JPS6162536A - 1−オキサ−3,8−ジアザ−スピロ−〔4,5〕−デカンより成る、光および熱に対する有機ポリマ−用安定剤 - Google Patents

1−オキサ−3,8−ジアザ−スピロ−〔4,5〕−デカンより成る、光および熱に対する有機ポリマ−用安定剤

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JPS6162536A
JPS6162536A JP60138057A JP13805785A JPS6162536A JP S6162536 A JPS6162536 A JP S6162536A JP 60138057 A JP60138057 A JP 60138057A JP 13805785 A JP13805785 A JP 13805785A JP S6162536 A JPS6162536 A JP S6162536A
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    • C07D498/02Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 周知の如く、有機ポリマーの性質は光、特に近紫外領域
の射線の作用によシ害される。色彩の変化(ポリマーの
黄変)のほかに物理的性質の悪化、例えば耐引裂性の減
少、ぜい弱化傾向等が現われる。
本発明者は、文献未知の17−シメチルー9゜9−ジア
ルキル−1−オキサ−へ8−ジアザ−4−オキツースビ
ロー[4,5]−デカン及び−それが塩形成能力をもつ
場合−その塩が有機材料の光安定剤として非常に適する
ということを見いだした。
それ故、本発明は上記の1−オキサ−5,8−ジアザ−
スピロ−[4,5]−デカンよ構成る、光、特に紫外線
の分解作用(これはポリマーの変色及び/又はぜい弱化
に終る)に対する有機ポリマー用安定剤に関係する。
この新規な化合物は、一般式 %式% 〔式中R1及びR2は同一の基又は相違する基を意味し
、水素、炭素原子1〜50個を含むアル中ルー若しくは
インアルキル基又は、場合によりハロゲンで若しくは炭
素原子1〜4個を含むアルキル基で置換されている、炭
素原子6〜10個を含むアリール基又は炭素原子7〜1
0個を含むアルアルキル基であることができ、或いはR
1及びR1は R1及びR2が結合している炭素原子上
−緒になって、炭素原子4〜15個を含むシクロアルキ
ル基(この基は場合によυ更にCI−〜Cじアルキル基
で置換されていることができる〕又は式%式% で示される基を栂成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又は枝分
れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基を意味し、 H&  は水素、酸素、ヒドロキフル基又は、炭素原子
1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−XけgA酸、
亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホン酸又はホスホ
ン酸、脂肪族のモノ−、ジー若しくはポリカルボン酸又
は芳香族のモノ−若しくはジカルボZ酸を意味し、mは
0又は1であるが、ンN−R” が塩基性でない場合に
は常に0である〕 に対応する。
この7.7−シメチルー9.9−ジアルキル−1−オキ
サ−3,8−ジアザ−4−オキツースビロ−[4,5]
−デデカン合物の代表例を示す:2−イソ−プロピル−
7、7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−
ジアザ−4−オキツースビロ−[4,S ]−デデカ ン−ブチル−7、7,9,9−テトラメチル−1−オキ
サ−5,8−ジアザ−4−オキツースビロー[4,5]
−デデカ ン−イソ−ブチル−7、7,9,9−テトラメチル−1
−オ午す−318−ジアザー4−オキンースピローC4
,5〕−デカン 2−ベンチルーフ、7,9.9−テトラメチル−1−オ
キサ−3,8−ジアザ−4−オキツースビロ−(4,5
3−デカン 2−イン−ベンチルーフ、7,9.9−テトラメチル−
1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースビロ−[
4,53−デカン 2−へキジルーフ、7,9.9−テトラメチル−1−オ
キサ−3,8−ジアザ−4−オキツースビロー[4,5
]−デカン 2−へブチル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オ
キサ−3,8−ジアザ−4−オキンースビロ−[4,5
コープカン 2−イノ−ヘプテルーフ、7,9.9−テトラメチル−
1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロ−[
4,53−デカン 2−イソ−オクチル−7、7,9,9−テトラメチル−
1−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロー[
4,5]−デデカ ン−ノニル−7、7,9,9−テトラメチル−1−オキ
