JPS6161332B2 - - Google Patents
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- JPS6161332B2 JPS6161332B2 JP13821479A JP13821479A JPS6161332B2 JP S6161332 B2 JPS6161332 B2 JP S6161332B2 JP 13821479 A JP13821479 A JP 13821479A JP 13821479 A JP13821479 A JP 13821479A JP S6161332 B2 JPS6161332 B2 JP S6161332B2
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- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 20
- 239000013068 control sample Substances 0.000 claims description 19
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 6
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/22—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using a variable element in the light-path, e.g. filter, polarising means
- G01J1/24—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using a variable element in the light-path, e.g. filter, polarising means using electric radiation detectors
-
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- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/021—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using plane or convex mirrors, parallel phase plates, or particular reflectors
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はダブルビーム分光光度計に係り、特
に、2光束の延長線が囲む範囲外に設置した1枚
の集光球面鏡で1個の光電検知器に2光束を集束
させるようにした測光部の構造に関するものであ
る。
に、2光束の延長線が囲む範囲外に設置した1枚
の集光球面鏡で1個の光電検知器に2光束を集束
させるようにした測光部の構造に関するものであ
る。
分光光度計で試料を透過した光を検知する場合
は、光電検知器の受光面上に試料像を結像させて
測光検知することが一般的に行われている。これ
は光電検知器の受光面には感度差(ローカリテ
イ)があるので、その受光位置を固定して測定値
の誤差を避けるためである。このことは特にダブ
ルビーム分光光度計においては測光精度を向上さ
せるために重要視されている。
は、光電検知器の受光面上に試料像を結像させて
測光検知することが一般的に行われている。これ
は光電検知器の受光面には感度差(ローカリテ
イ)があるので、その受光位置を固定して測定値
の誤差を避けるためである。このことは特にダブ
ルビーム分光光度計においては測光精度を向上さ
せるために重要視されている。
第1図は従来のダブルビーム分光光度計の測光
部の光路図である。分光器の出射スリツトを出た
光束は半透明鏡等を用いて2つに分割され、一般
に平行な光束とされて試料1および対照試料2を
透過する。これらを透過した光束はエツジミラー
3、平面ミラー4によつて各々反射され、集光球
面鏡5によつて集光されて光電検知器6の受光面
7に集まる。この2光束は分離された後で回転扇
形板等で交互に遮断されているので、光電検知器
6は2光束の透過光量を交互に検知している。な
お、光電検知器6の出力は増幅した後に対数変換
されて比較され、その測光波長光における試料成
分濃度が得られるようになつている。
部の光路図である。分光器の出射スリツトを出た
光束は半透明鏡等を用いて2つに分割され、一般
に平行な光束とされて試料1および対照試料2を
透過する。これらを透過した光束はエツジミラー
3、平面ミラー4によつて各々反射され、集光球
面鏡5によつて集光されて光電検知器6の受光面
7に集まる。この2光束は分離された後で回転扇
形板等で交互に遮断されているので、光電検知器
