無水トリフルオロ酢酸を
作用させる0また、得られる8−トリフルオロアセトア
ミド体(5)の他に7%の3−二ビートリフ〃オロアセ
トアミド体が得られるが、後者は、四塩化炭素に不溶で
ちることから、簡便に除くことが出来、次工程での反応
溶媒が四塩化炭素が好ましいことから極めて都合が良い
0 この様にして得られる3−トリフルオロアセトアミド(
5)の酸化開裂は、ハロゲン化フルキル系溶媒中、N−
ゴロモコハク酸イミドを作用させることによう行なわれ
好ましくは、前工程で用い九四塩化炭素を用いる01だ
、本反応が大量スケールで行なわれる場合は、N−ブロ
モコハク酸イミドの他に炭酸バリウム、そして触IR′
fjkのα、α−アゾビスイソグチロニトリ〜を加え九
四塩化炭素溶液を還流させ、これに、前工程で得られた
3−トリフルオロアセトアミド(5)の四塩化炭素溶液
を加えてゆくことKよシ、反応の完結が達成出来る。
得られたメチ/I/4−0−ベンシイ/l/−6−ブロ
モー3−トリフpオロアセトアミ′ドー2.8.6−ド
リデオキクーα−D−リボヘキソビフノシド(6)の脱
臭化水素化反応は弗化銀、ジアザビシクロウンデセン等
によって行なわれる。好ましくは、ピリジン中、弗化銀
を用いる。
モー3−トリフpオロアセトアミ′ドー2.8.6−ド
リデオキクーα−D−リボヘキソビフノシド(6)の脱
臭化水素化反応は弗化銀、ジアザビシクロウンデセン等
によって行なわれる。好ましくは、ピリジン中、弗化銀
を用いる。
以下に参考例および実施例をあげて本発明を具体的に説
明する。
明する。
(参考例1)
α−D−メflL’マンノピラノシド8.92にりをジ
メチルホルムアミド トキシトμエン16.681y及びp−ト〜エンス〃ホ
ン酸200?を加え、70℃にて、減圧下(50〜15
0wsHt )加熱攪拌し、反応終了后、氷水881
w及び重曹5.80kflC反応液を注入して析出する
結晶を戸数した0このものをn−プロパノ−lvloo
kfより再結晶して15.3kgツメ’F−iv 2
,3.4.6−ジー0−ベンジリアー’J−(1−D−
マンノピラノシドを得た0(収率90%)融点108−
172℃ (参考例2) メチ/I/2.8:4.6ージーO−ベンジリデン−α
ーDーマンノピラノシド3.87−をテトラしドロフラ
ン40kgVCfgかし−25〜−45℃にてn−ブチ
ivvチクムヘキサン溶液13.757を加え、 ゛
同温度にて1.5時間撹拌した0反応終了後塩化アンモ
ニウム1. 6 9 k,を含む氷水60)cfK反応
液を注入して析出する結晶を水3kf1およびトルエン
12紛で順次洗浄して、乾燥するとメチ/l/ 4 、
6−0−ベンジリデン−2−デオキシ−α−り一エリ
スロヘキソビラノシド1. 8 5 k,が得られた。
メチルホルムアミド トキシトμエン16.681y及びp−ト〜エンス〃ホ
ン酸200?を加え、70℃にて、減圧下(50〜15
0wsHt )加熱攪拌し、反応終了后、氷水881
w及び重曹5.80kflC反応液を注入して析出する
結晶を戸数した0このものをn−プロパノ−lvloo
kfより再結晶して15.3kgツメ’F−iv 2
,3.4.6−ジー0−ベンジリアー’J−(1−D−
マンノピラノシドを得た0(収率90%)融点108−
172℃ (参考例2) メチ/I/2.8:4.6ージーO−ベンジリデン−α
ーDーマンノピラノシド3.87−をテトラしドロフラ
ン40kgVCfgかし−25〜−45℃にてn−ブチ
ivvチクムヘキサン溶液13.757を加え、 ゛
同温度にて1.5時間撹拌した0反応終了後塩化アンモ
ニウム1. 6 9 k,を含む氷水60)cfK反応
液を注入して析出する結晶を水3kf1およびトルエン
12紛で順次洗浄して、乾燥するとメチ/l/ 4 、
6−0−ベンジリデン−2−デオキシ−α−り一エリ
スロヘキソビラノシド1. 8 5 k,が得られた。
(収率6 7 % ) FA点t7o−i7t℃(参考
例3) メチ/l’4,6ー0ーベンジリデン−2−デオキシ−
α−り一エリスロヘキソピフノシト5.17kf及び酢
酸アンモニウム14.016をメタノ−plookfK
gかし、これに室温にて95%5%ナトリフムシツノボ
ロヒドリド9フ4加え、4時間攪拌した◇反応液に10
%水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性とした後
、塩化メチレン2 6 kFで3回抽出した。有機層を
食塩水26kfで洗浄し、4%酢酸水22に7で2回抽
出し、10%水酸化ナトリウム水でアルカリとした後、
さらに塩化≦チ・・20に2で3回抽出し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濾過することによシ、メチlv3ー