サ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロー[4,5:
]−デカン 2−イノ−ノニル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピローC4
,53−デカン ° 2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1−オキサ−3,8−ジアザー4−オをソースピロー[
4,53−デカン 2−フェニル−7,7,9,9−テトラメチル−1轄 
 −オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー[
4,5]−デカン 2−(4−クロル−フェニル) −7,7,9,9−テ
トラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツ
ースピロ−[4,53−デカン2.2−ジメチル−7,
7,9,9−テトラメチル−1−オギサー3.8−ジア
ザー4−オキツースピロー〔4,5コープカン 2−エチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1−
オキサ−5,8−ジアザ−4−オキノースピロー [4
,5〕−デカン 2−プロピル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ−[4
,5]−デカン 2−イソ−プロピル−2,7,7,9,9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ
ー[4,5]−デカン 2−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1−
オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロー[4,
5]−デカン 2−イン−ブチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル
−1−オキサ−6,8−ジアザ−4−オキツースピロー
C4,5]−デカン 2−ペンチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー〔4
,5コープカン 2−ベキフルー2.フ、フ、9.9−ペンタメチル−1
−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピローC4
,5]−デデカ ン−ノニル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ−[4,
5]−デカン 2.2−ジエチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロ−[4
,53−デカン 2.2−ジプロピル−7,7,9,9−テトラメチル−
1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピローC
4,5]−デデカ ン、2−ジプチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースピロ−[:
 4.5 ]−デカン 2−エチル−2−ベンチルーフ、7,9.9−テトラメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピ
ロー〔45〕−デカン 2.2−ジベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−
1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキノースピロー[
4,5]−デカン 2.2μ14−テトラメチル−7−オキサ−3,13−
ジアザ−14−オキノージスピロー〔5,11412〕
−テトラデカン 2、2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,20
−ジアザ−21−オキソ−ジスピロー[5,1,11゜
2〕−へ7エイコサン 2.2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,14
−ジアザ−15−オキノージスピロ−[5,1,5,L
〕−ペンタデカン 2、2.4.4.10.10.12.12−オクタメチ
ル−7−オキサ−3,N、 14− )リアブー15−
オキノージスビロー[5,1,5,2]−]ペンタデカ
ン2−エチルー27.7.9.9−ペンタメチル−1−
オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−8−オキシル−
スピロ−[4,5]−デカン m = 0且つR’=Hの上記新規化合物は、一般H2
Ocl(3 R3R4 (式中R3及びR4は前記の意味をもつ)で示される2
、2−ジメチル−6,6−ジアルキル−4−ヒドロキシ
−4−カルバモイルピペリジン、又はこのようなピペリ
ジンの塩、特に塩酸塩を一般式 (式中R1及びR2は前記の意味をもつ〕で示されるア
ルデヒド又はケトンと反応させることにより得られる。
反応は、有機溶剤、特に氷酢酸中で、脱水剤、例えば硫
酸又はポリ燐酸、特に硫酸を使用して行なう。その際0
