JPS6168900A - プラズマト−チの着火方法 - Google Patents
プラズマト−チの着火方法Info
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- JPS6168900A JPS6168900A JP10442084A JP10442084A JPS6168900A JP S6168900 A JPS6168900 A JP S6168900A JP 10442084 A JP10442084 A JP 10442084A JP 10442084 A JP10442084 A JP 10442084A JP S6168900 A JPS6168900 A JP S6168900A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はプラズマトーチの着火方法に関する。
(従来技術)
チャンバーに一方端面が開口する管体の他方端面側から
管内に所定のコアガスを注入し、チャンパーに近接する
管体の外周に巻回した誘導コイルに高周波電源からの電
流を通電して高周波エネルギーを発生させ、当該高周波
エネルギーによって管内のコアガスを高温度の電離ガス
、即ちプラズマファイヤとし、当該プラズマファイヤを
チャンバー内に導いて各種の作用を行わせるようにした
プラズマトーチは公知である。
管内に所定のコアガスを注入し、チャンパーに近接する
管体の外周に巻回した誘導コイルに高周波電源からの電
流を通電して高周波エネルギーを発生させ、当該高周波
エネルギーによって管内のコアガスを高温度の電離ガス
、即ちプラズマファイヤとし、当該プラズマファイヤを
チャンバー内に導いて各種の作用を行わせるようにした
プラズマトーチは公知である。
上記プラズマトーチの1例とその着火方法として従来か
ら広く行われている接地炭素棒方式とを第3図に従って
説明する。
ら広く行われている接地炭素棒方式とを第3図に従って
説明する。
第3図において、1′はプラズマトーチであって、例え
ば耐熱性のある石英管等を用いた大径の外管101と小
径ρ内管102とからなる二重管および高周波誘導コイ
ルC(以下コイルと称す)で構成されている。上記外管
101は一方端面を閉端面に、他方端面を開端面に形成
されていて、開端面が例えばチャ/パーah内に開口す
る。上記内管102は一方端面を閉端面に、他方端面を
開端面に形成されていて、上記外管101の閉端面を貫
通して閉端面方向一部が外管101外にあシ、開端面方
向所定長ざが外管101内にあって、管内の所定中間位
置に開口する如く同心状に配設されている。上記コイル
Cは上記内管102が外管101内で開口する位置に近
接した外管101外周に巻回されていて、図示しない高
周波電源に接続されている。外管101および内管10
2それぞれの閉端面近傍には導管が開口しており、内管
102へは所定のコアガスamを、また外管101へは
例えば上記コアガスG!と同質の管壁冷却用ガスG!を
注入可能に設定されている。
ば耐熱性のある石英管等を用いた大径の外管101と小
径ρ内管102とからなる二重管および高周波誘導コイ
ルC(以下コイルと称す)で構成されている。上記外管
101は一方端面を閉端面に、他方端面を開端面に形成
されていて、開端面が例えばチャ/パーah内に開口す
る。上記内管102は一方端面を閉端面に、他方端面を
開端面に形成されていて、上記外管101の閉端面を貫
通して閉端面方向一部が外管101外にあシ、開端面方
向所定長ざが外管101内にあって、管内の所定中間位
置に開口する如く同心状に配設されている。上記コイル
Cは上記内管102が外管101内で開口する位置に近
接した外管101外周に巻回されていて、図示しない高
周波電源に接続されている。外管101および内管10
2それぞれの閉端面近傍には導管が開口しており、内管
102へは所定のコアガスamを、また外管101へは
例えば上記コアガスG!と同質の管壁冷却用ガスG!を
注入可能に設定されている。
図中の2および201はプラズマトーチ1′の従来着火
装置を構成する炭素棒および炭素棒保持管である。炭素
棒2は上記内管102の閉端面を貫通する保持管201
に−1側部分を嵌入され、他方側部分を内管102の軸
線にそって伸延してその先端がほぼ開口端面にまで達す
るように装着される。また炭素棒2の保持管201内の
端面には導電線202が接続されていて接地となってい
る。
装置を構成する炭素棒および炭素棒保持管である。炭素
棒2は上記内管102の閉端面を貫通する保持管201
