JPS6164870A - 電気かみそり - Google Patents
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は回転式あるいは往復動式電気かみそりの改良
に係り、特に外刃に関するものである。
に係り、特に外刃に関するものである。
従来の電気かみそりに用いられている外刃は、製造、の
簡易さ及び精度の高さから二・ノケルを基本基材として
電鋳法により製造する方法が採られているが、この外刃
を長期間展示したり使用していると、空気中の湿気や使
用時の肌の汗等により外刃表面が黒ずんだ変色を呈し製
品価値が低下する。しかもこの変色は、外刃表面の殊に
肌と当接する外面では、肌とのすべり易さを阻害し、使
用し辛く剃り残しを生じる欠点かあった。
簡易さ及び精度の高さから二・ノケルを基本基材として
電鋳法により製造する方法が採られているが、この外刃
を長期間展示したり使用していると、空気中の湿気や使
用時の肌の汗等により外刃表面が黒ずんだ変色を呈し製
品価値が低下する。しかもこの変色は、外刃表面の殊に
肌と当接する外面では、肌とのすべり易さを阻害し、使
用し辛く剃り残しを生じる欠点かあった。
このような外刃表面の変色等を解消する方法として、例
えば特開昭５０−８４３５５号公報に示されるように、
外刃表面にアルミナ（Ａｊｌ！２０３）を蒸着した後、
基本材料としての外刃母材との密着性を高めるために２
００〜５００°Ｃに加熱処理してアルミナ酸化膜を形成
する方法が提案されている。
えば特開昭５０−８４３５５号公報に示されるように、
外刃表面にアルミナ（Ａｊｌ！２０３）を蒸着した後、
基本材料としての外刃母材との密着性を高めるために２
００〜５００°Ｃに加熱処理してアルミナ酸化膜を形成
する方法が提案されている。
しかしながら上記従来技術は、外刃母材がフェライト系
高炭素ステンレス鋼であるため、耐熱性が高い外刃母材
であるがゆえに可能なものであって、量産性及び外刃孔
パターンの設計的自由度及び精度的に優れているニッケ
ル電鋳外刃には適用し難いものである。すなわちこのよ
うなニッケル電鋳外刃は約３００℃以上に加熱すると、
外刃表面の平滑性を改良するために添加したレベリング
剤としてのイオウ化合物の悪影響によって脆化する傾向
にあり、外刃の割れや亀裂が生じる欠点があった。
高炭素ステンレス鋼であるため、耐熱性が高い外刃母材
であるがゆえに可能なものであって、量産性及び外刃孔
パターンの設計的自由度及び精度的に優れているニッケ
ル電鋳外刃には適用し難いものである。すなわちこのよ
うなニッケル電鋳外刃は約３００℃以上に加熱すると、
外刃表面の平滑性を改良するために添加したレベリング
剤としてのイオウ化合物の悪影響によって脆化する傾向
にあり、外刃の割れや亀裂が生じる欠点があった。
この発明は、上記従来技術の欠点を解消するもので、ニ
ッケル（Ｎｉ）もしくはその合金よりなる外刃を酸化す
ることによって、Ｎｉもしくはその合金の表面だけを強
制的に酸化させて、それ自体で酸化皮膜を形成すること
によって目的を達成したものである。このようなＮｉと
の合金はイオウ（Ｓ）、コバルト（Ｇｏ） 、マンガン
（Ｍｎ） 、タングステン（Ｗ）、スズ（Ｓｎ） 、鉄
（Ｆｅ）が適当である。酸化皮膜の作成法として、酸素
（０２）ガスプラズマによる方法、苛性ソーダ溶液など
の溶液中での陽極酸化法などがある。特に０２ガスプラ
ズマによる酸化は外刃を低温に保ちつつ緻密で厚い酸化
皮膜を形成する。
ッケル（Ｎｉ）もしくはその合金よりなる外刃を酸化す
ることによって、Ｎｉもしくはその合金の表面だけを強
制的に酸化させて、それ自体で酸化皮膜を形成すること
によって目的を達成したものである。このようなＮｉと
