JPS616190A - 施釉機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、皿等の食器類や、タイル゛９の建築用陶器製
品の施釉機に係り、特に釉薬を極微細′或束状にして飛
散させて施釉しうべくなした施釉機に関する６ （先　　行　　技　　術　　） 従来陶器施釉には浸し掛け、吹き掛け、瀉し掛け、塗り
掛は等が用いられていたが、そのいずれもが近年の大量
生産方式には施釉速度、釉厚の不均一、経済性等におい
て問題点を有し、なじみ難いものとなっていた。

Ｊ−記に鑑み、近年釉薬を噴霧ノズルによって噴射する
方式の釉薬飛散装置か各種提案されているが、該噴射力
式では高圧空気を使用するので空気の程大量が多く、ま
だ飛散範囲がノズルから放射状に拡がる等のため、釉薬
の使用量か多く、かつ回収も困難である。さらにノズル
のつまり等とも、ドＪ俟って完全な霧状とならない場合
もあり、従って釉１５にムラを生じ易いうえ、Ｌ記した
ように広範囲に飛散するため集塵装置等の付帯設備か犬
がカ）りになる等種々の欠陥を有していた。

（発明が解決しようとする間８も） そこで本願発明者は、スプレ一式噴１方式に代わるへく
、釉薬を導入し吸出透孔を列設する円筒の［！！１りに
、一体で回転しうへくそれぞれ所定間隔で配設した複数
の円板体による拡散ローラ一体を回転せしめ、それぞれ
の円板体間の空気が遠心力で外方に振り飛ばされて生ず
る負圧を利用し、Ｔｉｊ記吸出透孔から吸出された釉薬
を該遠心力により）９状として、被釉陶器面へ均一・に
飛散させることを特徴とする陶器施釉機における釉薬飛
散装置を発明し、これを特い昭５７−１６９２７０号と
して出ｍｌ’！　した。該発明は従来の噴射力式では３
０〜４０％も生じていた釉薬の損失を、−挙に約１０％
にまで改善する画期的なものであるか、さらに本願発明
者はこれらに加え、より微細で、適宜変化をもたせた露
状にして、変化に富んだ施釉をなしうる施釉機を発明し
たものである。

（問題点を解決するためのＦ段） そこで本発明は釉薬を導入しフヘ〈なしかつ供給可能な
透孔を列設してなる管状の供給塔外周へ、多数の微細孔
を貫設してなる円筒状の散布筒を少くとも　・つ回動可
能に配設し、該散在筒の回転により前記釉薬を露状にし
て飛散可能に形成１７１−ことを特徴とする施釉機を提
供して、前記問題点を解決するものである。

（作　　用） 上記り段によって構成される本発明は、被釉陶器が連続
的に通過しうへく、前後に通路口を開設してなる施釉機
内の、被釉陶器搬送径路を挟んで少（とも２個の飛：ｉ
ｋ　Ｂを配設する。しかるのち。

それぞれの飛散供給管に釉薬を導入し散布筒を同転させ
、３該供１給管の透孔列から、４人された釉薬か回転す
る散布筒内壁に供給され瞬間的に遠心力で微細露状まで
粉砕される。

吹いて散布筒に多ｆｉ！！貫設されている微細孔からｈ
作成となって被釉陶器の全表面に均一に飛散して施釉さ
れる。このときの霜束を構成する個々のみ粉は、散／Ｔ
５筒の回転に伴う遠心力によって、前記供給管と散存筒
間に形成される空間は、常時負圧状弓を呈しており、供
給される釉薬は分留し易い状態で、該散布筒内壁に激突
して粉砕され、さらに微細孔から高速で流出する負正気
流に吸出されて極微細霜束となるうえ微細孔をつまらせ
ることもなくなる。

（実　施　例） 引き続いて第１図ないし第３図を利用して、本発明の笑
施例について説明する。

第１図で示すように飛散機ｌは、適４４の釉薬を導入し
うべくした供給管１１と該供給へ１１１の周りに回動ｒ
ｊｆ衡となした飛ｒｔ！１．筒１２及び１該故１（ｉ筒
１２に回転力を伝達する駆動体１３により構成される。