に−1側部分を嵌入され、他方側部分を内管102の軸
線にそって伸延してその先端がほぼ開口端面にまで達す
るように装着される。また炭素棒2の保持管201内の
端面には導電線202が接続されていて接地となってい
る。
上記接地炭素棒方式の着火理論では、コアガスGlが内
管102に注入されつつある状態でコイルCに高周波電
流の通電を開始すると、コイルCから発生する磁束によ
って炭素棒2に渦電流が誘起されて発熱し、加熱された
炭素棒2がこれにそって流れるコアガスG1の電離を促
進するとともに、接地されて低電位の炭素棒2と高電位
のコイルCとの間に生ずる半径方向の電界によって火花
電圧・・・無声放電開始電圧を生じコアガスG1が着火
されるとする。
管102に注入されつつある状態でコイルCに高周波電
流の通電を開始すると、コイルCから発生する磁束によ
って炭素棒2に渦電流が誘起されて発熱し、加熱された
炭素棒2がこれにそって流れるコアガスG1の電離を促
進するとともに、接地されて低電位の炭素棒2と高電位
のコイルCとの間に生ずる半径方向の電界によって火花
電圧・・・無声放電開始電圧を生じコアガスG1が着火
されるとする。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、上記従来接地炭素棒方式では炭素棒2は保持
管201に嵌着固定されていて、着火後も先端が高周波
エネルギー領域内に定置状態を維持しているため、プラ
ズマファイヤPのヘッドと常に接触を保つので炭素成分
がプラズマ中に溶出混入して、コアガスGl成分のみか
らなる純度の高いプラズマファイヤPを得ることが困難
であった。
管201に嵌着固定されていて、着火後も先端が高周波
エネルギー領域内に定置状態を維持しているため、プラ
ズマファイヤPのヘッドと常に接触を保つので炭素成分
がプラズマ中に溶出混入して、コアガスGl成分のみか
らなる純度の高いプラズマファイヤPを得ることが困難
であった。
(発明の目的)
本発明は純度の高いプラズマファイヤを得ることを目的
としてなされた研究実験から得られた成果であって、従
来接地炭素棒方式とは異る新規なプラズマトーチの着火
方法を提供するものである。
としてなされた研究実験から得られた成果であって、従
来接地炭素棒方式とは異る新規なプラズマトーチの着火
方法を提供するものである。
(発明の技術思想)
本願第1発明は発明の基本的技術思想を開示するもので
あって、 (l−1) 管体の所定領域外周に巻回した高周波誘導
コイルから発生する高周波エネルギーを管体内へ注入さ
れるコアガスに付与して高温プラズマファイヤを得るプ
ラズマトーチを着火するに際し、 (1−2) 最初に管体内を所定の減圧状態として付
与される高周波エネルギーによりグロー放電を発生せし
め、 (1−3) ついで管体内へコアガスを序々に注入し
て上記グロー放電を高温プラズマファイヤに変換するよ
うにした ことを特徴とするプラズマトーチの着火方法である。
あって、 (l−1) 管体の所定領域外周に巻回した高周波誘導
コイルから発生する高周波エネルギーを管体内へ注入さ
れるコアガスに付与して高温プラズマファイヤを得るプ
ラズマトーチを着火するに際し、 (1−2) 最初に管体内を所定の減圧状態として付
与される高周波エネルギーによりグロー放電を発生せし
め、 (1−3) ついで管体内へコアガスを序々に注入し
て上記グロー放電を高温プラズマファイヤに変換するよ
うにした ことを特徴とするプラズマトーチの着火方法である。
而して、上記第1発明の技術思想を実現する具体的な着
火方法を示す本願第2発明の要旨は、(2−1) 一
方端を閉端面とし他方端をチャンバー内に開口する開端
面とした管体の所定領域外周に巻回した高周波コイルか
ら発生する高周波エネルギーを管体内へ注入されるコア
ガスに付与して高温プラズマファイヤを得るプラズマト
ーチにおいて、 (2−2) 上記管体内に管路を接続する真空排気装
置を設けるとともに、 (2−3) 管体の開端面に当接してこれを閉成可能
な蓋部材を常時常圧を維持するチャンバー内に設け、 (2−4) 当該蓋部材がチャンノ9−内と管体内と
の圧力差によって開端面に吸着またはこれから解離可能
に構成し、 (2−5) 着火時にはコアガスの注入が停止されて
いる管体の閉端面に蓋部材を当接のうえ真空排気装置を
駆動させて所定減圧状態となった管体内に高周波エネル
ギーによってグロー放電を発生せしめ、 (2−6) ついで管内へコアガスを序々に注入して
