JPS6171820A - 気体透過膜 - Google Patents
気体透過膜Info
- Publication number
- JPS6171820A JPS6171820A JP59192004A JP19200484A JPS6171820A JP S6171820 A JPS6171820 A JP S6171820A JP 59192004 A JP59192004 A JP 59192004A JP 19200484 A JP19200484 A JP 19200484A JP S6171820 A JPS6171820 A JP S6171820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- polymer
- permeable membrane
- gas permeable
- substituted acetylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0083—Thermal after-treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/44—Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in a single one of groups B01D71/26-B01D71/42
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は混合気体から特定の気体を分離濃縮するのに用
い、安定して愛れた気体選択性と気体透過性?発揮する
気体透過膜に関するものである。
い、安定して愛れた気体選択性と気体透過性?発揮する
気体透過膜に関するものである。
従来例の溝底とその問題点
高分子膜を用いて混合気体から特定の気体を分ma縮す
る方法については、近年数多くの提案がなされてお9、
工業の生産技術としてだけでなく各種化学プロセス、資
源の再利用、医療機器等と広範囲にわた1て応用され、
実用化されている。
る方法については、近年数多くの提案がなされてお9、
工業の生産技術としてだけでなく各種化学プロセス、資
源の再利用、医療機器等と広範囲にわた1て応用され、
実用化されている。
このような気体透過膜に要求される性能としては気体の
選択率が高いこと、透過性が良いこと、及び長期間の運
用に際して安定であることなどがあげられる。しかしな
がら酸素透過膜を例にとってみると、従来!1(材料と
して知られている高分子には、酸素/窒素の選択率aが
高いものとしてポリカーボネート、ポリキシレンオキサ
イド、ポリ・4eメチルペンテン−1(aW3.5〜5
)等があるが、酸素に対する透過係数は小さく P02
=1o−’〜1o CC*cm/adK*cmHq程
度しカナイ。−方、透過性の良いものとして天然ゴム、
ポリブタシェフ等の合成ゴム、ポリオレフィン、シリコ
−yゴム(F =2x10−9〜6x10−811.
C・cm/c、1玄・cmHg)等があるが、これらの
高分子は選択率σが1.9〜2.0と低く、空気を分離
した場合には、23〜3o%程度にしか酸素濃度を上げ
ることができない。このように気体の選択性と透過性は
互いに相反する関係にあり、両者を同時に改善するべく
、例えばaの高い高分子とF の大きい高分子との共重
合等の努力がなされているが、再現性や薄膜化とい−た
点に問題を残している。また単独で高選択率、高透過性
を追ったものとしてハホリターシャリープチルアセチレ
ン(PTBA)。
選択率が高いこと、透過性が良いこと、及び長期間の運
用に際して安定であることなどがあげられる。しかしな
がら酸素透過膜を例にとってみると、従来!1(材料と
して知られている高分子には、酸素/窒素の選択率aが
高いものとしてポリカーボネート、ポリキシレンオキサ
イド、ポリ・4eメチルペンテン−1(aW3.5〜5
)等があるが、酸素に対する透過係数は小さく P02
=1o−’〜1o CC*cm/adK*cmHq程
度しカナイ。−方、透過性の良いものとして天然ゴム、
ポリブタシェフ等の合成ゴム、ポリオレフィン、シリコ
−yゴム(F =2x10−9〜6x10−811.
