JPS5957977A - 陶器施釉機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、皿等の食器類、タイル、瓦等（以下陶器とい
う）に施釉するための陶器施釉機における釉薬を霧束状
にして陶器へ飛散させる釉薬飛散装置に関する。

従来、陶器施釉機にはいわゆるとぶづけ式あるいはぶっ
かけ式等があったが、これらは釉薬が被施釉物の一方や
凹部等にたまり易いため、むらになり易く、かつ大量生
産に不向きであった。

そこで、釉薬を噴射ノスルによって噴射するいわゆるス
プレ一式の釉薬飛散装置が種々開発されている。

ところが、該スプレ一式ではノズルによるので、釉薬の
飛散量及び範囲が犬となり、よって釉薬の回収が面倒か
つ困難で、釉薬の便用鼠もいきおい増え損失も大（約８
０〜４０％）となって不経済で、また、空気の混入量が
多く、かつノズルのつまり等とも相俟って完全な霧状と
ならず、釉薬の濃度が不均一となり、したがって陶器表
面にムラを生じさせ易いうえ、上記のように飛散が多い
ため集塵装置に大なるものを要したりする等大なる設備
や大なる動力源を要する等種々の不具合を生じている。

そこで、本発明は従来の上記問題点に鑑み、釉薬を細か
い収束状として所定方向へ飛散でき、よって、スプレ一
式と異なり空気の混入量を少なくできて被施釉物以外へ
の飛散を少なくでき、かつその回収も容易とし釉薬の無
駄をなくすことができ、さらに集塵装置等も不要で装置
全体をコンパクトにできて省動力型とでき、また均一な
縛束状とできて被施釉物にムラを生じさせず、大量生産
にも好適な陶器施釉機における釉薬飛散装置の提供を目
的としてなされたものである。

本発明は釉薬を適宜導入可能に形成されていると共に該
釉薬を吸出し可能な透孔を軸方向に所定数列設してなる
円筒体と、該円筒体の回りを回転可能な円板体を所定間
隔で多数並列状に配設してなる拡散ローラ体とからなり
、該拡散ローラ休を回転させることにより、前記円板体
間に形成される間隙部を介して釉薬を縛束状として任意
方向へ飛散可能としたことを要旨とする陶器施釉機にお
ける釉薬飛散装置である。

以下、上記した本発明の要旨をさらに明確にするため、
本発明に係る釉薬飛散装置と、これを備えてなる陶器施
釉機の一実施例を挙げ、図面を利用して説明する。

まず、第１図により釉薬飛散装置の構造について説明す
ると、該釉薬飛散装置１は、一端が閉塞されると共に、
他端の開口部を半球状に膨出させた接手部１１２となっ
ており、さらに内部に適宜導入されている釉薬を後記の
如く吸出し可能な透孔１１１を軸方向に所定数列設して
なる円筒体１１と、該円筒体１１の回りを回転可能とす
べく遊嵌状に配設された拡散ローラ休１２とからなる。

該拡散ローラ体１２は、その両端が軸受板１２１Ｂ、１
２１ｂとなっていて、円筒体１１の上記閉塞端側の軸受
板１２１ａは後記モータ２と適宜連結された主軸２１に
固着されて回転可能となっており、接手部１１２側の軸
受板１２１ｂは軸受１１８を介して円筒体１１に回転自
在に取り付けられてい７・。

また、該軸受板１２１ａ、１２１ｂ間には多数の円板体
１２２が並列状に配設されるべく８組（この組数に限ら
ない）のボルト１２８及びナツト１２４（適宜座金、ば
ね座金を介在せしめる）を、これらに貫通させ固定して
一体状となして回転可能とすると共に、該円板体１２２
間それぞれに間隙を設けて拡散ゾーンＳ２を形成すべく
スヘーサ１２５がボルト１２８に外嵌状に介装されてい
る。