上記グロー放電を高温プラズマファイヤに変換し、 (2−7) 同時に常圧に近づいた管体の開端面から
蓋部材が自重によシ解離するようにした ことを特徴とするプラズマトーチの着火方法におる。
火方法を示す本願第2発明の要旨は、(2−1) 一
方端を閉端面とし他方端をチャンバー内に開口する開端
面とした管体の所定領域外周に巻回した高周波コイルか
ら発生する高周波エネルギーを管体内へ注入されるコア
ガスに付与して高温プラズマファイヤを得るプラズマト
ーチにおいて、 (2−2) 上記管体内に管路を接続する真空排気装
置を設けるとともに、 (2−3) 管体の開端面に当接してこれを閉成可能
な蓋部材を常時常圧を維持するチャンバー内に設け、 (2−4) 当該蓋部材がチャンノ9−内と管体内と
の圧力差によって開端面に吸着またはこれから解離可能
に構成し、 (2−5) 着火時にはコアガスの注入が停止されて
いる管体の閉端面に蓋部材を当接のうえ真空排気装置を
駆動させて所定減圧状態となった管体内に高周波エネル
ギーによってグロー放電を発生せしめ、 (2−6) ついで管内へコアガスを序々に注入して
上記グロー放電を高温プラズマファイヤに変換し、 (2−7) 同時に常圧に近づいた管体の開端面から
蓋部材が自重によシ解離するようにした ことを特徴とするプラズマトーチの着火方法におる。
(実施例の構成)
上記本願第2発明を第1図〜第2図(d)に示す実施例
に従ってさらに詳述する。
に従ってさらに詳述する。
第1図において、1Viプラズマト一チ全体を示し、1
01および102は耐熱性のある石英管等を用いた大径
の外管および小径の内管であって、上記外管101の1
方端は閉端面としてチャンバーah外に、他方端は開端
面としてチャンバー内h内に開口し、上記内管102の
一方端は閉端面として外管101外に、他方端は開端面
として外管101の閉端面を貫通して管内所定位置まで
伸延した二重管体となってお)、また上記外管101の
チャンバーchに近接した所定領域外周にはコイルCが
巻回されており、外管101および内管102それぞれ
の閉端面近傍にはコアガスG1および例えばコアガスG
。
01および102は耐熱性のある石英管等を用いた大径
の外管および小径の内管であって、上記外管101の1
方端は閉端面としてチャンバーah外に、他方端は開端
面としてチャンバー内h内に開口し、上記内管102の
一方端は閉端面として外管101外に、他方端は開端面
として外管101の閉端面を貫通して管内所定位置まで
伸延した二重管体となってお)、また上記外管101の
チャンバーchに近接した所定領域外周にはコイルCが
巻回されており、外管101および内管102それぞれ
の閉端面近傍にはコアガスG1および例えばコアガスG
。
と同質の管壁冷却用ガスG、をそれぞれの管内に注入可
能に設定されているのは前記従来着火方法の説明で述べ
たプラズマトーチ1/と同様である。
能に設定されているのは前記従来着火方法の説明で述べ
たプラズマトーチ1/と同様である。
しかし本発明では第3図に2として示す着火用の接地炭
素棒は用いない。
素棒は用いない。
図において、3はコアガスG1の供給源であって、例え
ば可変流量弁V!を介して内管102ヘコアガスG、を
注入可能に管路31が、また上記可変流量弁Vtおよび
同じく可変流量弁であるV2を介して外管101へ管壁
冷却用ガスG2を注入可能に管路32がそれぞれ配設さ
れている。4は例えば油回転ポンプからなる真空排気装
置であって、当該真空排気装[4は弁Vsを介して管路
31に接続されている。5はチャンバー内h内に設けら
れている蓋部材であって、例えばセラミックあるいは耐
熱金属等を使用した、外管101の開口端面よシ大なる
板材で、その表面が平坦鏡面仕上げとされ、同じく平坦
鏡面仕上げとされた外管101の開端面管線に当接して
これを閉成可能である。当該蓋部材5は例えばチャンバ
ーahの側壁を貫通して図示矢印@ 441)の如く水
平移動可能で、その先端がa方向へ変位すると外管10
1の開端面近傍まで到達する可動板51の先端面と、第
2図(&)に示される如く、その所定辺を蝶番接続52
されている。可動板51の裏面には保持愈531および
532が設けられていて、当該保持鎖531.532に
保持される蓋支承棒54がチャンバーahの内外にわた
シ可動板51にそって配置される。当該蓋支承棒54は
可動板51とは個別に矢印a’4−+b’として示す如
く可動板51の裏面を摺動可能であり、3′方向への変
位によってその先端部が可動板51の先端よυ突出して
、その前方に蝶番接続52された蓋部材5を第1図およ