の合金はイオウ（Ｓ）、コバルト（Ｇｏ） 、マンガン
（Ｍｎ） 、タングステン（Ｗ）、スズ（Ｓｎ） 、鉄
（Ｆｅ）が適当である。酸化皮膜の作成法として、酸素
（０２）ガスプラズマによる方法、苛性ソーダ溶液など
の溶液中での陽極酸化法などがある。特に０２ガスプラ
ズマによる酸化は外刃を低温に保ちつつ緻密で厚い酸化
皮膜を形成する。
方法として優れている。プラズマ酸化法として、第１図
に示すように高周波電力を外刃に与える方法や、第２図
に示すように直流電圧を印加する陽極酸化法があるが、
いずれも有効である。
に示すように高周波電力を外刃に与える方法や、第２図
に示すように直流電圧を印加する陽極酸化法があるが、
いずれも有効である。
またマイクロ波などを用いても有効である。
第１図に示す高周波電力を印加する場合０２ガス圧は３
〜３０００ｍ Ｔｏｒｒの範囲か望ましく、３ｍ Ｔｏ
ｒｒ以下では放電せず、プラズマは発生しない。一方３
０００ｍ Ｔｏｒｒ以上にすると外刃表面に粉末状の酸
化物が生成するため望ましくない。さらに１０〜５００
ｍＴｏｒｒの範囲が極めて望ましい。
〜３０００ｍ Ｔｏｒｒの範囲か望ましく、３ｍ Ｔｏ
ｒｒ以下では放電せず、プラズマは発生しない。一方３
０００ｍ Ｔｏｒｒ以上にすると外刃表面に粉末状の酸
化物が生成するため望ましくない。さらに１０〜５００
ｍＴｏｒｒの範囲が極めて望ましい。
高周波電力（１３，５６ＭＨｚ）は０．３〜５ Ｗ ／
ｃＡが望ましく、０．３Ｗ／ｃａｔ以下では酸化皮膜
の形成速度が遅く、また５ Ｗ ／ ａｎｔ以上では外
刃全体の温度が上昇し、脆くなるため望ましくない。特
に０．５〜３ Ｗ／ｃｎＴの範囲が好ましい。
ｃＡが望ましく、０．３Ｗ／ｃａｔ以下では酸化皮膜
の形成速度が遅く、また５ Ｗ ／ ａｎｔ以上では外
刃全体の温度が上昇し、脆くなるため望ましくない。特
に０．５〜３ Ｗ／ｃｎＴの範囲が好ましい。
プラズマ酸化を行う以前に、予めアルゴン（Ａｒ） ＋
クリプトン（Ｋｒ） 、チッソ（Ｎ２）、（水素（Ｎ２
）、ヘリウム（Ｈｅ）ガスなどのプラズマで処理するこ
とによって、プラズマ酸化皮膜が均一になるとともに、
外観上しみ等の欠点がなくなるので、このような処理を
行うことが望ましい。
クリプトン（Ｋｒ） 、チッソ（Ｎ２）、（水素（Ｎ２
）、ヘリウム（Ｈｅ）ガスなどのプラズマで処理するこ
とによって、プラズマ酸化皮膜が均一になるとともに、
外観上しみ等の欠点がなくなるので、このような処理を
行うことが望ましい。
以下本発明の実施例を図面により説明する。
実施例１
第１図は外刃に酸化皮膜を形成するためのプラズマ酸化
装置の概略構成図で、図中の１は０２ガス、２はＡｒ、
Ｋｒ、Ｎ２．Ｈｅ、Ｎ２から選ばれるガス、３は外刃、
４は高周波電源、５は排気である。
装置の概略構成図で、図中の１は０２ガス、２はＡｒ、
Ｋｒ、Ｎ２．Ｈｅ、Ｎ２から選ばれるガス、３は外刃、
４は高周波電源、５は排気である。
イオウ（Ｓ）を０．００４５ｗｔ％含をするＮｉ電鋳外
刃を上記プラズマ酸化装置にセントし、１×１０’Ｔｏ
ｒｒ以下の真空度まで排気した後、ＡｒガスをＩＯ５Ｃ
ＣＭの流量で流し、槽内を５０ｍＴｏｒｒとし、高周波
電力４を０ 、５Ｗ ／ ｃｔＭになるよう印加し、３
０秒間処理した。再び１×１０”３Ｔｏｒｒ以下に排気
し、０２ガスを２０ＳＣＣＭ流し槽内を １００ｍ Ｔ
ｏｒｒとし、高周波電力を０．３〜５ Ｗ ／ ｃｏｔ
まで変え、処理時間を１０分間とし、プラズマ酸化処理
を行った。
刃を上記プラズマ酸化装置にセントし、１×１０’Ｔｏ
ｒｒ以下の真空度まで排気した後、ＡｒガスをＩＯ５Ｃ
ＣＭの流量で流し、槽内を５０ｍＴｏｒｒとし、高周波
電力４を０ 、５Ｗ ／ ｃｔＭになるよう印加し、３
０秒間処理した。再び１×１０”３Ｔｏｒｒ以下に排気
し、０２ガスを２０ＳＣＣＭ流し槽内を １００ｍ Ｔ
ｏｒｒとし、高周波電力を０．３〜５ Ｗ ／ ｃｏｔ
まで変え、処理時間を１０分間とし、プラズマ酸化処理
を行った。
実施例２
第２図は実施例２に用いるプラズマ酸化装置の概略構成
図で、第１図の符号と同じものは同一物を示し、６はプ
ラズマ発生用電極、７は直流、交流もしくはＲＦ電源、
８は直流電源である。
図で、第１図の符号と同じものは同一物を示し、６はプ
ラズマ発生用電極、７は直流、交流もしくはＲＦ電源、
８は直流電源である。
実施例２は、実施例１で用いた同一の外刃を使用し、こ
れを上記装置にセットする。装置槽内圧を排気５により
１ ｘ １０’ Ｔｏｒｒ以下に減圧した後、Ａｒガス
を４０ＳＣＣＭの流量で流して槽内をＬｏｏｍ Ｔｏｒ
ｒとし、交流電源７に７００■の直流電圧８を３０秒間
印加した。
れを上記装置にセットする。装置槽内圧を排気５により
１ ｘ １０’ Ｔｏｒｒ以下に減圧した後、Ａｒガス
を４０ＳＣＣＭの流量で流して槽内をＬｏｏｍ Ｔｏｒ
ｒとし、交流電源７に７００■の直流電圧８を３０秒間
印加した。
ついで１×１０°３ＴＯｒｒ以下に再び排気した後、０
２ガスを４０５ＣＣＨの流量で流入させて、槽内を１０
０ｍＴｏｒｒとし交流電源７に７００■の電圧を印加し
てプラズマを発生させ、外刃３に＋２００ Ｖの直流電
圧を１０分間印加し、プラズマ酸化を行った。
２ガスを４０５ＣＣＨの流量で流入させて、槽内を１０
０ｍＴｏｒｒとし交流電源７に７００■の電圧を印加し
てプラズマを発生させ、外刃３に＋２００ Ｖの直流電
圧を１０分間印加し、プラズマ酸化を行った。
実施例３
Ｓを０．０２ｗＬ％およびＣｏを３０ｗ ｔ％よりなる
Ｎｉ合金電鋳外刃を第１図に示すプラズマ酸化装置にセ
ットし、実施例１と同様にしてプラズマ酸化を行った。
Ｎｉ合金電鋳外刃を第１図に示すプラズマ酸化装置にセ
ットし、実施例１と同様にしてプラズマ酸化を行った。
但しプラズマ酸化時の高周波電力はＩ Ｗ ／ ｃｒｌ
である。
である。
実施例４
Ｓを０．０２ｗｔ％およびＭｎを０．４％よりなるＮｉ
合金電鋳外刃を用いた以外は、実施例３と同一条件でプ
ラズマ酸化した。
合金電鋳外刃を用いた以外は、実施例３と同一条件でプ
ラズマ酸化した。
比較例１
実施例１で用いた外刃で、酸化未処理の状態のままのも
の。
の。
比較例２
実施例３で用いた外刃で、酸化未処理の状態のままのも
の。
の。
比較例３
実施例４で用いた外刃で、酸化未処理の状態のままのも
の。
の。
なお０２ガスにＡｒ、 Ｋｒ、 Ｈｅ、 Ｎ ２など
のガスを混合しても同様の効果が得られることは言うま
てもない。
のガスを混合しても同様の効果が得られることは言うま
てもない。
以上のように作製した外刃を電子分光法（ＥＳＣ＾）を
用いて、分析した結果実施例１〜４の試料はすべて、Ｎ
ｉＯの存在が認められ、金ＲＮｉの存在は認められず、
比較例１〜３の試料は主に金ｉＮｉでＮｉＯやＮ１（Ｏ
ＦＩ２）など２価の化合物の存在もわずかに認められた
。このように、プラズマ酸化処理により約２０Å以上の
緻密なニッケル酸化膜が生成したことを確認した。
用いて、分析した結果実施例１〜４の試料はすべて、Ｎ
ｉＯの存在が認められ、金ＲＮｉの存在は認められず、
比較例１〜３の試料は主に金ｉＮｉでＮｉＯやＮ１（Ｏ
ＦＩ２）など２価の化合物の存在もわずかに認められた
。このように、プラズマ酸化処理により約２０Å以上の
緻密なニッケル酸化膜が生成したことを確認した。
次に、上記外刃を組み込みシェーバ−を作製し、１日１
０分間の割合で使用して外刃外観が黒く変色する様子を