アミノー4.6ー0ーベンジリデン−2.3−ジデオキ
シ−α−D−リボヘキソピラノシドの塩化メチレン溶液
6 0 kgが得られた0(収率49%)(4)の融点
は112−118℃(参考例4) 先に得られたメチ/v8ーアミノー4.6ー0ーベンジ
リデン−2.3−ジデオキシ−α−D−リボヘキソピラ
ノシドの塩化メチレン溶液5 5.O kpにピリジン
400Pを加え、氷水冷下、無水トリフルオロ酢酸2,
83辱を加え、同温度にて30分間反応させた。反応液
を重IJ 4. 0 k,を含む水46kpK注入して
、塩化メチレン層を水32kfで洗浄し、溶媒を溶去し
た0得られた残渣を四塩化炭素86に,で洗い、濾過す
ると、メチル4 、 6−〇ペンジリテ°ンー3ートリ
フルオロアセトアミド−2.3−ジデオキシ−α−D−
リホヘキソビラノシドの四塩化炭素溶液39にりが得ら
れた。(収率90%)(5)の融点は65−75℃NM
R(90MHz 、 CDCJ、 )δ(ppm) 2
.00(2H,m)、8.35(IH,s)、1.6−
3.85(2H,m)、3.8−4.85(4H,m)
7.3(5H,bs)、7.7(IH,bs)(参考例
5) メチル4.6−0−ベンジリデン−3−トリフルオロア
セトアミド−2,3−ジデオキシ−α−D−リボヘギソ
ビヲノンドの四塩化次素溶液645klKN−ブロモコ
ハク酸イミド30?及び炭酸バリウム412を加えて、
1時間加熱還流して反応液を冷却後、不溶物をF去して
得られる四塩化炭素e8液を20%ハイポ水溶液200
mjで2回、飽和重曹水200m4次いで飽和食塩水2
00mノで順次洗浄し、有機層を濃縮して得られる残渣
をイソプロピル7ルコール ことによプメチル4−0−ベンシイ)v−6−プロモー
3−トリフルオロアセトアミド−2.8.6−ドリデオ
キンーα−D−リボヘキソピラノシド56、2fを得た
o(’I’s:率92%)融点tos−iio’cNM
R (9 0MHz 、 CDC I, )δ(ppm
) 2.0−2.25(2H.m)。
例3) メチ/l’4,6ー0ーベンジリデン−2−デオキシ−
α−り一エリスロヘキソピフノシト5.17kf及び酢
酸アンモニウム14.016をメタノ−plookfK
gかし、これに室温にて95%5%ナトリフムシツノボ
ロヒドリド9フ4加え、4時間攪拌した◇反応液に10
%水酸化ナトリウム水溶液を加えてアルカリ性とした後
、塩化メチレン2 6 kFで3回抽出した。有機層を
食塩水26kfで洗浄し、4%酢酸水22に7で2回抽
出し、10%水酸化ナトリウム水でアルカリとした後、
さらに塩化≦チ・・20に2で3回抽出し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濾過することによシ、メチlv3ー
アミノー4.6ー0ーベンジリデン−2.3−ジデオキ
シ−α−D−リボヘキソピラノシドの塩化メチレン溶液
6 0 kgが得られた0(収率49%)(4)の融点
は112−118℃(参考例4) 先に得られたメチ/v8ーアミノー4.6ー0ーベンジ
リデン−2.3−ジデオキシ−α−D−リボヘキソピラ
ノシドの塩化メチレン溶液5 5.O kpにピリジン
400Pを加え、氷水冷下、無水トリフルオロ酢酸2,
83辱を加え、同温度にて30分間反応させた。反応液
を重IJ 4. 0 k,を含む水46kpK注入して
、塩化メチレン層を水32kfで洗浄し、溶媒を溶去し
た0得られた残渣を四塩化炭素86に,で洗い、濾過す
ると、メチル4 、 6−〇ペンジリテ°ンー3ートリ
フルオロアセトアミド−2.3−ジデオキシ−α−D−
リホヘキソビラノシドの四塩化炭素溶液39にりが得ら
れた。(収率90%)(5)の融点は65−75℃NM
R(90MHz 、 CDCJ、 )δ(ppm) 2
.00(2H,m)、8.35(IH,s)、1.6−
3.85(2H,m)、3.8−4.85(4H,m)
7.3(5H,bs)、7.7(IH,bs)(参考例
5) メチル4.6−0−ベンジリデン−3−トリフルオロア
セトアミド−2,3−ジデオキシ−α−D−リボヘギソ
ビヲノンドの四塩化次素溶液645klKN−ブロモコ
ハク酸イミド30?及び炭酸バリウム412を加えて、
1時間加熱還流して反応液を冷却後、不溶物をF去して
得られる四塩化炭素e8液を20%ハイポ水溶液200
mjで2回、飽和重曹水200m4次いで飽和食塩水2
00mノで順次洗浄し、有機層を濃縮して得られる残渣
をイソプロピル7ルコール ことによプメチル4−0−ベンシイ)v−6−プロモー
3−トリフルオロアセトアミド−2.8.6−ドリデオ