散在筒１２は、−個の支承体１２１ａ及びＩ２１ｂで、
性成布筒１２２ａ及び中成布筒１２２ｂを同心円状に両
側から挟持して形成される。支承体１２１ａは、その−
・端？、後記するように偏心して配設された駆動体１３
からの回転力を受け。

１１を布筒１２に伝達しラベきＶブ・−リ１３１ｔｃ因
着し〉へきキーｉＭ　１２１　ｋを掘さくした小径端と
なし、他端を性成布筒１２２ａを支承しうへき大ｆグと
なした断面形状凸型となっており、他の支承体１２１ｂ
は大径部を前記支承体１２１ａと略同形状と１〜である
。なお両支承体１２１ａ及び１２１ｂの大径部には、後
記する支承板を挿通したポル１１２４ａか挿通される複
数個のポル（・孔１２１ｈ−−−が同一円周トに等間隔
で穿、没しである。

件数布筒１２２ｂはあらかしめ後記する供給管１１に列
設される透孔列の前後端間の長さよりゆや長か１１に切
断された細目の金網等を大小の一本の円筒形状としたも
ので、そのそれぞれを両端で偏心変形を防止しうへく、
それぞれと同径の同心円形の支承溝１２３ｄを堀さくさ
れた二枚の支承板１２３．１２３にｎ’）：′！Ａされ
て同心固状の一層状態？保持するようになっている。ご
らに支承板１２３．１２３には、＋ｉｉｊ記軸受１２１
ａ、１２１ｂに固着させ、かつ件数布筒１２２ａ及び中
散布筒ｌ２２ｂの同心円二層状ｙルの保持ならひに圧壊
を防１トするポルト１２４ａを挿通しうへきボルト孔１
２３ｈが、前記同心円状の二条の支承溝１２３ｄの中間
に複数個、等間隔で穿設され、該ボルト孔１２３ｈのす
へてと市記支承体１２１ａ及び１２１ｂの大径部に穿設
されるボルト孔１２１　ｈのすべては完全に対厄する如
く穿設しである。故に外散布筒１２２ａと中散布簡１２
２ｂ間に挿入された前記ボルト１２４ａ−−一を支承Ｊ
ｉ１２３，１２３のホルト孔１２３ｈ−−−に挿通した
のち支承体１２１ａ、１２１ｂ（７）ホルト孔１２１ｈ
−−−に挿通して、支承板１２３ｄに外機！０拘１２２
ａ及び中故布筒１２２ｂを完全に嵌装せしめ、＋シト１
２４ｂ−−−を螺締すれば散！ｔｊ筒１２は一体となる
。

次いで供給管ｌｌは、予め＃Ｊ薬を供給しうへき透孔１
１１−−一か所定の直径で軸方向にＨｒ定砂、それぞれ
所定の間隔で列設され、そのｔｉｊ後端間の長さは、前
記した性成４１筒１２２ａよりやや短か１１となってお
り、供給された釉薬が直接飛散機１外に洩れないように
しである。さらに供給管１１は、前記散布筒１２の全長
より長い筒体で。

その両端番こは釉薬タンク側に接続するためのエルボ１
４及び釉薬の供給量の加減調節と、施釉後、管内に残留
する釉薬を排出して回収するための開閉弁１５を螺着す
るための雄ｔ＋９１１　ｍが切っである。