C・cm/c、1玄・cmHg)等があるが、これらの
高分子は選択率σが1.9〜2.0と低く、空気を分離
した場合には、23〜3o%程度にしか酸素濃度を上げ
ることができない。このように気体の選択性と透過性は
互いに相反する関係にあり、両者を同時に改善するべく
、例えばaの高い高分子とF の大きい高分子との共重
合等の努力がなされているが、再現性や薄膜化とい−た
点に問題を残している。また単独で高選択率、高透過性
を追ったものとしてハホリターシャリープチルアセチレ
ン(PTBA)。
ポリトリメチルシリルプロピン(PMSP ) が昭和
68年の高分子学会で報告されてお沙、PTBAはα中
3.9.Po2中9X10 CC@Crn/Cd ”
渡* CrnHqPMSPはa:1.7.P #4
x10−’CG・cm/cnt・気・Cm1−19とい
う特性が知られている。しかじながら、本発明者らの実
験によれば、上記PMS Pの気体透過特性は不安定で
、多孔質ポリプロピレン(ジュラガード2400 、ポ
リプラスチック社)にPMS Pを含浸させ、嘆厚約1
0 l1mの固体膜を作製し、50 C前後の空気中に
放置したところ、模の酸素透過流量は、初期状態では9
.7X10−’cc 7 sec −C#7あったもの
が、130分後には6.7×1O−3(:、C/東・洲
と約3割減少してしま−た。また、PMSP膜は、上記
多孔質ポリプロピレン支持体との接着性に劣るので、予
めポリジメチルシロキサン系重合体を上記支持体に下塗
りし、その上に水面展開法によって作製したPMSP4
膜を支持させ、これを30 (:mx 3 Q cmの
モジュールに組み、室温で放置したところ、初期状、態
では減圧度−500wHgで気体透過流量1.0Q/m
in 、酸素濃度31%あったものが、1000時間後
には一520mmHqで0.5Q/min 、60%に
変化してしまった。気体透過膜には先述のように長期運
用に際して特性が安定しているということが要求され、
他の吸・脱層式やボンベ利用の方法と異なり、連続使用
が可能であるという長所金入きく生かす為にも、模の気
体透過特性を安定させるということが重要な課題であっ
た。
68年の高分子学会で報告されてお沙、PTBAはα中
3.9.Po2中9X10 CC@Crn/Cd ”
渡* CrnHqPMSPはa:1.7.P #4
x10−’CG・cm/cnt・気・Cm1−19とい
う特性が知られている。しかじながら、本発明者らの実
験によれば、上記PMS Pの気体透過特性は不安定で
、多孔質ポリプロピレン(ジュラガード2400 、ポ
リプラスチック社)にPMS Pを含浸させ、嘆厚約1
0 l1mの固体膜を作製し、50 C前後の空気中に
放置したところ、模の酸素透過流量は、初期状態では9
.7X10−’cc 7 sec −C#7あったもの
が、130分後には6.7×1O−3(:、C/東・洲
と約3割減少してしま−た。また、PMSP膜は、上記
多孔質ポリプロピレン支持体との接着性に劣るので、予
めポリジメチルシロキサン系重合体を上記支持体に下塗
りし、その上に水面展開法によって作製したPMSP4
膜を支持させ、これを30 (:mx 3 Q cmの
モジュールに組み、室温で放置したところ、初期状、態
では減圧度−500wHgで気体透過流量1.0Q/m
in 、酸素濃度31%あったものが、1000時間後
には一520mmHqで0.5Q/min 、60%に
変化してしまった。気体透過膜には先述のように長期運
用に際して特性が安定しているということが要求され、
他の吸・脱層式やボンベ利用の方法と異なり、連続使用
が可能であるという長所金入きく生かす為にも、模の気
体透過特性を安定させるということが重要な課題であっ
た。
発明の目的
本発明は、以上のような従来の欠点を解消するためにな
されたもので、気体選択性及び気体透過 ・性に憂れ、
かつ長期間上記特性を安定に維持できる、真に実用に適
した高性能の気体透過膜を提供するものである。
されたもので、気体選択性及び気体透過 ・性に憂れ、
かつ長期間上記特性を安定に維持できる、真に実用に適
した高性能の気体透過膜を提供するものである。
発明の構成
本発明による気体透過膜は、−置換アセチレンポリマー
からなる膜を少くとも一層備え、上記置換アセチレンポ
リマーが1 ran Hg以下の真空中で46C以上の
温度で加熱処理したものである。
からなる膜を少くとも一層備え、上記置換アセチレンポ
リマーが1 ran Hg以下の真空中で46C以上の
温度で加熱処理したものである。
本発明者らは、置換アセチレンポリマーが、従来の透過
膜材料に比べ酸素透過特性が10倍以上も大きいことに
注目し、この特性を安定したものにするべく検討1ft
:重ねた結果、上記置換アセチレンポリマーを真空中で
加熱処理すれば若干気体透過係数が下がるものの、選択
性が向上し、以後の特性劣下が防げることを見い出した
。この効果は材料高分子を膜状、特に薄膜にした後に処
理した場合に著しく速やかに現れる。また常圧下では加
熱処理効果の発現が遅いため、減圧状態で、更に詳しく
は1 w Hg以下の真空中で行うことが好ましい。加
熱温度は45C以上が処理時間を短線することかでき、
好ましくは、支持体と変形・変質させない範囲でなるべ
く高温である方が良い。
膜材料に比べ酸素透過特性が10倍以上も大きいことに
注目し、この特性を安定したものにするべく検討1ft
:重ねた結果、上記置換アセチレンポリマーを真空中で
加熱処理すれば若干気体透過係数が下がるものの、選択
性が向上し、以後の特性劣下が防げることを見い出した
。この効果は材料高分子を膜状、特に薄膜にした後に処
理した場合に著しく速やかに現れる。また常圧下では加
熱処理効果の発現が遅いため、減圧状態で、更に詳しく
は1 w Hg以下の真空中で行うことが好ましい。加
熱温度は45C以上が処理時間を短線することかでき、
好ましくは、支持体と変形・変質させない範囲でなるべ
く高温である方が良い。
本発明の置換アセチレンポリマーとしては、一般式
(但し、R1はアルキル基または・・ロゲン化アルキル
基またはフェニル基、R2,R3,R4はアルキル基か
らなる)で表わされ、平均分子量が1万〜200万であ
るものが好適である。
基またはフェニル基、R2,R3,R4はアルキル基か
らなる)で表わされ、平均分子量が1万〜200万であ
るものが好適である。
実砲例の説明
以下本発明の実砲例について説明する。
く実施例1〉
置換アセチレンポリマーとしてポリトリメチルンリルプ
ロピン(PMSP’)’i用い、これ全直径6cm 、
厚さ0.5咽の円板に成型、5x10 rranHq
の減圧下で5時間75Cに維持した後室温まで自然冷却
した。この結果上記PMSPの酸素透過係数は始めのp
。2中8.0X10 CC@ cm/ci−w・cm
Hqから2.4X10 C,G−cm/cr!・Se
c・cmHqに下が−たが、酸素/窒素選択率aは1.
7から3.0に向した。よく知られている材料ポリジノ
チルシロキサン系重合体はF 中6X10−8C(ニー
cml crd ・渡・cmHg 、 ti :2.O
であるから、本実捲例が透過性では4倍選択率では1.
5倍も高い性能が得られる。
ロピン(PMSP’)’i用い、これ全直径6cm 、
厚さ0.5咽の円板に成型、5x10 rranHq
の減圧下で5時間75Cに維持した後室温まで自然冷却
した。この結果上記PMSPの酸素透過係数は始めのp
。2中8.0X10 CC@ cm/ci−w・cm
Hqから2.4X10 C,G−cm/cr!・Se
c・cmHqに下が−たが、酸素/窒素選択率aは1.
7から3.0に向した。よく知られている材料ポリジノ
チルシロキサン系重合体はF 中6X10−8C(ニー
cml crd ・渡・cmHg 、 ti :2.O
であるから、本実捲例が透過性では4倍選択率では1.
5倍も高い性能が得られる。
また上記真空加熱処理により、以後の気体透過特性は長
時間放置しても安定している。なお本実捲例では75C
で6時間処理したが、これより低温でも良く例えば65
Cでは9時間以上加熱すれば同様の効果を得ることかで
さる。また、PMSP以外に、置換基の異なる類似講造
をもつポリマーにも同様の効果が認められる。
時間放置しても安定している。なお本実捲例では75C
で6時間処理したが、これより低温でも良く例えば65
Cでは9時間以上加熱すれば同様の効果を得ることかで
さる。また、PMSP以外に、置換基の異なる類似講造
をもつポリマーにも同様の効果が認められる。
〈実施例2〉
置換アセチレンポリマーとしてポリターンヤリ−ブチル
アセチレノ(PTBA)’に用い、実施例1と同じ条件
で真空加熱処理した。この結果上記PTBAのre素透
過係数は始めのP −=9x1o−9CCa cm
/ cnt −sec ・cm Hqから2.7 X
1O−9CGφcm/cnl −cu −crr(Hg
に下が−Iたが、aは3.8から4.5にまで向上した
。これは未処理のポリキ/レンオキサイドのPo2王2
.6×100C・cm/cM11宴命cmHq、αヶ4
.2に比較しても木実抱例が唆れた特性をもっているこ
とがわかる。
アセチレノ(PTBA)’に用い、実施例1と同じ条件
で真空加熱処理した。この結果上記PTBAのre素透
過係数は始めのP −=9x1o−9CCa cm
/ cnt −sec ・cm Hqから2.7 X
1O−9CGφcm/cnl −cu −crr(Hg
に下が−Iたが、aは3.8から4.5にまで向上した
。これは未処理のポリキ/レンオキサイドのPo2王2
.6×100C・cm/cM11宴命cmHq、αヶ4
.2に比較しても木実抱例が唆れた特性をもっているこ
とがわかる。
く実施例3〉
置換アセチレンポリマーとしてPlvrSP k用、こ
れを2wt%ベンゼン溶液にし、水面に展開して薄膜(
厚さ約0.1μm)を作製する。次に多孔質ポリプロピ
レン支持体の表面にポリオルガノシロキサン系重合体を
約0.1μmの厚さに下塗りし、この上に上記PMSP
博dを接層、4 X 10−”馴Hqに減圧した状態で
soCで2時間加熱処理した。
れを2wt%ベンゼン溶液にし、水面に展開して薄膜(
厚さ約0.1μm)を作製する。次に多孔質ポリプロピ
レン支持体の表面にポリオルガノシロキサン系重合体を
約0.1μmの厚さに下塗りし、この上に上記PMSP
博dを接層、4 X 10−”馴Hqに減圧した状態で
soCで2時間加熱処理した。
これにより模の酸素透過流量は始めの6X10−’CC
/ crd −secから1.7 X 10−’ CC
/Cnl@secに変化し之が選択率は1.7から3.
0に向上した。
/ crd −secから1.7 X 10−’ CC
/Cnl@secに変化し之が選択率は1.7から3.
0に向上した。
以上は代表的なものについて示したが本発明の加熱処理
条件としては16Hg以下の真空中で加熱温度としては
45C以上の場合に良い効果が得られた。
条件としては16Hg以下の真空中で加熱温度としては
45C以上の場合に良い効果が得られた。