さらに、この拡散ゾーンＳ２は、円板体１２２の中心部
に前記円筒体１１より大径に貫設してなる孔部１２２ａ
で形成される吸入ゾーン８１と連通しており、円筒体１
１中の釉薬がまずこの吸入ゾーンＳ１に吸い出され、つ
いで拡散ゾーン８２で該釉薬を拡散させて膜束状となし
、所定方向へ飛散させる間隙部８を形成する。

なお、前記円筒体１１の接手部１１２は、該円筒体１１
と連結する連結管１８の円錐状嵌合部１８２に嵌挿され
ると共に、該嵌合部１８２外局面に設けられた螺刻部１
８１と、これと螺合すべくその内周面に螺刻部１４１を
設けてなる接手ねじ１４が配設されて接手部０を形成し
、接手ねじ１４の締緩により、円筒体１１の透孔１１１
の向きを調整可能としである。

さらに、該連結管１８の他端にはエルボ１５が連結され
、該エルボ１５に図示しない任意の釉薬供給管を接続す
ることにより、円筒体１１へ釉薬を導入可能となってい
る。

つぎに、以上のように形成した釉薬飛散装置１を備えた
陶器施釉機Ａの構造について第２図、第３図に従い説明
する。

該陶器施釉機Ａは、そのケーシングＡｌ内に８台に釉薬
飛散装置１ａ、Ｉｂ、Ｉｃが配設されており（その位置
を移動自在としてもよい）、該釉薬飛散装置１ａ、１ｂ
、Ｉｃの拡散ローラ体１２を回転ｉ１Ｊ能とすべくモー
タ２が８台ケーシングＡ１の外側−＼それぞれ備えられ
、該モータ２の回転を伝えるべくモーり２と直結された
主軸２１の先端がそれぞれ拡１１９０−ラ体１２の軸受
板１２１ａに固７゛１されている。

なお、該釉薬飛散装ｆｆ１ｌａ、１ｂ、ＩＣは、三角形
の各頂点にあたる位置に配設され、常時は釉薬飛散装置
１ａで、後記の如く搬送される陶器Ｐの上表面を、また
、釉薬飛散装置１ｂで該陶器Ｐの上表面を施釉すべく作
動し、釉薬飛散装置ＩＣは、陶器が複雑な形状を呈する
場合等に補助的に使用するものとなっている。

また、陶器施釉機Ａには、陶器Ｐを搬送するための搬送
体３と、該搬送体８の載置台３５を回転させるための回
転付与機構４が設けられている。

搬送体３は、レール８１と、該レール３１上を適宜移送
される台車３２と、該台車３２に垂設され、かつその下
端にプーリ８８が、上端に陶器Ｐを載置する枠状の載置
台８５を配設されてなる支柱８４とからなっており、上
記釉薬飛散装置１ａと１ｂ、ＩＣ間を通過可能となって
いる。

また、回転付与機構４は、プーリ４１，４２とこれらに
張設されたベルト体４３とからなり、該プーリ４１．４
２のいずれか一方が図示しないモータで回転駆動されて
おり、ベルト体４８を駆動させている。なお、前記搬送
体３のプーリ３３はケーシングＡ１内を通過する際この
ベルト体４８と摺接するため、この間で、支柱８４及び
載置台８５、ひいては陶器Ｐを回転させるように形成さ
れている。

つぎに、以上のように形成した陶器施釉機の作用につい
て説明する。

まず、釉薬飛散装置１の円筒体１１の調整をする。すな
わち、該釉薬飛散装置１からの釉薬の鵞束の飛散方向や
幅は、拡散ローラ体１２の回転数、円筒体１１内の釉薬
の供給圧、釉薬の粘度等の諸条件によって決まるため、
試運転により搬送されてくる陶器全体に向けて釉薬が飛
散するよう、円筒体１１の透孔１１１の向きを調整する
。この調！１１（は、接手部０の接手ねじ１４を緩める
ことにより、容易になし得、接手ねじ１４を締めれば再
び円筒体１１は固定される。

