JPS617026U - 電子ビ−ム描画装置用カセツト - Google Patents

電子ビ−ム描画装置用カセツト

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Publication number
JPS617026U
JPS617026U JP9058984U JP9058984U JPS617026U JP S617026 U JPS617026 U JP S617026U JP 9058984 U JP9058984 U JP 9058984U JP 9058984 U JP9058984 U JP 9058984U JP S617026 U JPS617026 U JP S617026U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
electron beam
beam lithography
lithography equipment
mask
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Pending
Application number
JP9058984U
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English (en)
Inventor
昭 岩瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP9058984U priority Critical patent/JPS617026U/ja
Publication of JPS617026U publication Critical patent/JPS617026U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のカセットの一例を示す平面図、第２図は
第１図の２−２線断面図、第３図および第４図は本考案
によるカセットの一実施例のマスク固定時と解放時にお
ける断面図である。 １６・・・基準片、１７・・・マスク或いはウェハ、２
１・・・カセット、２２・・・カセット本体、２３・・
・底部、２４・・・ベローズ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マスク或いはウエハの下面とカセットのカセット本体底
    部との間に気体或いは気体と小量の液体との混合体を封
    入したべローズを設置し、該べ口−ズの長さを前記カセ
    ットが大気圧中にあるときは前記マスク等の上面と前記
    カセット本体に取付けた基準片との間に隙間を生じさせ
    、真空中にあるときには伸長して前記マスク等を前記基
    準片に押圧、固定するようにした電子ビーム描画装置用
    カセット。
JP9058984U 1984-06-18 1984-06-18 電子ビ−ム描画装置用カセツト Pending JPS617026U (ja)

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JPS617026U true JPS617026U (ja) 1986-01-16

Family

ID=30645718

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5454580A (en) * 1977-10-11 1979-04-28 Hitachi Ltd Cassette chucking device in electron beam lithography apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5454580A (en) * 1977-10-11 1979-04-28 Hitachi Ltd Cassette chucking device in electron beam lithography apparatus

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