6は2光束の透過光量を交互に検知している。な
お、光電検知器6の出力は増幅した後に対数変換
されて比較され、その測光波長光における試料成
分濃度が得られるようになつている。
しかるに上記のような測光部は、2光束の間隔
が比較的挾く、また、測光部を小形に構成するた
めに集光球面鏡5を2光束の延長範囲外に設置し
光電検知器6は平面ミラー4に接近させている。
このような構成では試料1と集光球面鏡5との間
の光路長は対照試料2と集光球面鏡5との間の光
路長より明らかに短くなり、例えば試料1の像を
受光面7上に結像させたときは、対照試料2の像
は受光面7上に結像されない。図に示すように試
料1の像を1対1の倍率で受光面7内に生じさせ
たとすると、対照試料2の像は受光面7の手前に
縮少して生じた後発散して受光面7を照射するの
でその照射範囲は異なり、かつ、その境界も不明
瞭となる。即ち、受光面7における両光束の照射
状態が異なるので測定誤差を生じ易いという欠点
があつた。
が比較的挾く、また、測光部を小形に構成するた
めに集光球面鏡5を2光束の延長範囲外に設置し
光電検知器6は平面ミラー4に接近させている。
このような構成では試料1と集光球面鏡5との間
の光路長は対照試料2と集光球面鏡5との間の光
路長より明らかに短くなり、例えば試料1の像を
受光面7上に結像させたときは、対照試料2の像
は受光面7上に結像されない。図に示すように試
料1の像を1対1の倍率で受光面7内に生じさせ
たとすると、対照試料2の像は受光面7の手前に
縮少して生じた後発散して受光面7を照射するの
でその照射範囲は異なり、かつ、その境界も不明
瞭となる。即ち、受光面7における両光束の照射
状態が異なるので測定誤差を生じ易いという欠点
があつた。
本発明は簡単な構成で測光誤差を減少させるの
に好適なダブルビーム分光光度計を提供すること
を目的とし、その特徴とするところは、試料およ
び対照試料の集光球面鏡による実像を光電検知器
の受光面上に実質的に等しい倍率で結像させる手
段を用いたことにある。
に好適なダブルビーム分光光度計を提供すること
を目的とし、その特徴とするところは、試料およ
び対照試料の集光球面鏡による実像を光電検知器
の受光面上に実質的に等しい倍率で結像させる手
段を用いたことにある。
第2図は本発明の一実施例であるダブルビーム
分光光度計の光路図であり、第1図と同じ部分に
は同一符号を付してある。試料1を透過した光束
は平面鏡8で反射した後でエツジミラー3に入射
させている。このようにすれば、試料1と集光球
面鏡5との間の光路長を平面ミラー8およびエツ
ジミラー3の位置によつて調節することが可能と
なり、対照試料2と試料1の等倍像を受光面7に
結像させることが可能となる。これについては第
3図によつて更に詳細に説明する。
分光光度計の光路図であり、第1図と同じ部分に
は同一符号を付してある。試料1を透過した光束
は平面鏡8で反射した後でエツジミラー3に入射
させている。このようにすれば、試料1と集光球
面鏡5との間の光路長を平面ミラー8およびエツ
ジミラー3の位置によつて調節することが可能と
なり、対照試料2と試料1の等倍像を受光面7に
結像させることが可能となる。これについては第
3図によつて更に詳細に説明する。
第3図は第2図の測光部の結像関係を説明する
図である。点Aは試料1、対照試料2の中心点、
点Bは受光面7の中心点、点Mは集光球面鏡5の
反射面の中心点、点Cは集光球面鏡5の曲率半径
Rの中心点とする。また、上記点Aの結像点は点
Bであるとする。このとき集光球面鏡5による結
像関係は次式で表わされる。
図である。点Aは試料1、対照試料2の中心点、
点Bは受光面7の中心点、点Mは集光球面鏡5の
反射面の中心点、点Cは集光球面鏡5の曲率半径
Rの中心点とする。また、上記点Aの結像点は点
Bであるとする。このとき集光球面鏡5による結
像関係は次式で表わされる。
1/a+1/b=2/R・cos………(1
) 但し、a=、b=、R=であり、 =<AMC=<BMC 上記(1)式は、集光球面鏡5の反射面の中心点M
の近くで反射する近軸光線についてのみ成立する
もので、第2図に示すように球面反射面の別個の
点で反射する2光束においては、反射点M′、
M″の間隔が広がる程と交わる位置はB点から
離れる。
) 但し、a=、b=、R=であり、 =<AMC=<BMC 上記(1)式は、集光球面鏡5の反射面の中心点M
の近くで反射する近軸光線についてのみ成立する
もので、第2図に示すように球面反射面の別個の
点で反射する2光束においては、反射点M′、
M″の間隔が広がる程と交わる位置はB点から
離れる。
次に、M′を中心として反射する光束では、
′=<CM′B=(<BMC+<M′CM)
−<MBM′=+α−ξ′
但し、α=<M′CM=<M″CM
ξ′=<MBM′とする。
また、M″を中心として反射する光束において
は、 ″=<CM″B=(<BMC+<M″BM) −<MCM″=−α+ξ″ 但し、ξ″=<MBM″である。