〜180℃、殊に20〜120℃、アルデヒドを用いる
場合VC,は特に20〜30℃の温度に保つ。
氷酢酸を溶剤として用いる場合には次のようニ行なう:
カルバモイルピペリジンの使用量から計算して5−〜1
〇−倍景の氷酢酸をヒドロキシカルバモイルピペリジン
1モル及びカルボニル化合物1〜3モルに加え、濃硫酸
2モルを少しずつ加える。上記新規化合物の硫酸塩は一
般に反応中に沈澱するが、沈澱しない場合にはまずa縮
しなければならない。遊離の塩基は、塩をアンモニア又
は苛性ソーダ溶液で処理することによυ、塩から得られ
る。有機酸塩又は無機酸塩は、遊離塩基から−特に溶剤
又は水の存在下で一製造することができる。R6がアル
キル基の化合物は、R5==Hの化合物tノ・ロゲン化
アルキル、特に臭化アルキル及び沃化アルキルでアルキ
ル化反応させることにより得られる。RI′=ン0又は
−〇Hの化合物1−iR’=Hの化合物から、例えは過
酸化水素で処理することにより、得ることができる。
望ましい4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジン
i 2,2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−
4−カルバモイルピペリジンである;適当なアルデヒド
又はケトンは例えばホルムアルデヒド、インブチルアル
デヒド、n−バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド
、カプロンアルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、
エナントアルデヒド、2−エチルカプロ/アルデヒド、
インノニルアルデヒド、カプリンアルデヒド、インデシ
ルアルデヒド、ラウリンアルデヒド、ベンズアルデヒド
、p−クロルベンズアルデヒド、アセトン、メチル−エ
チルケトン、メチル−プロピルケトン、メチル−インプ
ロピルケトン、ヘキサノン−2、メチル−インブチルケ
トン、ヘプタノン−2、オクタノン−2、ウンテカノン
ー2、ジエチルケトン、ヘプタノン−4、ノナノン−5
、オクタノン−3、ジベンジルケトン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、ベンゾフェ
ノン及び2.2.6.6−テトラメチルビペリジン−4
−オン(=トリアセトンアミン)である。
執ゝ R3R’0 で示される新規化合物において、基R1及びR2は、該
化合物を合成する際に用いるアルデヒド又はケトンに由
来する。R1及びR2は同一であるか又は異なっている
ことができる。従って基R1及びR1は、水素又はC−
原子1〜30個を含むアルキル−若しくはインアルキル
基又は場合によりハロゲン、特に塩素、若しく a: 
C−原子1〜4個を含むアルキル基で置換したC−原子
6〜10個を含むアリール基若しくはC−原子7〜10
個を含むアルアルキル基である(この場合脂肪族の鎖U
O−原子1〜4個から成る)。
基R1及びR2がアルデヒドに由来するかケトンに由来
するかに応じて、R1及びR2&て好−fしい代表試薬
が明らかになる。
アルデヒドを用いる場合には、R1は必然的に常&’V
 7−1< :i”+ テズ:l ルノfc対(、[R
2U水索、C−原子1〜30個、殊に1〜18個、特に
3〜12個を含むアルキル基であることができるか或は
・・ロゲン原子−特に塩素−又はC−原原子1補4 C−原子6〜10個を含むアリール基(フェニル又はナ
フチル〕又けり一原子7〜10個を含むアルアルキル基
(この場合C−原子1〜4個が脂肪族の鎖に属する)で
ある。
4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジンとケトン
から新規化合物を合成する場合には、R1  けC−原
子1〜50個、殊に1〜7個、特に1〜4個を含むアル
キル基であるか又はC−原子7〜10Ill!llを含
むアルアルキル基(この場合脂肪族の鎖はC−原子1〜
4個を含む)であるのが望ましい。この場合 R1  
はC−原子1〜50個、殊に1〜17個、特に1〜10
個を4含むアルキル基であるか又はハロゲン原子−特に
塩素−若しくはC−原子1〜4個を含むアルキル基で場
合により置換したC−原子6〜7〜10個を含むアルア
ルキル基(この場合脂肪族の鎖はC−原子1〜4個から
成る)である。
前記の観点で挙げられるべき基R1  の例としではメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシル、イソヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、イ
ソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル
、テトラデシル、ペンタデシル、ヘプタデシル、4−イ
ソプロピルフェニル、2−エチルブチル、2−エチルヘ
キシル、4−メチルベンジル、フェニル、2−10ルフ
エニル、5−10ルフエニル、4−クロルフェニル、1
−ナフチル、2−1−ブチル、ベンジル、2−メチルデ
シルがあり、基R2の例としてはメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンナル、
イソペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、   
 jノニル、デシル、ウンデフル、ペンタデシル、ヘプ
タデシル、フェニルエチル、ベンジル及ヒフェニルがあ
る。
R1及びR2は場合によ5、Hl及びR2が結合してい
る炭素原子と一緒になってC−原子4〜15個、殊に5
〜12個、特に5〜7個を含むシクロアルキル基を形成
することができる。このシクロアルキル基はCI−〜c
4ーアルキル基で置換されていることができる。また 
R1及びR2  は、−緒になって式 で示される環状の基を表わすことができる。上記の構造
の例としては、シクロペンチル、5−メチルシクロペン
チル、シクロアキル、2−メチルシクロヘキシル、3−
メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、シ
クロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロ
デンル、シクロドデシル、シクロドデシル、シクロドデ
シル、シクロペンタデシル及ヒ2。
2、46−チトラメテルビペリジルがある。
基R3及びR4は炭素原子1〜12個、特に1〜6個を
含む直線状の又は枝分れしたアルキル基である。Ha及
びR4は同一であるか又は異なっていることができる。
容易に得られるトリアセトンアミンから誘導される化合
物は特に重要である。この場合、Rs及びR4はメチル
基である。
基R5  は水素であるのが望ましい。基R6#″1更
に、酸素又はヒドロキフル基又は〇一原子1〜4個を含
むアルキル基であることができる。
H−Xは燐酸、亜燐酸、C−原子1〜50個、特に1〜
18個を含む脂肪族のスルホン酸若しくはホスホン酸、
場合によジアルキル化されているC−原子6〜25個、
特に6〜18個、を含む芳香族のスルホン−若しくはホ
スホン酸(この場合C−原子1〜16個を含むアルキル
基1〜5個が存在することができる)を表わす。
H−Xは更に、C−原子2〜34個、特に2〜18個を
含む脂肪族の直鎖状の若しくは枝分れしたモノ−又はジ
カルボン酸、又は場合によシ、カルボキシル基を4個ま
でとC−原子を全部で16個まで含むポリカルボン酸を
意味するが又は芳香族の、場合によりCI−〜o4−ア
ルキルー若しくはインアルキル置換されている、C−原
子7〜25個、特に7〜19個を含むモノ−若しくはジ
カルボン酸であることができる。既に記載した燐酸と亜
燐酸のほかに特に次のものを例示fる:フェニルホスホ
ン酸、カンファースルホン酸、ドデシルスルホン酸、p
−)ルエンスルホン酸、アルキルポリグリコールエーテ
ルスルホン酸、アルキルアリールポリグリコールエーテ
ルスルホン酸、酢酸、フロピオン酸、n−オクタン酸、
2−エテル−ヘキサン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、
獣脂脂肪酸、モンタン酸、こはく酸、アジピン酸、アゼ
ライン酸、くえん酸、トリカルバリル酸、安息香酸、ト
リル酸、p−1θrt、−ブチル安息香酸、フタル酸及
びテレフタル酸。
上記新規化合物が遊離の塩基及び前記の塙又は、多塩基
酸の場合には場合により1−オキサ−3,8−ジアザ−
スピロ−[a、 S ]−デカンの酸塩であることは、
一般式の文字「m」(これは一般式によれば0又は1で
ある〕が示している。基ンN−R’ が塩形成能力をも
たない化合物でけrmJ tit必然的に0である。
新規の1−オキサ−5,8−ジアザ−スピロ−[4,5
3−デカンは有機ポリマー物質に、熱と特に紫外線の作
用による分解に対する並外nた安定性を与える。このも
のhaにポリオレフィン用の光安定剤として価値が高い
。有機ポリマー物質の染色性はこの新規化合物により害
きれない。
光と熱の有害な影響に対して保俟き!上るべき有機ポリ
マー物質とは次のものである:ポリオレフィン、例えば
ポリイソプレン、ポリフタジエン、ポリスチレン及び特
に低密度と高照度のポリプロピレンとポリエチレン、史
にけエチレン−プロピレン−コポリマー、エテレンーブ
テンーコホリマー、エチレン−酢酸ビニル−コポリマー
、スチレン−ブタジェン−コポリマー、アクリロニトリ
ル−スチレン−ブタジェン−コポリマー。ポリ塩化ビニ
ルという概念とポリ塩化ビニリデンという概念は、塩化
ビニルと塩化ビニリデンのホモポリマー、塩化ビニ#又
tiu化ヒニIJ fンと酢酸ビニル又は他のオレフイ
ン不飽和上ノーマーを包含するものとする。ポリアセタ
ール、ポリエステル例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリアミド例えばナイロン−6、ナイロン−ベロ、ナ
イロン−6,10,ポリウレタン及びエポキシ樹脂も適
する。
新規な化合物は更に、動物性及び植物性の油及び脂肪、
例えば亜麻仁油、落花生油、ひまし油、ファツト、ラー
ド、その他、液体及び固体の炭化水素例えばベンジン、
鉱油、ワックス、樹脂その他の安定化に用いることがで
きる。
合成ポリマーに加える新規化合物の量ハ、安定化される
有機ポリマーの種類、性質及び特定の用途次第でかなり
変動する。一般に合成ポリマーの量から計算して0.0
1〜5重景部重量にα05〜3重量部、特にα1〜1.