次に、以上−のように形成した飛１１ｊ、機ｌを主要な
構成要素とする施＃Ｉ機Ａへの組付けについて第２図及
び第３図に従い説明する。

施釉機Ａは、ケーシン、グＡＣ内部に飛散装置ｌａと搬
送体２及び回転伺与機構３で構成される。

ケーシングＡＣは、床体操の水箱外形形状を呈し、かつ
正対する前後壁部Ｗｆ及びＷｒにそれぞれ正対する三角
形の各頂点に相当する位置に、前記した支承体１２１ａ
、１２１ｂを挿通しうへき直径を有する支承孔ｗｈ−−
−を穿設すると共に、それら各３個の支承孔ｗｈ−−−
間を支柱２４」；の載置台２５へ、被釉陶器Ｐを載置し
て通過可能に通路口Ｔ、ＴがｉＥ対して開口させである
。なお後壁部Ｗｒには支承孔ｗｈ及び通路口Ｔに低触し
ない位置を選び、前記した駆動体１３のモーター１３２
の載置棚１３２ｓか突設され、さらに面、後壁部Ｗ　ｆ
　、　Ｗ　ｒにそれぞれ五個穿設された前記支承孔ｗｈ
−−−下部に、それぞれ挿通される支承体１２１ａ、１
２１ｂを回動自在に枢支する軸受１２１ｃｍ−一を保持
すべくした支承台１２１ｓ−−−が突設され、また該支
承孔ｗｈ−−−−上部には、供給管１１を挿通して支持
しうへくなしたブラダ７）１１ｂが突設される。なおケ
ーシングＡＣの奥行は前記供給管１１より短がくしであ
る。

飛散装置１ａは、ケーシングＡＣの１７ｉｊ後壁部Ｗｆ
及びＷｒにそれぞれ３個穿設された支承孔ｗｈ−−−ニ
それぞれ飛散ｆｉｔを組（−ｊけることによって構成さ
れる９組イ・ｉ後ケーシングＡＣの後壁Ｗｒ外に突、没
された載置棚１３２ｓのそれぞれにモータ１３２を載置
し　軸端にゲージングＡＣ内に突出させて■ブー１．＋
　３３３を１υ着する。そしてＶベルト１３４で該Ｖプ
ーリ１３３と前記Ｖプーリ１３１を迂結する。その後ケ
ーシングＡＣの前壁部Ｗ　ｆから突出している３未の供
給管１１−一にそれぞれエルボ１４を螺着し、ポースＨ
を用いて、ｔ一部に配、′６されて苗差で釉薬を供給管
ｌｌ内に圧送しうへくした釉薬タンクＹへそれぞれ接続
する。さらに釉薬タンクＹには図丞しない浮子等で釉薬
液面を−にに保ちうべくなされており、供給管１１内に
圧送さるへ３Ｍ薬の圧力を一定とするようなされている
。

また後壁部Ｗｒから突出している３本の供給管１１に開
閉弁１５をそれぞれ螺着する。この際螺着か終った時点
で供給管１１の透孔１１１・−一一が下刃を向くことが
必要である。

なお、施釉機Ａには、被釉陶器Ｐを搬送するための搬送
体２と、該搬送体２のｆｔ、置台２５を回転させるため
の回転付与機構３が設けられている。

搬送体２は、レール２１と、該レール２１１：を適宜移
送される台車２２と、試合ｌ１１２２に垂設され、かつ
そのド端にプーリ２３が、−に端に被釉陶器Ｐを載置す
る枠状の載置台２５ｉ配設されてなる支柱２４とからな
っており、上記した如く飛散装置１ａ通過可能となって
いる。

また回転付与機構３は、プーリ３１ともう１個のブーり
と、これらに張設されたベルト体３２とからなり、ブー
９３１は図示しないモータでｐ１転駆動されベルト体３
２を駆動すへくなっている。

なお、前記搬送体２のプーリ２３は、ケーシングＡＣ内
を通過する際、このベルト体３２と摺接するため、この
間で支柱２４及び載置台２５、ひいては被釉陶器Ｐを回
転させるように形成されている。

次に、以りのにように形成した施釉機Ａの作用について
説明する。

まず、飛散装置ｌａの３個のモータ１３２−−一を始動
させ、ぞれぞれの散ＩＩ】筒１２を回転させる。次いで
利１薬タンクＹの１．に示しない開閉栓を開いて、釉薬
を各供給管ｌｌ内に導入し、透孔１１１から供給せしめ
る。そして開閉ｊｒ１５をそれぞれ調節して、被釉陶器
Ｐ全表面に理想的な霧状となって飛散するよう調整する
。