調べた。その結果を表１に示す。
０分間の割合で使用して外刃外観が黒く変色する様子を
調べた。その結果を表１に示す。
表１
〇二外観変化認められず
△：やや黒変色あり
×：黒変色
表１の結果より明らかなように１．プラズマ酸化処理す
ることによってニッケル酸化物皮膜が生成し、外刃表面
の変色がなくなることがわかる。
ることによってニッケル酸化物皮膜が生成し、外刃表面
の変色がなくなることがわかる。
このようなニッケル合金としては、他にタングスン（Ｗ
）、スズ（Ｓｎ） 、鉄（Ｆｅ）であっても同様の効果
が得られることは言うまでもない。
）、スズ（Ｓｎ） 、鉄（Ｆｅ）であっても同様の効果
が得られることは言うまでもない。
第１図および第２図は本発明を実施するなめのプラズマ
酸化装置の概略構成図である。 １ ・＝ ・Ｍ素ガス、２ ・・・Ａｒ、 Ｋｒ、 Ｎ
２゜Ｈｅ、Ｉ（２ガス、３・・・外刃、４・・・高周波
電源、５・・・排気、６・・・プラズマ発生用電極、７
・・・プラズマ発生用電源、８・・・直流電源。 代表出願人 九州日立マクセル株式会社代表者 福
原 隆 二
酸化装置の概略構成図である。 １ ・＝ ・Ｍ素ガス、２ ・・・Ａｒ、 Ｋｒ、 Ｎ
２゜Ｈｅ、Ｉ（２ガス、３・・・外刃、４・・・高周波
電源、５・・・排気、６・・・プラズマ発生用電極、７
・・・プラズマ発生用電源、８・・・直流電源。 代表出願人 九州日立マクセル株式会社代表者 福
原 隆 二
Claims (1)
- 電鋳法により製造される外刃を、ニッケルもしくはニッ
ケルとイオウ、コバルト、マンガン、タングステン、ス
ズ、鉄のうちから選択される１種以上の合金により形成
し、この外刃の表面に、ニッケルもしくはニッケル合金
自体からなる酸化皮膜を形成した外刃を備えてなる電気
かみそり。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18483484A JPS6164870A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 電気かみそり |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18483484A JPS6164870A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 電気かみそり |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6164870A true JPS6164870A (ja) | 1986-04-03 |
| JPH0526865B2 JPH0526865B2 (ja) | 1993-04-19 |
Family
ID=16160119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18483484A Granted JPS6164870A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 電気かみそり |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6164870A (ja) |
-
1984
- 1984-09-03 JP JP18483484A patent/JPS6164870A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0526865B2 (ja) | 1993-04-19 |
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