5重力)部使用する。単−化合物又は数種のものから成
る混合物を用いることができる。
新規化合物は普通の方法で有機ポリマーに加える。従っ
て、粉末状の安定剤をポリマーと混合することができる
か又は安定剤の溶液、サスペンション又はエマルジョン
を有機ポリマーの溶液、サスペンション又はエマルジョ
ンに加えることができる。
安定剤自体は単独でも、フェノール−1硫化物−及び燐
含有−抗酸化剤を基礎とする普通の光−及び熱−安定剤
と混合しても作用する。
普通の安定剤とは例えば次のものでちる:2゜6−シー
tert、−ブチル−p−クレゾール、ム5−シー t
ert、−フチルー4−ヒドロキンフェニルプロピオン
酸エステル、アルキリデン−ビス−アルキルフェノール
、脂肪アルコールのチオーシフロピオン酸エステル並び
にジオクタデシルスルフィド及び−ジスルフイド。燐含
有化合物トL テIr、L ff’l x、 ハ)リス
ノニル−フェニルホスファイト、ジステアリルペンタエ
リトリチルジスルファイト、ペンタエリトリットホスフ
ァイトのエステル等を挙げることができる。紫外線吸収
剤の例としてはベンゾトリアゾール化合物、例えば2−
 (2’−ヒドロキシ−5′−メチル−フェニル)−ベ
ンゾトリアゾールを挙げることができ、消光物質の例と
してはピペリジン安定剤と金属キレートを挙げることが
できる。
また、上記の塩素含有ホモ−及びコポリマー並びに塩素
化したポリオレフィン、例えば塩素化したポリエチレン
及びポリプロピレンを安定化する際に、安定剤として知
られている金属化合物、エポキシ安定剤、ホスファイト
及び場合により多価アルコールを存在させて新規な安定
剤を添加すれば、熱−及び光−安定性が改善される。
’   C0,:□□78、ウォ□j8□□アいる金属
化合物とは、炭素原子約12〜32個を含tr脂肪族の
カルボン酸又はオキシカルボン酸ツカルシウム−、バリ
ウム−、ストロングーラム−、亜塩−カドミウムー、マ
グネンウム、アルミニウムー及び鉛面けん、上記の金属
と芳香族カルボ/酸との塩例えば安息香酸塩又はサリチ
ル酸塩並びに上記の金属の(アルキル−)フェルレート
、更には有機錫化合物、汐(]えはジアルキル錫チオグ
リコレート及びカルボキンレートのことである。
既知のエポキシ安定剤は、例えばエポキシ化した高級脂
肪酸例えばエポキシ化した大豆油、トール油、亜麻仁油
又はエポキシ化したオレイン酸フチル及び長鎖のω−オ
レフィンのエポギクドである。
ホスファイトとしては、トリスノニルフェニルホスファ
イト、トリスラウリルホスファイト或はペンタエリドリ
フトホスファイトのエステルを挙げることができる。
多価アルコールは例えばペンタエリトリット、トリメチ
ロールプロパン、ンルピット又ハマンニット、即ち特に
C−原子5〜6個とOH−基5〜6飼を含むアルコール
であることができる。
ハロゲンを含1ないポリ−α−オレフィン、例えばC2
−〜C4−α−オレフィン、特にポリエチレン及ヒボリ
しロピレンの高−1中−及び低圧ポリマー又はこのより
なα−オレフィンのコポリマーの高−1中−及び低圧ポ
リマーのための有利な安定剤の組成は、ポリマー100
重を部当り、例えば、本発明で用いられる化合物[LO
1〜5重−1d部、フェノール安定剤α05〜5実計部
、場合により硫黄含有コスタピライブ−0,01〜5重
量部、及び場合によシ塩基性又は中性金パ石けん、例え
ばステアリン酸カルシウム又はステアリン酸亜鉛、cL
01〜5重量部、及び場合によりホスファイト0.1〜
5重量部並びに場合により、アルコキシヒドロキンベン
ゾフェノン、ヒドロキンフェニルベンゾトリアゾール、
サリチル酸フェノールエステル、安息香酸ヒドロキシフ
ェノールエステル、ベンジリデンマロン酸モノニド」ノ
ルエステル、いワユるr 消光剤J例えばニッケルキレ
ート又はへキサメチル燐酸トリアミドの群から選ばれる
既知のUV−安定剤IIL01〜5重量部から成る。
ハロゲンを含むポリマーを安定化するだめの安定剤のコ
ンビネーンヨンは、ポリマー100重量部当り、例えば