以１−のような調整を終ったならば搬送体２１−に被柚
胸器Ｐを載置し、連続して施釉機Ａ内を通過させればよ
い。

このとき、それぞれの飛散機ｌ内では、前記したように
故Ｍｊｆａ１２の回転による遠心力で内部の空気は負圧
状態をｌ？シ、透孔１１１−−一から供給される釉薬は
分裂寸前の非常に不安定な状態で先ず中散布肖１２２ｂ
に激突して瞬時に粉砕され、網目を通って振り飛ばされ
、さらに性成布筒１２２ａによって再度粉砕されるので
、霧を構成するそれぞれの霧粒は極微細の大きさの揃っ
たものとされていて非常に均一な厚さで施釉される。

なお、３個の飛散機ｌが、被釉陶器Ｐの周りから霧状で
飛散するので全表面をくまなく一度で施釉でき、非常に
効率的である。また本発明では、供給管１１の末端部に
開閉弁１５を設けたので。

霧の飛散状態を調整し易く、施釉機Ａの運転中何らかの
理由で露の飛散状態か変化しても、機を失せず、かつ運
転を継続しながらでも調整できることと、施釉後に開閉
弁１５を全開にして供給管ｌｌ内に残留する釉薬を全量
排出して回収できるので、前発明で一挙に１０％前後ま
で向トさせた釉薬の損失率か、さらに数％向トすること
は確実である。

なお、Ｌ記実施例では、散布筒１２に細Ｖ１の金網等で
形成した性成！ｐ筒１２２ａと中成布筒１２２ｂを同心
固状の一層構造とするものについて説明したが、本発明
はこれに限らず、一層でもよくまた金属板等に微細孔を
多数穿設した円筒形状としたものを使用してもよく、ま
た：、層重１−とする場合は金網等による円筒と金属板
等によるものを交ンイ−に組合せて使用してもよく、要
は釉薬の性質または被釉陶器の形状材質等により適宜選
択すればよいことは申すまでもない。

まＩ−１散ろ筒１２の駆動力法、散布筒１２の支ノ］（
方法等本発明に係る散布装置各部の具体的な構１盾、形
状　大きさやこれを付設する施釉機の構造ならひに配設
方法等は１本発明の上記した目的と作用及び効果の達成
される範囲内において、任意に定められてよ（、これら
の変更は　なんら本発明の要旨を変更するものでないこ
とは申すまでもない。

（、）る明の効果） 以ヒ詳細に説明したように、本発明は透孔をフイする供
給管の周りに、回動可能な散布筒を設けた構造としたの
で、該散布筒を回転させるこよにより、供給管との間に
形成される１掛隙部に生ずる負圧と、散布筒にかかる遠
心力とで釉薬を宵作成として任意方向へ飛散させること
が可能となり、よって空気の混入か少なく均一・な肖粉
を形勢できると共に、被釉物以外への飛散を少なくでき
て、そのｐｑｌ収を容易とし、供給管末端の開閉弁と測
候って釉薬の無駄をなくすことができ、さらには集塵装
置も不要で装置全体をコンバク）にできて省動力型とな
し得、また均一で極微細のｈ状として飛散できるので被
釉物にムラなく均一厚で施釉できて大量生産ｔこ敏適と
なり、また故１）ｊ筒の層・数や組合せ方によって多彩
な霧状態を形成しうる等、従来の問題点が極めて簡易か
つ効果的に改良されるので１本発明によってもたらされ
る実益はすこぶる大きいといわなけれはならない。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示したもので、第１図は本発
明に係る飛散機の正面断面図、第２図は水数装置を備え
た施釉機の一部断面正面図、第３図は第２図におけるｘ
−Ｘ断面図である。 ■−−−−飛散機 １ａ−−−−ノ１叱　　ｎ交　　装　　と１１１−−−
一部　給　管 １１１−−一部　　　孔 １２−−−　−故　　布　　筒 １２２ａ−一性成布筒 １２２ｂ−一中散布筒 Ａ−−−−−施　　釉　　機。 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 釉薬を導入しうべくなしかつ供給可能な透孔を列設して
   なる管状の供給管外周へ、多数の微細孔を貫設してなる
   円筒状の散布筒を少くとも一つ回動可能に配設し、該散
   布筒の回転により前記釉薬を霧状にして飛散可能に形成
   したことを特徴とする施釉機。