キンーα−D−リボヘキソピラノシド56、2fを得た
o(’I’s:率92%)融点tos−iio’cNM
R (9 0MHz 、 CDC I, )δ(ppm
) 2.0−2.25(2H.m)。
3、4−17(2H.m) 、3.50(3H. s)
、4.0−4.4(IH。
、4.0−4.4(IH。
m) 、4.5−5.3(3H,m) 、 7.8−8
.1. (6H,m)(参考例6) 先に得られたメチル4−0−ベンゾイル−6−プロモー
3−トリフルオロアセトアミド−2。
.1. (6H,m)(参考例6) 先に得られたメチル4−0−ベンゾイル−6−プロモー
3−トリフルオロアセトアミド−2。
3、6− )リゾオキシ−αーDーリボヘキソヒ゛フ/
シ)’148f’eピリジン8. 2 kvに溶かし、
弗化銀1482を加え室温にて1日投拌した0反応液を
エーテル6 kpに注入しシリカケ/I/2862を加
えて、を濾過しだop液を濃縮して、エーテ/I/11
で希釈し、飽和硫酸銅水〆液11で2回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾幼し、p過温W.溶去すると、メチ
A/4−0−ベンゾイル−8−計りフルオロアセトアミ
ド−2.3.6− )リゾオキシ−αーDーエリスロヘ
キセンー5ービフノシド1002が得られたO(収率8
6%)融点69−78℃ NMR( 90MHz,CDCj13)δ(pam)
IJ5−235(2H,m)。
シ)’148f’eピリジン8. 2 kvに溶かし、
弗化銀1482を加え室温にて1日投拌した0反応液を
エーテル6 kpに注入しシリカケ/I/2862を加
えて、を濾過しだop液を濃縮して、エーテ/I/11
で希釈し、飽和硫酸銅水〆液11で2回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾幼し、p過温W.溶去すると、メチ
A/4−0−ベンゾイル−8−計りフルオロアセトアミ
ド−2.3.6− )リゾオキシ−αーDーエリスロヘ
キセンー5ービフノシド1002が得られたO(収率8
6%)融点69−78℃ NMR( 90MHz,CDCj13)δ(pam)
IJ5−235(2H,m)。
8、48(3H,s)、4.5−5.0(4H,m)、
5.5−5.75( LH,m) 、7.3−8.2(
6H,m)(実施例1) ノシド(8) メチ/I/4−0ペンシイ/L’−3−)リフルオロア
セトアミド−2.3.6−ドリデオキシーα−D−エリ
スロヘキセンー5−ピラノシド50ft−酢酸エチル5
00mjに溶かし、10%パラジウム−硫酸バリウム1
6j’を加え、常圧、室温で水素気流下1時間攪拌し、
濾過、留去すると、メチル4−0−ペンシイ、Az−3
−)リフルオロアセトアミド−2.3.6−トリデオキ
シーα−り一エリスロヘキソビラノシド40?が得られ
た。
5.5−5.75( LH,m) 、7.3−8.2(
6H,m)(実施例1) ノシド(8) メチ/I/4−0ペンシイ/L’−3−)リフルオロア
セトアミド−2.3.6−ドリデオキシーα−D−エリ
スロヘキセンー5−ピラノシド50ft−酢酸エチル5
00mjに溶かし、10%パラジウム−硫酸バリウム1
6j’を加え、常圧、室温で水素気流下1時間攪拌し、
濾過、留去すると、メチル4−0−ペンシイ、Az−3
−)リフルオロアセトアミド−2.3.6−トリデオキ
シーα−り一エリスロヘキソビラノシド40?が得られ
た。
(収率80%)
NMR ( 901v11(z 、 CDCJ, )δ
(ppm) 125(8H,d,J=6.2Hz)1、
7−2.2 (2H 、 m ) + 8.57 (3
I( 、 s ) 、3.84 (IH 。
(ppm) 125(8H,d,J=6.2Hz)1、
7−2.2 (2H 、 m ) + 8.57 (3
I( 、 s ) 、3.84 (IH 。
dd,J=6.5Hz)、 4.1−4.6(21(、
m)、5.28(IH。
m)、5.28(IH。
d,2Hy,)、 6.62(IH,bd, J=8H
z)、 7、3−7.7(3H。
z)、 7、3−7.7(3H。
m)、7.9−8.2(2H,m)
(5iI!施例2)
メチ/L’4−0−ベンゾイル−3−トリフルオロアセ
トアミド−2.3.6−ドリデオキシーα−D−エリス
ロヘキソピラノシド502をメタノ−/11500〜に
溶かし、室温にて5、7N−ナトリウムメチラートを1
1.8F加え同温度で1日攪拌した0酢酸を加えて中性
とした後、反応液を留去して、アセトン1Δを加え溶か
した後、丞 無水硫酸マグネシウム102で乾燥し、P.f&後濃縮
し九〇得られた残渣をn−ヘキサン500mJで洗浄、