び第2図(、)の如く水平に支承して外管101の開端
面に当接可能、またb′方向への変位によってその先端
部が可動板51の先端よシ引込み、その前方に蝶番接続
52された蓋部材5を第2図(C)に示す如く下垂せし
めることが可能である。また可動板51のb方向への変
位により上記下垂状態の蓋部材5を第2図(d)に示す
如くチャンバー側壁まで退避せしめることができる。同
511は可動板51上に設けられた位置決め兼用ストッ
パー、また541は蓋支承棒54の先端に設けたストッ
パーである。
ば可変流量弁V!を介して内管102ヘコアガスG、を
注入可能に管路31が、また上記可変流量弁Vtおよび
同じく可変流量弁であるV2を介して外管101へ管壁
冷却用ガスG2を注入可能に管路32がそれぞれ配設さ
れている。4は例えば油回転ポンプからなる真空排気装
置であって、当該真空排気装[4は弁Vsを介して管路
31に接続されている。5はチャンバー内h内に設けら
れている蓋部材であって、例えばセラミックあるいは耐
熱金属等を使用した、外管101の開口端面よシ大なる
板材で、その表面が平坦鏡面仕上げとされ、同じく平坦
鏡面仕上げとされた外管101の開端面管線に当接して
これを閉成可能である。当該蓋部材5は例えばチャンバ
ーahの側壁を貫通して図示矢印@ 441)の如く水
平移動可能で、その先端がa方向へ変位すると外管10
1の開端面近傍まで到達する可動板51の先端面と、第
2図(&)に示される如く、その所定辺を蝶番接続52
されている。可動板51の裏面には保持愈531および
532が設けられていて、当該保持鎖531.532に
保持される蓋支承棒54がチャンバーahの内外にわた
シ可動板51にそって配置される。当該蓋支承棒54は
可動板51とは個別に矢印a’4−+b’として示す如
く可動板51の裏面を摺動可能であり、3′方向への変
位によってその先端部が可動板51の先端よυ突出して
、その前方に蝶番接続52された蓋部材5を第1図およ
び第2図(、)の如く水平に支承して外管101の開端
面に当接可能、またb′方向への変位によってその先端
部が可動板51の先端よシ引込み、その前方に蝶番接続
52された蓋部材5を第2図(C)に示す如く下垂せし
めることが可能である。また可動板51のb方向への変
位により上記下垂状態の蓋部材5を第2図(d)に示す
如くチャンバー側壁まで退避せしめることができる。同
511は可動板51上に設けられた位置決め兼用ストッ
パー、また541は蓋支承棒54の先端に設けたストッ
パーである。
(実施例の作用)
上記の構成からなる本発明実施例によってプラズマトー
チ1を着火する場合を第2図(、)〜(d)に従って以
下に述べる。
チ1を着火する場合を第2図(、)〜(d)に従って以
下に述べる。
まず、可変流量弁v1およびv2それぞれを閉成とし、
プラズマトーチ1内にはコアガスG。
プラズマトーチ1内にはコアガスG。
および管壁冷却用ガスG2が注入されない状態となし、
可動板51および蓋支承棒54をそれぞれaおよびa′
方向へ変位せしめる。これによりチャンバーah内の蓋
部材5は第2図(、)に示される如く当該チャンバーa
h内に開口する外管101の開端面に当妥した状態とな
る。次に弁v3を開成して真空排気装置4を駆動する。
可動板51および蓋支承棒54をそれぞれaおよびa′
方向へ変位せしめる。これによりチャンバーah内の蓋
部材5は第2図(、)に示される如く当該チャンバーa
h内に開口する外管101の開端面に当妥した状態とな
る。次に弁v3を開成して真空排気装置4を駆動する。
これによりプラズマトーチ1の管体内のガス(この場合
のガスはコアガスG1であっても、あるいは空気であっ
ても同等支障はない)は急速に排出され、常圧を維持し
ているチャンバーah内よシも減圧されるので、蓋部材
5は当接している外管101の開端面に吸着状態となる
。
のガスはコアガスG1であっても、あるいは空気であっ
ても同等支障はない)は急速に排出され、常圧を維持し
ているチャンバーah内よシも減圧されるので、蓋部材
5は当接している外管101の開端面に吸着状態となる
。
次に蓋支承棒54をb′方向へ変位せしめる。
蓋部材5は上記したとおシ外管101の開端面に吸着さ
れているので第2図(b)に示す状態が維持される。プ
ラズマトーチ1内の排気が進み所定減圧状態、例えば1
0 torr以下となった時点でコイルCへの通電を開
始する。外管101内の所定領域・・・高周波エネルギ
ー領域には直ちにグロー放電が発生する。この状態にお
