JPS6168058A - 癒着防止用隔膜 - Google Patents
癒着防止用隔膜Info
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- JPS6168058A JPS6168058A JP59190160A JP19016084A JPS6168058A JP S6168058 A JPS6168058 A JP S6168058A JP 59190160 A JP59190160 A JP 59190160A JP 19016084 A JP19016084 A JP 19016084A JP S6168058 A JPS6168058 A JP S6168058A
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Landscapes
- Materials For Medical Uses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ）発明の技術分野
本発明は、ロイシンを含むアミノ酸重合体を表面に有す
ることにより、細胞が付着しにくいことを特徴とする癒
着防止用隔膜に関するものである。
ることにより、細胞が付着しにくいことを特徴とする癒
着防止用隔膜に関するものである。
癒着防止用隔膜とは、外科手術等において手術後組織（
切開部）が癒着するのを防ぐために用いるものである。
切開部）が癒着するのを防ぐために用いるものである。
（ｂ）従来技術の説明
従来、癒着防止用隔膜は、シリコーンゴム、ポリウレタ
ン、ポリテトラフルオロエチレン等の合成高分子材料を
用いて作製されている。これらの材料を用いた癒着防止
用隔膜では、その材料表面に細胞が付着してしまい、取
り出すことができない。したがって、癒着防止用隔膜に
おいては細胞の付着しない材料が求められている。
ン、ポリテトラフルオロエチレン等の合成高分子材料を
用いて作製されている。これらの材料を用いた癒着防止
用隔膜では、その材料表面に細胞が付着してしまい、取
り出すことができない。したがって、癒着防止用隔膜に
おいては細胞の付着しない材料が求められている。
（ｃ＞発明の目的
本発明は上記の問題を、ロイシンを含むアミノ酸重合体
を用いることにより、細胞付着性の少ない癒着防止用隔
膜を提供することを目的とする。
を用いることにより、細胞付着性の少ない癒着防止用隔
膜を提供することを目的とする。
（ｄ）発明の構成
本発明者は細胞の付着しにくい性質を有する材料につい
て種々研究を重ねたところ、ロイシンを含むアミノ酸重
合体は、細胞を著しく付着させない性質を有しており、
癒着防止用隔膜として好適であることを見い出し、本発
明を完成するに到った。
て種々研究を重ねたところ、ロイシンを含むアミノ酸重
合体は、細胞を著しく付着させない性質を有しており、
癒着防止用隔膜として好適であることを見い出し、本発
明を完成するに到った。
即ち、本発明の癒着防止用隔膜は、ロイシンを含むアミ
ノ酸重合体を目的とする膜状に成型して得るか、あるい
はあらかじめ他の高分子材料で膜状に成型した後、その
表面にロイシンを含むアミノ酸重合体を塗布して得る。
ノ酸重合体を目的とする膜状に成型して得るか、あるい
はあらかじめ他の高分子材料で膜状に成型した後、その
表面にロイシンを含むアミノ酸重合体を塗布して得る。
本発明のアミノ酸重合体構成素材としてのロイシン及び
その共重合成分としてのアミノ酸は、０体、Ｌ体、ラセ
ミ体でもよく、他のアミノ酸として、アラニン、グリシ
ン、メチオニン、バリン、グルタミン酸誘導体、アスパ
ラギン酸誘導体、リジン誘導体、オルニチン誘導体など
が用いられる。
その共重合成分としてのアミノ酸は、０体、Ｌ体、ラセ
ミ体でもよく、他のアミノ酸として、アラニン、グリシ
ン、メチオニン、バリン、グルタミン酸誘導体、アスパ
ラギン酸誘導体、リジン誘導体、オルニチン誘導体など
が用いられる。
アミンｉ５！重合体の分子量はその皮膜が形成される程
度であればよく、また重合体中のロイシン含量はアミノ
酸の種類によって変わるが、３０モル％以上が好ましい
。
度であればよく、また重合体中のロイシン含量はアミノ
酸の種類によって変わるが、３０モル％以上が好ましい
。
（ｅ）発明の実施例
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例１
Ｌ−ロイシンとＬ−グルタミン酸ベンジルとの共重合体
（ロイシンとグルタミン酸ベンジルとのモル比＝７：３
）のベンゼンとジオキサン（７：３）との混合溶液をガ
ラス板上に流延し、風乾して皮膜（膜厚的０．０５ｍｍ
）を得た。この皮膜をエタノールでソックスレー抽出を
行った後、乾燥した。
（ロイシンとグルタミン酸ベンジルとのモル比＝７：３
）のベンゼンとジオキサン（７：３）との混合溶液をガ
ラス板上に流延し、風乾して皮膜（膜厚的０．０５ｍｍ
）を得た。この皮膜をエタノールでソックスレー抽出を
行った後、乾燥した。
この皮膜上で、人由来の上皮性細胞を含む培養液（約１
０万個／ｍλ）を接触させたまま、炭酸ガス濃度５％、
湿度１００％、３７°Ｃの部屋に静置した。
０万個／ｍλ）を接触させたまま、炭酸ガス濃度５％、
湿度１００％、３７°Ｃの部屋に静置した。
１７時間後、皮膜をリン酸緩衝液で軽く洗浄し、皮膜上
に付着している細胞の量を核染色法により定置した。比
較のため、グルタミン酸ベンジル単独重合体皮膜及び癒
着防止用隔膜に使用されているシリコーンゴム、標準試
料として市販の細胞培養シートを用いて、同様の細胞付
着試験を行った。
に付着している細胞の量を核染色法により定置した。比
較のため、グルタミン酸ベンジル単独重合体皮膜及び癒
着防止用隔膜に使用されているシリコーンゴム、標準試
料として市販の細胞培養シートを用いて、同様の細胞付
着試験を行った。
皮膜に付着した細胞の量を、標準試料に何着した細胞の
量で割ることにより、細胞付着率を求めた。
量で割ることにより、細胞付着率を求めた。
その結果を第１表に示す。
第１表
実施例２
Ｌ−ロイシンとＬ−グルタミン酸ベンジルとの共重合体
のかわりに、Ｌ−ロイシンとＬ−カルボベンゾキシリジ
ンとの共重合体くロイシンとカルボベンゾキシリジンと
のモル比＝ ７： ３）を用いた以外は実施例１と同
様にして、皮膜を成型し、細胞付着実験を行った。結果
を第２表に示す。
のかわりに、Ｌ−ロイシンとＬ−カルボベンゾキシリジ
ンとの共重合体くロイシンとカルボベンゾキシリジンと
のモル比＝ ７： ３）を用いた以外は実施例１と同
様にして、皮膜を成型し、細胞付着実験を行った。結果
を第２表に示す。
第２表
実施例３
Ｌ−ロイシンとＬ−グルタミン酸ベンジルとの共重合体
において、それぞれのモル比が８５ ： １５．５０
： ５０．３０ ： ７０のものを実施例１と同様の方
法で皮膜を得た。
において、それぞれのモル比が８５ ： １５．５０
： ５０．３０ ： ７０のものを実施例１と同様の方
法で皮膜を得た。
実施例４
Ｌ−ロイシンとＬ−カルボベンゾキシリジンとの共重合
体において、それぞれのモル比が８５ ： １５．５０
： ５０．３０ ： ７０のものを実施例１と同様の
方法で皮膜を得た。
体において、それぞれのモル比が８５ ： １５．５０
： ５０．３０ ： ７０のものを実施例１と同様の
方法で皮膜を得た。
実施例５
ポリーＬ−ロイシンを熱ベンゼンに溶解し、実施例１と
同様にして皮膜を得た。
同様にして皮膜を得た。
実施例６
Ｌ−ロイシンとし一グルタミン酸ベンジルとから成るブ
ロック共重合体を、Ｎ−カルボキシアミノ酸無水物法に
よりヘキサメチレンジアミンを開始剤とし、ベンゼンと
ジオキサンとの混合溶媒（ベンゼンとジオキサンとの容
量比＝１９： １）中で合成した（このブロック共重
合体の組成は、（グルタミン酸ベンジル（１８％））−
（ロイシン（６４％）〉−（グルタミン酸ベンジル（１
８％））であった。）。この共重合体を熱ベンゼンに溶
解し、実施例１と同様にして皮膜を得た。
ロック共重合体を、Ｎ−カルボキシアミノ酸無水物法に
よりヘキサメチレンジアミンを開始剤とし、ベンゼンと
ジオキサンとの混合溶媒（ベンゼンとジオキサンとの容
量比＝１９： １）中で合成した（このブロック共重
合体の組成は、（グルタミン酸ベンジル（１８％））−
（ロイシン（６４％）〉−（グルタミン酸ベンジル（１
８％））であった。）。この共重合体を熱ベンゼンに溶
解し、実施例１と同様にして皮膜を得た。
実施例７
Ｌ−グルタミン酸ベンジルのかわりにＬ−カルボベンゾ
キシリジンを用い、以下実施例６と同様にして、ブロッ
ク共重合体皮膜を得た。
キシリジンを用い、以下実施例６と同様にして、ブロッ
ク共重合体皮膜を得た。
（ｆ）発明の効果
本発明は以上説明したように、細胞付着性の少ないこと
を必要とする癒着防止用隔膜（こお（Ｘで、ロイシンを
含むアミノ酸重合体を表面に成型することにより細胞の
付着を抑え、かつ、この癒着防止用隔膜を任意の形状で
得ることが可能である。
を必要とする癒着防止用隔膜（こお（Ｘで、ロイシンを
含むアミノ酸重合体を表面に成型することにより細胞の
付着を抑え、かつ、この癒着防止用隔膜を任意の形状で
得ることが可能である。
Claims (1)
- （１）ロイシンを含むアミノ酸重合体を表面に有する癒
着防止用隔膜
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190160A JPS6168058A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 癒着防止用隔膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190160A JPS6168058A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 癒着防止用隔膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168058A true JPS6168058A (ja) | 1986-04-08 |
| JPS6352907B2 JPS6352907B2 (ja) | 1988-10-20 |
Family
ID=16253420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59190160A Granted JPS6168058A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 癒着防止用隔膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168058A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102665780A (zh) * | 2009-12-28 | 2012-09-12 | 川澄化学工业株式会社 | 防粘连材料 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04209915A (ja) * | 1990-12-11 | 1992-07-31 | Fuji Oozx Kk | 内燃機関用吸排気弁及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP59190160A patent/JPS6168058A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102665780A (zh) * | 2009-12-28 | 2012-09-12 | 川澄化学工业株式会社 | 防粘连材料 |
| CN102665780B (zh) * | 2009-12-28 | 2015-04-22 | 川澄化学工业株式会社 | 防粘连材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6352907B2 (ja) | 1988-10-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |