JPS616264A - コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 - Google Patents
コロナ放電用タングステン電極の表面処理法Info
- Publication number
- JPS616264A JPS616264A JP12777084A JP12777084A JPS616264A JP S616264 A JPS616264 A JP S616264A JP 12777084 A JP12777084 A JP 12777084A JP 12777084 A JP12777084 A JP 12777084A JP S616264 A JPS616264 A JP S616264A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- corona discharge
- wire
- tungsten
- graphite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 title claims description 19
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 title claims description 19
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 3
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 claims description 3
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 abstract description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WIGAYVXYNSVZAV-UHFFFAOYSA-N ac1lavbc Chemical compound [W].[W] WIGAYVXYNSVZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/24—Nitriding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/02—Pretreatment of the material to be coated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は複写機などの光源として使用されるコロナ放
電用タングステン電極の表面処理に関するものである。
電用タングステン電極の表面処理に関するものである。
（従来の技術）
タングステンをコロナ放電用電極として用いる技術は、
特公昭５３−２８０９９号公報に開示されている。
特公昭５３−２８０９９号公報に開示されている。
この従来技術では、動作温度時のタングステン線内の物
理的変化の防止と、安定した出力及び’１７１Ｇ’１の
向上等を酸化タングステン被膜の形成にＪ、って図って
いる。
理的変化の防止と、安定した出力及び’１７１Ｇ’１の
向上等を酸化タングステン被膜の形成にＪ、って図って
いる。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、従来技術では空気中にてタングステンの
みを高温加熱する関係上、所望厚さの酸化被膜を形成す
るには時間を要Ｊる欠点があっＩご。
みを高温加熱する関係上、所望厚さの酸化被膜を形成す
るには時間を要Ｊる欠点があっＩご。
この発明は上記従来の問題点を解決づ−るＩこめに考え
られたものであって、酸化被膜よりも安定性に優れ、ま
たコロナ放電状態が良１１ｆで耐久１１のあるチッ化タ
ングステンによる新たｔ、１表面処１１１・法を提供し
ようとするものである。
られたものであって、酸化被膜よりも安定性に優れ、ま
たコロナ放電状態が良１１ｆで耐久１１のあるチッ化タ
ングステンによる新たｔ、１表面処１１１・法を提供し
ようとするものである。
（問題点を解決するための手段）
上記目的によるこの発明は、線引き加工時に施されたタ
ングステン電極表面の黒鉛被覆を除去したのち、そのタ
ングステン電極を水素雰囲気中で高温加熱し、しかるの
ちチッ素雰囲気中にて再度高温加熱して、電極表面にチ
ッ化タングステン被膜を形成してなるものである。
ングステン電極表面の黒鉛被覆を除去したのち、そのタ
ングステン電極を水素雰囲気中で高温加熱し、しかるの
ちチッ素雰囲気中にて再度高温加熱して、電極表面にチ
ッ化タングステン被膜を形成してなるものである。
上記黒鉛被膜は、ダイスを用いてタンゲスｊン線材から
電極に線引き加工する際に、ダイス保護及びダイス傷の
防＋Ｌ、更には表面酸化の防止を目的として施されたも
のである。したがって、線引き加工後における表面の黒
鉛被覆は、不要なものであるから、これを電解または溶
解などの手段を用いて除去する。
電極に線引き加工する際に、ダイス保護及びダイス傷の
防＋Ｌ、更には表面酸化の防止を目的として施されたも
のである。したがって、線引き加工後における表面の黒
鉛被覆は、不要なものであるから、これを電解または溶
解などの手段を用いて除去する。
上聞水素雰囲気中での高温加熱は、電極表面のチッ化の
前処理として行われる。加熱は８００〜９００℃の温度
の水素雰ｌｌＩ気中を１０９１０〜１５ｍの速度で通過
させて行われ、これにより電極表面の還元と、電極に生
じたカール及び歪みなどの除去とがなされる。
前処理として行われる。加熱は８００〜９００℃の温度
の水素雰ｌｌＩ気中を１０９１０〜１５ｍの速度で通過
させて行われ、これにより電極表面の還元と、電極に生
じたカール及び歪みなどの除去とがなされる。
この前処理に連続して、上記チッ化処理を行うのである
。加熱は５００〜９００℃の温度範囲にて、チッＴＡ雰
囲気中をｆｉｌｉ分１０ｍの速度で通過させて行う。こ
の結束、タングステンの電極の表面に厚さ０、０００５
〜０．００２＋＋ｍのヂッ化タングステン被膜が生ずる
のである。
。加熱は５００〜９００℃の温度範囲にて、チッＴＡ雰
囲気中をｆｉｌｉ分１０ｍの速度で通過させて行う。こ
の結束、タングステンの電極の表面に厚さ０、０００５
〜０．００２＋＋ｍのヂッ化タングステン被膜が生ずる
のである。
（実施例）
（１）前処理
Ａ 水素雰囲気中の流量
７４１７ｓｉｎ
Ｂ 加熱条件（電気炉）
電極（直径ｌｌ） 温度（’Ｃ） 速度（１ｍ／分
）０．０６ ８００ １３０．０８
８５０ １５０．０９ ８５
０ １５（２）チッ化処理 Ａ チッ素雰囲気中のチッ素ｉ聞 ５ｇ／Ｗｉｎ Ｂ 加熱条件（電気炉） 電極（直径■） 温度（”Ｃ） 速度（１／分）０．
０６ ７００ １００．０８
８００ １００．０９ ８５０
１０（３）形成被膜 Ａ チッ化タングステン被膜 Ｎ２ Ｂ 被膜厚さくａｓ＞ ０、０００５〜０．００２ （発明の効果） この発明は上述のように、タングステン電極を水素雰囲
気中で高温加熱して、電極のカールや歪みを除去し、そ
の上でチッ素雰囲気中にて高温加熱し、電極表面にチツ
化タングステン被膜を形成してなるものであるから、電
極表面に不純物が介在する余地がなく、短時間にて電極
表面をチツ化タングステン被膜により被覆することがで
きる。
）０．０６ ８００ １３０．０８
８５０ １５０．０９ ８５
０ １５（２）チッ化処理 Ａ チッ素雰囲気中のチッ素ｉ聞 ５ｇ／Ｗｉｎ Ｂ 加熱条件（電気炉） 電極（直径■） 温度（”Ｃ） 速度（１／分）０．
０６ ７００ １００．０８
８００ １００．０９ ８５０
１０（３）形成被膜 Ａ チッ化タングステン被膜 Ｎ２ Ｂ 被膜厚さくａｓ＞ ０、０００５〜０．００２ （発明の効果） この発明は上述のように、タングステン電極を水素雰囲
気中で高温加熱して、電極のカールや歪みを除去し、そ
の上でチッ素雰囲気中にて高温加熱し、電極表面にチツ
化タングステン被膜を形成してなるものであるから、電
極表面に不純物が介在する余地がなく、短時間にて電極
表面をチツ化タングステン被膜により被覆することがで
きる。
また空気中の酸素に対して、チツ化タングステン被膜は
安定性を有し、歪みなども除去されているので、長期間
にわたり良好な状態でコロナ放電を発生する４【どの特
長を有する。
安定性を有し、歪みなども除去されているので、長期間
にわたり良好な状態でコロナ放電を発生する４【どの特
長を有する。
Claims (1)
- 線引き加工時に施されたタングステン電極表面の黒鉛被
覆を除去したのち、そのタングステン電極を水素雰囲気
中で高温加熱し、しかるのちチッ素雰囲気中にて高温加
熱して、タングステン電極の表面にチッ化タングステン
皮膜を形成してなることを特徴とするコロナ放電用タン
グステン電極の表面処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12777084A JPS616264A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12777084A JPS616264A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS616264A true JPS616264A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14968259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12777084A Pending JPS616264A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS616264A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0512345U (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-19 | 日信工業株式会社 | マスタシリンダのリリーフポート弁 |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP12777084A patent/JPS616264A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0512345U (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-19 | 日信工業株式会社 | マスタシリンダのリリーフポート弁 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2003100844B1 (en) | Method for forming silicon dioxide film on silicon substrate, method for forming oxide film on semiconductor substrate, and method for producing semiconductor device | |
| JP2005005280A5 (ja) | ||
| JPH06188413A (ja) | Ｍｏｓ型半導体装置の製造方法 | |
| CN107217227A (zh) | 一种提高镍基合金抗氧化性能的方法 | |
| JPS616264A (ja) | コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 | |
| JP3002233B2 (ja) | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の製造方法 | |
| JPH11102861A5 (ja) | ||
| RU2060935C1 (ru) | Способ очистки карбида кремния | |
| JPH0753242A (ja) | 石英ガラスの酸窒化方法および表面処理方法 | |
| CN102030310B (zh) | Si/Mn27Si47核壳结构纳米线阵列的制备方法 | |
| JPS616263A (ja) | コロナ放電用タングステン電極の表面処理法 | |
| JPS60233818A (ja) | 太陽電池用シリコン結晶体の製造方法 | |
| JPS59227128A (ja) | 半導体基体の酸化法 | |
| JP2723589B2 (ja) | Ｐｔ複合線の製造方法 | |
| JP2002348174A (ja) | 低酸素拡散性ガラス質被膜を有するＭｏＳｉ２を主体とする発熱材料 | |
| JP2020083734A (ja) | ＳｉＣ部材の製造方法 | |
| CN103594350B (zh) | 一种减小界面层生长的方法 | |
| JP2577568B2 (ja) | 熱処理用反応管の製造方法 | |
| JPS599626B2 (ja) | シ−ズヒ−タ−保護管の黒化処理方法 | |
| JPH05152236A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH05299156A (ja) | 高融点金属ヒーターとその製造方法 | |
| JP2951541B2 (ja) | 外面耐食鋳鉄管の製造方法 | |
| JPS62227077A (ja) | 高周波磁気特性に優れた高珪素鋼材の製造方法 | |
| JPH05214498A (ja) | アルミニウム箔の焼鈍方法 | |
| JP2746639B2 (ja) | パイロ酸化，リン拡散におけるウェーハ前処理方法 |