いて弁vsの閉成と真空排気装置4の駆動停止を行い、
替つてコアガス供給源3に接続する可変流量弁7里を流
量が序々に犬となる如く操作しつつ開成とする。コアガ
スG1は管路31を介して内管102へ流入し、その開
端面から外管101内に発生しているグロー放電領域へ
序々に注入される。低温のグロー放電領域では注入され
るコアガスGKによって序々に増加する分子が付与され
る高周波エネルギによシ励起されて活発に運動し、衝突
が次第に激しくなシミ離状態へ突入するためと思われる
が、順次温度が高まってゆき、グロー放電は高温のプラ
ズマP!へと変換される。高温プラズマP1への移行圧
力は定かではないが500 torr前後と推定される
。グロー放電が高温プラズマ化すると間もなく、プラズ
マトーチ1内のガス圧が常圧に近づくので、これまで外
管101の開端面に吸着状態を維持していた蓋部材5は
自重によって解離し、第2図(C)に示される状態とな
る。この状態となったら直ちに可動板51および蓋支承
棒54をそれぞれb−b’方向へ移動して第2図(d)
に示す如く蓋部材5をチャンバーchの側壁へと退避さ
せ、同時に可変流量弁v2を開成かつvIを所定全開流
量に調整して適正なプラズマ7アイヤPとなし、プラズ
マトーチ1の着火操作を終夛、チャンバーah内での処
理工程の実行が可能となる。
れているので第2図(b)に示す状態が維持される。プ
ラズマトーチ1内の排気が進み所定減圧状態、例えば1
0 torr以下となった時点でコイルCへの通電を開
始する。外管101内の所定領域・・・高周波エネルギ
ー領域には直ちにグロー放電が発生する。この状態にお
いて弁vsの閉成と真空排気装置4の駆動停止を行い、
替つてコアガス供給源3に接続する可変流量弁7里を流
量が序々に犬となる如く操作しつつ開成とする。コアガ
スG1は管路31を介して内管102へ流入し、その開
端面から外管101内に発生しているグロー放電領域へ
序々に注入される。低温のグロー放電領域では注入され
るコアガスGKによって序々に増加する分子が付与され
る高周波エネルギによシ励起されて活発に運動し、衝突
が次第に激しくなシミ離状態へ突入するためと思われる
が、順次温度が高まってゆき、グロー放電は高温のプラ
ズマP!へと変換される。高温プラズマP1への移行圧
力は定かではないが500 torr前後と推定される
。グロー放電が高温プラズマ化すると間もなく、プラズ
マトーチ1内のガス圧が常圧に近づくので、これまで外
管101の開端面に吸着状態を維持していた蓋部材5は
自重によって解離し、第2図(C)に示される状態とな
る。この状態となったら直ちに可動板51および蓋支承
棒54をそれぞれb−b’方向へ移動して第2図(d)
に示す如く蓋部材5をチャンバーchの側壁へと退避さ
せ、同時に可変流量弁v2を開成かつvIを所定全開流
量に調整して適正なプラズマ7アイヤPとなし、プラズ
マトーチ1の着火操作を終夛、チャンバーah内での処
理工程の実行が可能となる。
上記着火操作はプラズマトーチ1の大きさやコイルco
整合状態によって多少の差は生ずるが極めて短時間で完
了する。殊にグロー放電の開始から高温プラズマへの変
換までに要する時間は、整合が良好でコアガスG1の流
量調整が最適ならば、数秒ですむ。また外管101の開
端面を閉成する蓋部材5と初期高温プラズマPK発生位
置との間隔を所定の如く設定しておけば、蓋部材5には
高温プラズマP1が直接当らないので、加熱昇温温度が
余り高温にはならず、コアガスGlのみによる高温プラ
ズマP1が保持され、ついで蓋部材5の落下と退避とに
よってプラズマファイヤPの純度も保証される。
整合状態によって多少の差は生ずるが極めて短時間で完
了する。殊にグロー放電の開始から高温プラズマへの変
換までに要する時間は、整合が良好でコアガスG1の流
量調整が最適ならば、数秒ですむ。また外管101の開
端面を閉成する蓋部材5と初期高温プラズマPK発生位
置との間隔を所定の如く設定しておけば、蓋部材5には
高温プラズマP1が直接当らないので、加熱昇温温度が
余り高温にはならず、コアガスGlのみによる高温プラ
ズマP1が保持され、ついで蓋部材5の落下と退避とに
よってプラズマファイヤPの純度も保証される。
(他の実施例)
上記実施例では蓋部材5としてセラミック板や耐熱性の
ある金属板材を挙げ、かつ可動板51や蓋支承棒54を
使用した場合として説明したが、これに限らず、例えば
ゴム様弾力性があり、かつ耐熱性もある蓋部材(ゴムは
250℃前後で変質するので好ましくないが)のみを用