、安定剤として知られている金属化合物0.01〜10
重茄部、既知のエポキシ安定剤0.1〜10重量部、ホ
スファイト105〜10重量部、多価アルコール11〜
10重量部、本発明で用いられる化合物0.1〜5重量
部から成る。
以下の例により本発明を更に詳細に説明する。
製造例1 2−イソ−プロピル−スフ、 9.9−テトラメチル−
1−オキサ−へ8−ジアザ−4−オキツースピロー[a
、 S ]−デカン 2、2.6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−
・カルバモイルピペリジニウムクロリド2!、、6tと
イソブチルアルデヒド232を氷酢酸100?に加えた
。攪拌しながらこれに濃硫酸196?を少しずつ加え、
次いで20時間室温で攪拌した。続いて減圧で蒸発濃縮
した。エーテル/アセトン1:1混合物を少量加え、生
じた固体を吸引戸数した。これ(希望した化合物の硫酸
塩)を少量の水に溶かした。アンモニアで塩基を析出さ
せた。吸引戸数し、アルコールで再結晶した。融点(m
、p、) 150〜151℃の無色の結晶がほぼ定量的
な収率で得られた。
(1<HuNzOx (分子Q254)の分析値計算値
:066.1% Hl(13% N11.0%実測値:
065.9% H1α5% N 1α6俤製造例2〜1
4 製造例1に記載したのと同様に、2.2.6.6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジ
ニウムクロリド2五6?ずつと若干のアルデヒドから次
の化合物(無色の結晶として生じた)を合成した。表1
と表2に製造のためのデータと分析データを示した。
表  1 表  1 (続き ) 表  2 表 2(続き) 製造例15 2、2.7.ス9,9−へキサメチル−1−オキサ−へ
8−ジアザ−4−オキツースピロー[4,5]−デカン
2、2.6.6−チトラメテルー4−ヒドロキシ−4−
カルバモイルピペリジニウムクロリド2五6?とアセト
ン201を氷酢酸100りに加えた。
攪拌しながらこれに濃硫酸19.6fを少しずつ加え、
次いで72時間40〜50℃で攪拌した(80℃の反応
温度のときには反応時間を16時間に短縮した)。しば
らく後に透明な溶液が生じ、次いで更に反応が進んで沈
殿が析出した。
この沈殿と吸引戸数して少量の水の中に入れ、アンモニ
ア又は50%苛性ソーダ溶液で処理した。その際、望ん
だ化合物は無色の結晶として生じた。この結晶を吸引戸
数してエタノールで再結晶した。融点256〜257℃
C+5H2iNzOz (分子j、)240)の分析値
計算値:  C65,0% HIG、0% N11.7
係実側値:  O65,2% H104% Ni14%
製造例16〜32 製造例15に記載したのと同様に、2.2.6.6−チ
トラメテルー4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリ
ジニウムクロリド2五6fずっと若干のケトンから次の
化合物を合成した。この化合物は全部無色の結晶として
生じた。表3と表4に製造のだめのデータと分析データ
を示した。
表  3 表  3 (続@ ) 表  4 表 4(続き) jla ;Tン汐り ろ 5 2−エチル−2,7,7,9,9−ペンタメチル−1−
オキザーろ、8−ジアザ−4−オキソ−8−オキシル−
スピロ−[4,5]−デカン。
メタノール2〇−中の製造例16で得た生成物6?にタ
ングステン酸ナトリウム0.1F、エチレンジアミン四
酢@Q、IP及び50%の過酸化水素6dを加えた。2
0℃で120時間放置した後、減圧でi:1 酪し、水
10dでペースト化し、吸引戸数した。乾燥後、n−へ
ブタン/アセトンで再結晶し、融点154〜156℃の
橙色結晶2.02を得た。
014 H2S Nt Os (分子量269)の分析
値計算値:  C62,4% H9,3% N1[14
%実」11値:  0 62.5% H9,6% NI
Q、4%製造例34 2.2−ジエチル−スフ、 9.9−テトラメチル−1