は、 ″=<CM″B=(<BMC+<M″BM) −<MCM″=−α+ξ″ 但し、ξ″=<MBM″である。
いま、MM′=MM″=xとし、BM′をb′とする
と、近似的に次式が成立する。
と、近似的に次式が成立する。
b′=√2+′2−2・′・cos(90゜+)=√2+2+2 ………(2)
同様にしてBM″=b″とすると
b″=√2+″2−2・BM・″・cos(90゜−)=√2+2−2 ………(3)
また、α=tan-1(x/R)であるので、
ξ′=tan-1(MM′sin(90゜+)/BM−MM′・cos(90゜+))=tan-1(xcos/b
+xsin)………(4) ξ″=tan-1(MM″sin(90゜−)/BM−MM″cos(90゜−))=tan-1(xcos/b−
xsin)………(5) 以上の関係から、b′、b″、′、″は上記(2)、
(3)、(4)、(5)式によつて求められ、これらの値を(1)
式に代入すれば′、″を算出することがで
きる。したがつて、第2図において算出値を満足
するように平面ミラー4,8とエツヂミラー3を
設置すれば、試料1および対照試料2の等倍実像
を光電検知器6の受光面7上に結像させることが
できる。また、試料1、対照試料2、集光球面鏡
5および光電検知器6の受光面7の位置の組合わ
せは、上記以外にはあり得ない。
+xsin)………(4) ξ″=tan-1(MM″sin(90゜−)/BM−MM″cos(90゜−))=tan-1(xcos/b−
xsin)………(5) 以上の関係から、b′、b″、′、″は上記(2)、
(3)、(4)、(5)式によつて求められ、これらの値を(1)
式に代入すれば′、″を算出することがで
きる。したがつて、第2図において算出値を満足
するように平面ミラー4,8とエツヂミラー3を
設置すれば、試料1および対照試料2の等倍実像
を光電検知器6の受光面7上に結像させることが
できる。また、試料1、対照試料2、集光球面鏡
5および光電検知器6の受光面7の位置の組合わ
せは、上記以外にはあり得ない。
第4図は第3図で説明した手法で得た一例であ
る。試料1と対照試料2を透過する2光束の間隔
は100mmで、集光球面鏡5の反射面の曲率半径を
200mmとしている。なお、各光学部品間の光路長
はすべてmm単位で示し、光束中心のなす角度は度
単位で示してある。
る。試料1と対照試料2を透過する2光束の間隔
は100mmで、集光球面鏡5の反射面の曲率半径を
200mmとしている。なお、各光学部品間の光路長
はすべてmm単位で示し、光束中心のなす角度は度
単位で示してある。
いま、試料1と集光球面鏡5のM″点間の光路
長を加算すると212.7mmとなり、対照試料2と集
光球面鏡5のM′点間の光路長を加算すると223.3
mmとなる。したがつて、受光面7上の試料1の像
倍率は0.77となり、受光面7上の対照試料2の像
倍率は0.84となつてほぼ一致する。
長を加算すると212.7mmとなり、対照試料2と集
光球面鏡5のM′点間の光路長を加算すると223.3
mmとなる。したがつて、受光面7上の試料1の像
倍率は0.77となり、受光面7上の対照試料2の像
倍率は0.84となつてほぼ一致する。
上記のごとく本実施例の測光部は、試料の透過
光を2枚の平面ミラーで反射させて対照試料の透
過光路長に近づけることによつて、光電検知器の
受光面にほぼ等倍の試料又は対照試料の像を生成
させることが可能となり、測光誤差を減少させる
ことができるという効果をもつている。
光を2枚の平面ミラーで反射させて対照試料の透
過光路長に近づけることによつて、光電検知器の
受光面にほぼ等倍の試料又は対照試料の像を生成
させることが可能となり、測光誤差を減少させる
ことができるという効果をもつている。
上記実施例においては試料側に集光球面鏡5を
設置したが、対照試料2側に集光球面鏡5を設置
し、第2図とは対称な光路を形成させても同じ効
果が得られる。また、第1図の従来の場合でも試
料1の位置を分光器側に近づけて試料1と集光球
面鏡5の間の光路長を増せば、受光面7に等倍像
を生成させることができるが、試料1と対照試料
2の位置が左右に喰い違つて操作が不便となると
共に試料室の構造が複雑になるので本発明の方が
優れている。なお、このように構成した測光部に
は従来用いられていたような両光束を合致させて
光電検知器6に送るための回転ミラーを使用する
必要がなく、可動部を設けていないので安定した
測光値が得られるという利点がある。
設置したが、対照試料2側に集光球面鏡5を設置
し、第2図とは対称な光路を形成させても同じ効
果が得られる。また、第1図の従来の場合でも試
料1の位置を分光器側に近づけて試料1と集光球
面鏡5の間の光路長を増せば、受光面7に等倍像
を生成させることができるが、試料1と対照試料
2の位置が左右に喰い違つて操作が不便となると
共に試料室の構造が複雑になるので本発明の方が
優れている。なお、このように構成した測光部に