このようにして、拡散ローラ体１２を回転させると、■
隙部Ｓ内が負圧状態となり、円筒体１１の透孔１１１か
ら吸入ゾーンＳｌへ釉薬が吸い出される。そして、この
釉薬はさらにその負圧と遠心力とにより拡散ゾーンＳ２
をうず巻状に移送され、この際該負圧と遠心力の影響で
拡散され、均一な縛束状となって飛散される。

つぎに、このような縛束が安定形成されるようになった
ら、搬送体８及び回転付与機構４を駆動させて陶器Ｐを
搬送すれば、自ずとこの縛束内を通過させることができ
、両表面が一度に施釉できる。

このように、縛束の方向及び幅を自由に調整できるので
、釉薬を余分な方向へ飛散させることがなく、集塵装置
が不要で、釉薬の回収も容易となり（釉薬の損失は従来
３０〜４０％に対し、本案は約１０％）、しかも均一な
縛束中を回転しながら通過するため、ムラなく施釉でき
、大量生産にきわめて著効である。

なお、上記実施例では、拡散ローラ体に形成する間隙部
を吸入ゾーンと拡散ゾーンの２構成とする場合について
説明したが、本発明はこれに限らず、例えば透孔な円板
体間それぞれに貫設するならば、円板体に孔部を設けて
吸入ゾーンを形成させる必要がないことは申すまでもな
い。

また、円筒体と連結部の接手部構造も上記構造に限定さ
れるものではなく、透孔の向きを容易に調整し得る構造
であ・ればどのように形成されていてもよい。

このように、本発明に係る釉薬飛散装置の円筒体、拡散
ローラ体等の各部の具体的構造、形状、大きさや、これ
を付設する陶器施釉機の構造や配設方法等は、本発明の
上記した目的と作用及び効果の達成される範囲内におい
て任意に定められてよく、これらの変更はなんら本発明
の要旨を変更するものでないことは申すまでもない。

以上詳細に説明したように、本発明は透孔を有する円筒
体の回りに、回転可能な円板体を所定開隔て多数並列状
に配設してなる拡散ローラ体を設けた構造としたので、
該拡散ローラ体を回転させることにより、前記円板体間
に形成される間隙部に生ずる該回転による負圧と遠心力
とで釉薬を管束状として任意方向へ飛散させることが可
能となり、よって、空気の混入試が少なく、均一な縛束
を形成できると共に被施釉物以外への飛散を少なくでき
て、その回収を容易とし、釉薬の無駄をなくすことがで
き、さらには集塵装置等も不要で装置全体をコンパクト
にできて省動力型とでき、また均一で細い管束状として
飛散できるので被施釉物にムラなく施釉できて大量生産
に好適となる等、従来の問題点がきわめて聞易かつ効果
的に改良さ第１るので、本発明によってもたらされる実
益はすこぶる大きいといわざるを得ない。

【図面の簡単な説明】

図面は、本発明の一実施例を示したもので、第１図は本
発明に係る釉薬飛散装置の一実施例を示す正面断面図、
第２図は該釉薬飛散装置を備えた陶器施釉機を一部切欠
いて示す正面図、第３図は第２図におけるＸ−Ｘ線断面
図である。 ■、Ｉａ、ｌｂ、Ｉｃ−一一釉薬飛散装買、１１−ｍ−
円筒体、　１２−一拡散ローラ体、１１１−一透　孔、
　１２２−−一円板体、Ａ−一一陶器施釉機、　ｓ　−
一間隙部。 特許出願人　　　安　藤　　照　　芳 代理人　　弁理士長屋文雄

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 釉薬を適宜導入可能に形成されていると共に該釉薬を吸
   出し可能な透孔を軸方向に所定数列設してなる円筒体と
   、該円筒体の回りを回転可能な円板体を所定間隔で多数
   並列状に配設してなる拡散ローラ体とからなり、該拡散
   ローラ体を回転させることにより、前記円板体間に形成
   される間隙部を介して釉薬を朝束状として任意方向へ飛
   散可能としたことを特徴とする陶器施釉機における釉薬
   飛散装置。