−オキサ−5,8−ジアザ−4−オキツースビロー[4
,5]−デカノのp−第3−ブチルベンゾエート。
製造例24で得た化合物2.72とp−tθrt・−ブ
チル安息香酸1.82分、エタノール50 mlと一緒
に10分間還流させながら煮沸した。冷却後、分離した
無色の結晶を吸引戸数して乾燥させた。m、p、242
〜245℃。
実施例1 この実施例は、ポリ−α−オレフィン中に添加した場合
の、若干の新規化合物の光安定化作用を示すためのもの
である。
約69710m1nのメルトインデックス1s(AST
M D 1238−62Tにより測定した)及びα96
t /an”の密度をもつポリプロピレン+ooiti
部を ビス−(4′−ヒドロキシ−3’−tart、−ブチル
−フェノール)−ブタン酸エステル    0.1 M
置部ラクリンチオジグロビオン酸エステル  Il”M
mmスステアリン酸カルシウム       0.23
ii部及びテストする本発明の安定剤        
15 重量部と混和し、対ローラーで200℃で5分間
均質化した。次いでプラスチックの融成物を200℃で
厚さ1噛のプレートにプレスした。冷却したプレートか
らドイツ工業規格53455−による検体を打出した。
比較用試料として必要な検体は、同様にして製造したが
テストする検体を抜いて製造した。
光安定性を測定すべく、試料をオリジナル・ハナウ・ク
ワルツランベンーゲーeエム・ぺ−−ハー社(Firm
a Original Hanau Quarzlam
penGmb)l )  の暴露試験装(i!(RXe
notest 150 )で交流ランプで光照射した。
放射強度はIR−アパーチュア6とUV−アパーチュア
1(ドイツ工業規格53387)により調節した。露光
時間は、絶対引裂き伸度が1a%に下がった時間゛で測
定した。引裂き伸度は、インストロン社(Firma 
In5tron )の引張試験機で5 cm / mi
nの引裂き速度で調べた。
結果は次の表にまとめた:

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1及びR^2は同一の基又は相違する基を意
    味し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−若し
    くはイソアルキル基又は、場合によりハロゲンで若しく
    は炭素原子1〜4個を含むアルキル基で置換されている
    、炭素原子6〜10個を含むアリール基又は炭素原子7
    〜10個を含むアルアルキル基であることができ、或い
    はR^1及びR^2は、R^1及びR^2が結合してい
    る炭素原子と一緒になつて、炭素原子4〜15個を含む
    シクロアルキル基 (この基は場合により更にC_1−〜C_4−アルキル
    基で置換されていることができる)又は式▲数式、化学
    式、表等があります▼ で示される基を構成し、 R^3及びR^4は同一の又は相違する、直鎖状の又は
    枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基を意味
    し、 R^5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素原子1
    〜4個を含むアルキル基を意味し、H−Xは燐酸、亜燐
    酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホン酸又はホスホン酸
    、脂肪族のモノ−、ジ−若しくはポリカルボン酸又は芳
    香族のモノ−若しくはジカルボン酸を意味し、mは0又
    は1であるが、>N−R^5が塩基性でない場合には常
    に0である〕 で示される化合物より成る、光および熱に対する有機ポ
    リマー用安定剤。 2)公知の安定化作用物質も含有する特許請求の範囲第
    1項記載の安定剤。
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