い、プラズマトーチ1内の減圧で吸着させ、コアガスG
lの注入による増圧でチャンバーchの底に自然落下せ
しめるようにしてもよい。
ある金属板材を挙げ、かつ可動板51や蓋支承棒54を
使用した場合として説明したが、これに限らず、例えば
ゴム様弾力性があり、かつ耐熱性もある蓋部材(ゴムは
250℃前後で変質するので好ましくないが)のみを用
い、プラズマトーチ1内の減圧で吸着させ、コアガスG
lの注入による増圧でチャンバーchの底に自然落下せ
しめるようにしてもよい。
また、上記実施例では真空排気装置4をコアガスGlの
内管102への供給用管路31に接続としたが、例えば
別個に直接内管102もしくは外管101へ接続するも
よく、管路設計は自由である。
内管102への供給用管路31に接続としたが、例えば
別個に直接内管102もしくは外管101へ接続するも
よく、管路設計は自由である。
以上のほかにも種々の構成によって本願と同一の作用を
行わせることが可能であるが、少くともプラズマトーチ
を減圧状態下において、高周波エネルギーによってグロ
ー放電を発生せしめ、コアーガスをグロー放電領域に序
々に注入してこれを高温プラズマに変換するという本願
の基本技術思想に則る限9本願第1発明の適用とされる
ところであり、またチャンバーに限らず、プラズマトー
チ内外の気圧差を利用してプラズマトーチの開口部の開
閉を自動的に行う限り本願第2発明の適用とされるとこ
ろである。
行わせることが可能であるが、少くともプラズマトーチ
を減圧状態下において、高周波エネルギーによってグロ
ー放電を発生せしめ、コアーガスをグロー放電領域に序
々に注入してこれを高温プラズマに変換するという本願
の基本技術思想に則る限9本願第1発明の適用とされる
ところであり、またチャンバーに限らず、プラズマトー
チ内外の気圧差を利用してプラズマトーチの開口部の開
閉を自動的に行う限り本願第2発明の適用とされるとこ
ろである。
(発明の効果)
本発明を実施することにより、コアガスのみかららな高
純度の高温プラズマファイヤが得られ、当該プラズマフ
ァイヤを使用して行われる各種処理に効果的な作用を及
ぼすこととなシ、また実施に要する設備も極めてありふ
れたもので足り、かつ安価に設備しうるので、蒼らされ
る効果は顕著である。
純度の高温プラズマファイヤが得られ、当該プラズマフ
ァイヤを使用して行われる各種処理に効果的な作用を及
ぼすこととなシ、また実施に要する設備も極めてありふ
れたもので足り、かつ安価に設備しうるので、蒼らされ
る効果は顕著である。
第1図は本願第2発明の実施例装置の一部断面正面図、
第2図(、)は第1図の部分斜視図、第2図(b)、(
e)および(d)は第1図に示す実施例装置の作用を示
す部分正面図である。 1・・・プラズマトーチ、101.102・・・外管お
よび内管からなる管体、3・・・コアガス供給源、31
・・・管路、4・・・真空排気装置、5・・・蓋部材、
C・・・高周波誘導コイル、GI・・・コアガス、ch
・・・チャンバー、P・・・高温プラズマファイヤ。
第2図(、)は第1図の部分斜視図、第2図(b)、(
e)および(d)は第1図に示す実施例装置の作用を示
す部分正面図である。 1・・・プラズマトーチ、101.102・・・外管お
よび内管からなる管体、3・・・コアガス供給源、31
・・・管路、4・・・真空排気装置、5・・・蓋部材、
C・・・高周波誘導コイル、GI・・・コアガス、ch
・・・チャンバー、P・・・高温プラズマファイヤ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)管体の所定領域外周に巻回した高周波誘導コイルか
ら発生する高周波エネルギーを管体内へ注入されるコア
ガスに付与して高温プラズマファイヤを得るプラズマト
ーチを着火するに際し、最初に管体内を所定の減圧状態
として付与される高周波エネルギーによりグロー放電を
発生せしめ、ついで管体内へコアガスを序々に注入して
上記グロー放電を高温プラズマファイヤに変換するよう
にしたことを特徴とするプラズマトーチの着火方法。 2)一方端を閉端面とし他方端をチャンバー内に開口す
る開端面とした管体の所定領域外周に巻回した高周波誘
導コイルから発生する高周波エネルギーを管体内へ注入
されるコアガスに付与して高温プラズマファイヤを得る
プラズマトーチにおいて、上記管体内に管路を接続する
真空排気装置を設けるとともに、管体の開端面に当接し
てこれを閉成可能な蓋部材を常時常圧を維持するチャン
バー内に設け、当該蓋部材がチャンバー内と管体内との