は従来用いられていたような両光束を合致させて
光電検知器6に送るための回転ミラーを使用する
必要がなく、可動部を設けていないので安定した
測光値が得られるという利点がある。
本発明のダブルビーム分光光度計は、一方の光
路に平面ミラーを1枚追加配置するだけで光電検
知器の受光面にほぼ等倍の試料および対照試料の
像を作ることができるので、測定誤差を大幅に減
少させることができるという効果が得られる。
路に平面ミラーを1枚追加配置するだけで光電検
知器の受光面にほぼ等倍の試料および対照試料の
像を作ることができるので、測定誤差を大幅に減
少させることができるという効果が得られる。
第1図は従来のダブルビーム分光光度計の光路
図、第2図は本発明の一実施例であるダブルビー
ム分光光度計の光路図、第3図は第2図の測光部
の結像関係を説明する図、第4図は第3図で説明
した手法で得た設計図の一例である。 1……試料、2……対照試料、3……エツヂミ
ラー、4,8……平面ミラー、5……集光球面
鏡、6……光電検知器、7……受光面。
図、第2図は本発明の一実施例であるダブルビー
ム分光光度計の光路図、第3図は第2図の測光部
の結像関係を説明する図、第4図は第3図で説明
した手法で得た設計図の一例である。 1……試料、2……対照試料、3……エツヂミ
ラー、4,8……平面ミラー、5……集光球面
鏡、6……光電検知器、7……受光面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 分光器より出射した光束を2光束に分割して
平行な一対の光束とし、この一対の光束を上記分
光器より等距離な位置に設置した試料と対照試料
とを交互に通過させた後、上記一対の光束の延長
線が挾む範囲外に設置した1個の集光球面鏡で集
光して1個の光電検知器で上記2光束の光量を検
知するごとく構成したダブルビーム分光光度計に
おいて、上記試料および上記対照試料の上記集光
球面鏡による実像を上記光電検知器の受光面上に
実質的に等しい倍率で結像させる手段を用いてな
ることを特徴とするダブルビーム分光光度計。 2 上記試料および上記対照試料の実像を等倍率
で結像させる手段が、上記試料と上記集光球面鏡
との間の光路又は上記対照試料と上記集光球面鏡
との間の光路のいずれか上記集光球面鏡に近い光
路に、平面ミラーを2枚設置して上記光路を折り
曲げて2回反射させ、他の光路は1枚の平面ミラ
ーで反射させることにより、上記試料および上記
対照試料と上記集光球面鏡との間の光路長を調節
する手段である特許請求の範囲第1項記載のダブ
ルビーム分光光度計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13821479A JPS5661624A (en) | 1979-10-24 | 1979-10-24 | Photometry unit of double beam spectrophotometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13821479A JPS5661624A (en) | 1979-10-24 | 1979-10-24 | Photometry unit of double beam spectrophotometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5661624A JPS5661624A (en) | 1981-05-27 |
| JPS6161332B2 true JPS6161332B2 (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15216742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13821479A Granted JPS5661624A (en) | 1979-10-24 | 1979-10-24 | Photometry unit of double beam spectrophotometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5661624A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59153132A (ja) * | 1983-02-21 | 1984-09-01 | Shimadzu Corp | 複数チヤンネル分光光度測定装置 |
-
1979
- 1979-10-24 JP JP13821479A patent/JPS5661624A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5661624A (en) | 1981-05-27 |
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