戸数後乾燥することによシ、メチル3− ト リ フル
オロアセ ドア ミ ドー 2.3.6−) リ デ
オキシ−α−り一エリヌロヘキソピラノシド34.7y
が得られた。(収率97%)融点145−147℃ NMR(90MHz 、 CDC11,)δ(pl)m
) 1.32(3H,d、J=132Hz)1.5−2
.25(2H,m)、2.38(IH,d、J=10H
y、)3.55(3H,s )、3.4−3.8(2H
,m> 、4.42(IH。
トアミド−2.3.6−ドリデオキシーα−D−エリス
ロヘキソピラノシド502をメタノ−/11500〜に
溶かし、室温にて5、7N−ナトリウムメチラートを1
1.8F加え同温度で1日攪拌した0酢酸を加えて中性
とした後、反応液を留去して、アセトン1Δを加え溶か
した後、丞 無水硫酸マグネシウム102で乾燥し、P.f&後濃縮
し九〇得られた残渣をn−ヘキサン500mJで洗浄、
戸数後乾燥することによシ、メチル3− ト リ フル
オロアセ ドア ミ ドー 2.3.6−) リ デ
オキシ−α−り一エリヌロヘキソピラノシド34.7y
が得られた。(収率97%)融点145−147℃ NMR(90MHz 、 CDC11,)δ(pl)m
) 1.32(3H,d、J=132Hz)1.5−2
.25(2H,m)、2.38(IH,d、J=10H
y、)3.55(3H,s )、3.4−3.8(2H
,m> 、4.42(IH。
Claims (2)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Phはフェニル基をあらわす。) で表わされるメチル4−O−ベンゾイル−3−トリフル
オロアセトアミド−2,3,6−トリデオキシ−α−D
−エリスロヘキソピラノシドを脱ベンゾイル化反応に付
することを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるメチル3−トリフルオロアセトアミド−2
,3,6−トリデオキシ−α−D−エリスロヘキソピラ
ノシドの製法。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Phはフェニル基をあらわす。) で表わされるメチル4−O−ベンゾイル−3−トリフル
オロアセトアミド−2,3,6−トリデオキシ−α−D
−エリスロヘキセン−5−ピラノシドを還元することに
より式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Phはフェニル基を示す。) で表わされるメチル4−O−ベンゾイル−3−トリフル
オロアセトアミド−2,3,6−トリデオキシ−α−D
−エリスロヘキソピラノシドを得、次いで脱ベンゾイル
化反応に付することを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるメチル3−トリフルオロアセトアミド−2
,3,6−トリデオキシ−α−D−エリスロヘキソピラ
ノシドの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18152884A JPS6160693A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | ダウノサミン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18152884A JPS6160693A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | ダウノサミン誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6160693A true JPS6160693A (ja) | 1986-03-28 |
Family
ID=16102338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18152884A Pending JPS6160693A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | ダウノサミン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6160693A (ja) |
-
1984
- 1984-08-30 JP JP18152884A patent/JPS6160693A/ja active Pending
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