発明の効果
以上要するに本発明は置換アセチレンポリマーからなる
膜を少くとも一層備え、上記置換アセチレンポリマーが
、1 mmHg以下の真空中で45C以上の温度で加熱
処理したものであることを特徴とする気体透過膜である
ため、従来の気体透過膜に比べ気体選択性及び気体透過
性に唆れ、かつ長期間上記特性を安定に維持できる真に
実用に適したものである。
膜を少くとも一層備え、上記置換アセチレンポリマーが
、1 mmHg以下の真空中で45C以上の温度で加熱
処理したものであることを特徴とする気体透過膜である
ため、従来の気体透過膜に比べ気体選択性及び気体透過
性に唆れ、かつ長期間上記特性を安定に維持できる真に
実用に適したものである。
Claims (3)
- (1)置換アセチレンポリマーからなる膜を少くとも一
層備え、上記置換アセチレンポリマーが、1mmHg以
下の真空中で45℃以上の温度で加熱処理したものであ
ることを特徴とする気体透過膜。 - (2)置換アセチレンポリマーからなる膜が、成膜した
後に真空中で加熱処理したものである特許請求の範囲第
1項記載の気体透過膜。 - (3)置換アセチレンポリマーが、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R_1はアルキル基またはハロゲン化アルキル
基またはフェニル基、R_2、R_3、R_4はアルキ
ル基からなる。)で表わされ、平均分子量が1万〜20
0万である特許請求の範囲第1項記載の気体透過膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59192004A JPS6171820A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 気体透過膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59192004A JPS6171820A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 気体透過膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6171820A true JPS6171820A (ja) | 1986-04-12 |
Family
ID=16283999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59192004A Pending JPS6171820A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 気体透過膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6171820A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227022A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-05 | Teijin Ltd | 膜安定化法 |
| US4859215A (en) * | 1988-05-02 | 1989-08-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Polymeric membrane for gas separation |
| US5501722A (en) * | 1992-11-04 | 1996-03-26 | Membrane Technology And Research, Inc. | Natural gas treatment process using PTMSP membrane |
| JP2003056860A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Sanyo Electric Co Ltd | 空気調和装置 |
-
1984
- 1984-09-13 JP JP59192004A patent/JPS6171820A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227022A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-05 | Teijin Ltd | 膜安定化法 |
| US4859215A (en) * | 1988-05-02 | 1989-08-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Polymeric membrane for gas separation |
| US5501722A (en) * | 1992-11-04 | 1996-03-26 | Membrane Technology And Research, Inc. | Natural gas treatment process using PTMSP membrane |
| JP2003056860A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Sanyo Electric Co Ltd | 空気調和装置 |
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