圧力差によつて開端面に吸着またはこれから解離可能に
構成し、着火時にはコアガスの注入が停止されている管
体の開端面に蓋部材を当接のうえ真空排気装置を駆動さ
せて所定減圧状態となつた管体内に高周波エネルギーに
よつてグロー放電を発生せしめ、ついで管体内へコアガ
スを序々に注入して上記グロー放電を高温プラズマファ
イヤに変換し、同時に常圧に近づいた管体の開端面から
蓋部材が自重により解離するようにしたことを特徴とす
るプラズマトーチの着火方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10442084A JPS6168900A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | プラズマト−チの着火方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10442084A JPS6168900A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | プラズマト−チの着火方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168900A true JPS6168900A (ja) | 1986-04-09 |
| JPH0510800B2 JPH0510800B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=14380198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10442084A Granted JPS6168900A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | プラズマト−チの着火方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168900A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02260399A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Fuji Denpa Koki Kk | 高気圧プラズマアーク発生方法 |
| JPH0523496U (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-26 | 株式会社三社電機製作所 | 減圧用インダクシヨンプラズマトーチ |
| US9583313B2 (en) | 2013-08-20 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
| US10147585B2 (en) | 2011-10-27 | 2018-12-04 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP10442084A patent/JPS6168900A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02260399A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Fuji Denpa Koki Kk | 高気圧プラズマアーク発生方法 |
| JPH0523496U (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-26 | 株式会社三社電機製作所 | 減圧用インダクシヨンプラズマトーチ |
| US10147585B2 (en) | 2011-10-27 | 2018-12-04 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
| US10229814B2 (en) | 2011-10-27 | 2019-03-12 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
| US9583313B2 (en) | 2013-08-20 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0510800B2 (ja) | 1993-02-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |