JPS6163923A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体に係り、より詳細には、磁気デ
ィスク装置、磁気ドラム装置等の磁気記憶装置に用いら
れるもので１表面に保護層を備えた磁気記録媒体に関す
る。

（従来技術） 一般にこの種の磁気記憶装置では、記録再生用磁気ヘッ
トと磁気記録媒体とを利用して種々の方式の下で記録再
生が行われている。いずれの方式によっても、記録再生
用磁気ヘッドと磁気記録媒体は互に静的或いは動的接触
乃至抑圧下で利用されるため、接触摩擦状態が現出する
ので、磁気記録媒体の金ｋＪｔ基盤上に形成されている
磁性薄膜を保護するべく１表面に保δ皮膜を被覆して保
護層を形成する必要がある。

この保護層は、その目的とするところから、いわゆる耐
ヘッドクラツシユ性、耐摩耗性、潤滑性、耐高温高湿性
、対磁気特性非影響性等々の特性を具備していなければ
ならないものである。

従来、このような保護皮膜としては、５ｉＯ２３スパツ
タ法により磁気記録媒体の表面に形成するスパッタ膜が
用いられていた。しかし、このスパッタ法では対ヘツド
クラッシュ性等に欠ける皮膜しか得られず、技術的にも
問題があった。この点、最近に至って、テトラヒドロキ
シシラン溶液を塗布・焼成してポリ珪酸皮膜を形成する
技術が開発され、一応の成果をあげている（特開昭５２
−２０８０４）。

しかし、このポリ珪酸皮膜形成法は、形成されたポリ珪
酸皮膜自体では前述の諸特性の酊で効果をあげてはいる
ものの、皮膜形成工程の曲で問題があり、取扱いにくい
欠点がある。すなわち、ポリ珪酸はテトラヒドロキシシ
ランの脱水縮合重合により製造されるが、テトラヒドロ
キシシランは非常に活性であり、エチルアルコール及び
ブチルアルコールの溶媒を用いたアルコール溶液として
おかなければならず、保存期間が約３ケ月位で短かく、
反応が起こり変質し易い。また、ポリ珪酸中に残存する
未反応シラノール基を減少させるへく焼成温度を高くし
ないと性能が発揮し難く、逆に高温化により磁性皮膜に
磁気変態をもたらす危険性がある。更には、塗布に際し
ては、アルコール溶媒の蒸発に伴いポリ珪酸が形成され
ていくので、粘性１表面張力、薄膜厚化等々の制御が難
がしい。

（発明の目的） 本発明は、このような従来の保護皮膜形成に伴う欠点を
解消し、保護層として良好な諸特性を作業性（使い易さ
）よく具備でき、特に工業的生産性の優れた磁気記録媒
体を提供することを目的とするものである。

（発明の構成） か＼る目的達成のため、各種コーテイング材及びその使
い易さについて実験研究を重ねた結果、シリコーン樹脂
の適用可能性に着目し、中でもラダー（梯子）型シリコ
ーン樹脂の皮膜の利用が実用上可能であることを見い出
した。

ラダー型シリコーン樹脂は、次の構造を有する分子量５
ｏ○〜５０００のオルガノシロキサンオリゴマーのフレ
ーク状物質を加熱又は酸性触媒存在下で加熱することに
よって得られるラダー状構造をもつ不溶、不融のポリマ
ーである。

（但し、Ｒはアルキル基又はフェニル基で、ｎ＝２〜２
０） そして、Ｒの態様によって、ＲがＣＨ，基である場合、
各種比率でのＣＨ，基及びＣＧＨ９基である場合、Ｃ，
Ｈ，基である場合等々の種類があり、特長としては、■
フレーク状で、アルコール、芳香族炭化水素、エステル
系等多くの溶媒に可溶であり、■低粘度であって、スプ
レーコーティング等々の各種操作を容易に行うことがで
き、■２゜Ｏ′Ｃ以下のように低温、短時間での加熱（
焼成）によって硬化する熱硬化性樹脂であり、■保存は
単に冷暗所（５°Ｃ）におくだけで、変質しない、１の
硬化コーティング膜厚は硬化条件により任意に決められ
る、■硬化物は耐熱性が著しく優れており。

ＲとしてＣ，Ｈ，基が多い程耐熱性が高くなり、ＣＮ３
基が多い程硬度が高くなり、■鉄、アルミニューム等々
の金属との接着性に優れ、■硬化物は電気絶縁性、耐候
性、耐食性などに優れ、（Φ硬化コーティング面はガラ
スライクで、硬度、耐擦傷性等に優れている。

本発明者らは、この樹脂を磁気記録媒体にコーティング
（スピンコーティング）する際の１渚条件について実験
し、最適条件を調らへた。まず、溶媒は、基盤上に吐出
された溶液が蒸発する駁を最少に抑えて均一に薄膜をコ
ーティングするために、ｎ−ブタノール（沸点１１８°
Ｃ）のみとした。また、溶液濃度は、第１表に示すよう
に、低濃度の方が硬度があり、薄くコーティングでき、
０．５　ｗ　ｔ％が好ましい。

焼成は、第２表に示す実験結果より、高温で長い時間処
理する程有利であるが、磁性薄膜上に非磁性材（Ｎｉ〜
Ｐ層）を被覆する場合があるときの強磁性化を考慮して
、２００″Ｃ，ｌｈｒが好ましい。なお、この焼成条件
の下では、磁性変態が生じないことを確認した。

（以下余白） 滴下量　約０．５　ｍＱ 焼成（２００℃Ｘ　１ｈｒ） 引掻試験：　ＪＩＳＫ６７１８による（サファイヤ針使
用）判定方法：０　傷なし Δ　浅く傷つく ×　深く傷つく 第１表の（注）参照。

但し、溶液濃度は０゜５νｔ％ また、滴下方法は、２００〜３０００ｒｐｍの基盤回転
数で行うのが望ましい。２０　ＯｒＰｍ未ｉｉ＋ｌｉで
滴下すると遠心力が不足して溶液が外側へよく広がらず
、高速回転後にムラ、放射状の縞模様が生じ易い。

以上の実験結果より、ｎ−ブタノールを溶媒として濃度
０　、５　ｗｔ％の溶液を基盤回転数３００゜ｒｐｎ＋
の下に冴下し、２００℃Ｘ１ｈｒの焼成を行うのが好ま
しい。これにより耐引掻試験荷重６０ｇ相当でも傷がつ
かない０．０８μｍ以下の膜厚が可能となる。

（実施例） ディスク状アルミニウム合金円盤（外径１３０ｍｍ、内
径４０ｍｍ）上にＮ１−Ｐ非磁性合金を約５０μｍの厚
さにメッキし、このＮ１−Ｐメッキ膜を機械的研磨によ
り鏡面仕上げした後、その上にＣｏ−Ｎ１−Ｐの磁性合
金を約０．０５〜０．０８　μｍの厚さにメッキした。

更にその上に以下に示す各種の保護膜形成材を回転塗布
法によりコーティングした。

叉１１引Ｙ 前記ディスク状円盤を２０Ｏｒｐｍで回転させながら、
ラダー型シリコーンオリゴマー溶液（Ｏｗｅｎｓ−ｆＱ
ｆｆｉｎｏｉｓ社グラスレジンＧＲ６５０のｎ−ブタノ
ール中、０．５ｗｔ％溶液）０．４ｍＱを内径周囲部に
滴下させ、溶液か遠心力によりディスク状円盤の外側へ
十分法がった後、高速回転させ、約０．０８μｍの膜厚
の皮１膜が形成された。これを室温（２５℃）でしばら
（放置した後、２００°Ｃ，ｌｈｒ焼成し、シリコン糸
探５１！股をディスク状円盤上に形成した。

実施例２ 同様にディスク状円盤を２０Ｏｒｐｍで回転させながら
、ラダー型シリコーンオリゴマー溶液（○ｗｅｎｓ−Ｉ
ＱＱｉｎｏｉｓ社クラスレジンＧＲ６５０のｎ−ブタノ
ール中、０．５ｗｔ％ン容液）０．２ｍＱを内径周囲部
から外径へ半径方向に移動させながら滴下させ、ディス
ク状円盤上に溶液が十分法がった後、実施例１と同様に
して、高速回転、焼成、保護膜形成を行った。

ル虜ＵしＬ 実施例１と同様の方法により、ポリ珪酸Ｓｉ（○Ｈ）４
（東京応化１０　Ｃ、Ｄのｎ−ブタノ７−ル中。

０．５ｗｔ％溶液）０．４ｍＱを塗布し、ディスク状円
盤上に保護膜を形成した。

比較例２ 実施例１と同様の方法により、ハードコーティング用シ
リコーンワニス（東芝シリコーン製トスガード５１０の
ｎ−ブタノール中、０　、５　ｗｔ％溶液）０．４ｍＱ
を塗布し、ディスク状円盤」二に保３１Ｆ、ｉを形成し
た。

坊較例３ 実施例１と同様の方法により、比較例２で用いたものよ
りもより低温で硬化するシリコーンワニス（東芝シリコ
ーン製トスガード５２０のｎ−フタノール中、０．５ｗ
ｔ％溶液）０．４ｍ立を塗布し、ディスク状円盤上に保
５膜を形成した。

以上の各実験例により保護１漠を形成した各ディスク状
円盤について、ＪＩＳＫ６７１８に基づき（０，０５Ｒ
のサファイヤ針使用）引掻試験を行った。その結果を第
３表に示す。

同表に示す試験結果よりわかるように、本発明のいずれ
の実施例の３９合にも、耐引掻試験荷重が６０ｇまでは
表面に全く儂が発生しておらず、ラダー型シリコーン樹
脂は、既述の特長と相俟って、優れた特性を示し、使い
易さも優れている。なお、実施例２は実施例１に比らべ
て塗布量が異なるが、滴下法も変えたため、同等の結果
を示している。

これに対し、ポリ珪酸皮膜を形成した比較例１の場合は
、耐引掻試験で本発明の各実施例と同等の結果を示して
はいるものの、取扱いにくいという欠点がある。また、
比較例２及び３は僅かの荷重で引掻傷が発生してしまう
ことを示している。

（以下余白） （注）判定方法：第１表の（注）に同じ（発明の効果） 以−ヒ詳述したことから明らかなように、本発明によれ
ば、磁気記録媒体の保３層としてラダー型シリコーン樹
脂皮膜を用いるので、優れた諸特性の保護層を可能にし
、しかもその形成技術面での使い易さく作業性）も優れ
ているので、実用的効果は大きい。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基盤上に直接若しくは間接的に磁性薄膜を被覆し、該磁
   性薄膜上に保護層を有する磁気記録媒体において、前記
   保護層としてラダー型シリコーン樹脂皮膜を用いてなる
   ことを特徴とする磁気記録媒体。