JPS6177233A - 陰極線管の製造方法 - Google Patents
陰極線管の製造方法Info
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- JPS6177233A JPS6177233A JP59198237A JP19823784A JPS6177233A JP S6177233 A JPS6177233 A JP S6177233A JP 59198237 A JP59198237 A JP 59198237A JP 19823784 A JP19823784 A JP 19823784A JP S6177233 A JPS6177233 A JP S6177233A
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- JP
- Japan
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- vacuum container
- electron gun
- hydrogen gas
- ray tube
- electron guns
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/44—Factory adjustment of completed discharge tubes or lamps to comply with desired tolerances
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、管内放電を抑制するだめの陰極線管の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
[従来の技術]
第5図は一般的な陰極線管の構造を示す概略図である。
図において、(1)は低圧電極(2a) 、 (2h)
、 (2c)、収束電極(3)、陽極(4)から構成
される電子銃、(5)はこの電子銃(1)を収納し、内
部が高真空に保たれたガラスバルブ、(8)はこのガラ
スバルブ(5)の内面に塗装された導電膜、(7)はこ
の導電膜(8)に接続された高電圧電源、(8)は上記
低圧電極(2a) 、 (2b) 、 (2c)および
収束電極(3)に電圧を供給するための制御電源、(9
)は高電界の電極部分からの電界放出電子、(11)は
陰極線管本体を示す6 つぎに動作について説明する。低圧電極(2a) 。
、 (2c)、収束電極(3)、陽極(4)から構成
される電子銃、(5)はこの電子銃(1)を収納し、内
部が高真空に保たれたガラスバルブ、(8)はこのガラ
スバルブ(5)の内面に塗装された導電膜、(7)はこ
の導電膜(8)に接続された高電圧電源、(8)は上記
低圧電極(2a) 、 (2b) 、 (2c)および
収束電極(3)に電圧を供給するための制御電源、(9
)は高電界の電極部分からの電界放出電子、(11)は
陰極線管本体を示す6 つぎに動作について説明する。低圧電極(2a) 。
(2b) 、 (2c)の部分において電子ビームを発
生し、その強さを制御する。収束電極(3)にはある一
定の正極性電圧を、また、陽極(4)には正極性の高電
圧をそれぞれ与えて電子ビームを収束させる。
生し、その強さを制御する。収束電極(3)にはある一
定の正極性電圧を、また、陽極(4)には正極性の高電
圧をそれぞれ与えて電子ビームを収束させる。
このとき、負極性の高電界となる収束電極(3)および
低圧電極(2c)の端部からは、第5図に示すような電
界放出電子(8)が発生する。この電界放出電子−(8
)が多くなると、管内放電を誘発する。この管内放電を
抑制するためには、電界放出電子(9)の発生を抑える
ことが必要である。電界放出電子(8)は電極表面」二
の微小突起や不純物などから発生しやすいと考えられて
いる。
低圧電極(2c)の端部からは、第5図に示すような電
界放出電子(8)が発生する。この電界放出電子−(8
)が多くなると、管内放電を誘発する。この管内放電を
抑制するためには、電界放出電子(9)の発生を抑える
ことが必要である。電界放出電子(8)は電極表面」二
の微小突起や不純物などから発生しやすいと考えられて
いる。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、従来の陰極線管の製造方法は第4図に示すよ
うに、電子銃を組立てるT程A、組立てた電子銃を陰極
線管のガラスバルブ内に装着する工程D、ガラスバルブ
の真空排気を行なうT程E、高電圧を印加してシーズニ
ングを行なう工程F、および動作の調整、確認を行なう
工程Gとからなるが、に程Aにおいて組1“lてた電子
銃を、工程りにおいてそのままの状態で陰極線管のガラ
スバルブ内に装着していたため、電子銃の電極表面を十
分に清浄化することができず、管内放電を抑制すること
が困難であった。
うに、電子銃を組立てるT程A、組立てた電子銃を陰極
線管のガラスバルブ内に装着する工程D、ガラスバルブ
の真空排気を行なうT程E、高電圧を印加してシーズニ
ングを行なう工程F、および動作の調整、確認を行なう
工程Gとからなるが、に程Aにおいて組1“lてた電子
銃を、工程りにおいてそのままの状態で陰極線管のガラ
スバルブ内に装着していたため、電子銃の電極表面を十
分に清浄化することができず、管内放電を抑制すること
が困難であった。
この発明はに記従来の欠点を解消するためになされたも
ので、電界放出電子の発生を少なくして管内放電を抑制
した陰極線管の製造方法を提供することを目的としてい
る。
ので、電界放出電子の発生を少なくして管内放電を抑制
した陰極線管の製造方法を提供することを目的としてい
る。
[問題点を解決するための手段]
この発明は、ガラスバルブに封入する前の電子銃を真空
容器内に設定して真空排気を行なった後、上記真空容器
内に水素ガスを導入し、この水素ガス雰囲気中において
上記電子銃の周囲に放電プラズマを生成させることによ
り電子銃の電極表面を処理し、その後電子銃を上記真空
容器から取出してガラスバルブ内に封入することを特徴
とする。
容器内に設定して真空排気を行なった後、上記真空容器
内に水素ガスを導入し、この水素ガス雰囲気中において
上記電子銃の周囲に放電プラズマを生成させることによ
り電子銃の電極表面を処理し、その後電子銃を上記真空
容器から取出してガラスバルブ内に封入することを特徴
とする。
[作用]
この発明においては、電子銃の周囲に放電プラズマを生
成させることにより、励起またはイオン化された水素分
子が電子銃の電極に衝突し、このときの運動エネルギに
よって電極表面」二の不純物を追い出し、また、電極表
面!−の酸化層と還元反応を起こして酸化層を除去する
ので、電界放出電子の発生原因となる不純物や酸化層が
減少する。
成させることにより、励起またはイオン化された水素分
子が電子銃の電極に衝突し、このときの運動エネルギに
よって電極表面」二の不純物を追い出し、また、電極表
面!−の酸化層と還元反応を起こして酸化層を除去する
ので、電界放出電子の発生原因となる不純物や酸化層が
減少する。
[実施例1
以ド、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。
第1図はこの発明による陰極線管の製造工程の一例を示
している。第4図の従来のものと比べると、電子銃組立
て後、電子銃を真空容器内へ設定して真空排気を行なう
工程Bと、排気後に水素ガスを封入して放電を行ない、
電子銃を取出すT程Cとが新たに付加されている。
している。第4図の従来のものと比べると、電子銃組立
て後、電子銃を真空容器内へ設定して真空排気を行なう
工程Bと、排気後に水素ガスを封入して放電を行ない、
電子銃を取出すT程Cとが新たに付加されている。
第2図は放電を行なう工程の一例を示している。図にお
いて、(21)は電子銃(1)を取付ける真空容器、(
22)は真空容器(21)内に設定された電子銃(1)
の陽極に高電圧を印加するための端子、(23)は高圧
電源、(24)は真空容器(21)を排気するための真
空排気装置、(25)は真空排気のための開閉弁、 (
26)は水素ガスボンベ、 (27)は水素ガス導入の
ための開閉弁である。
いて、(21)は電子銃(1)を取付ける真空容器、(
22)は真空容器(21)内に設定された電子銃(1)
の陽極に高電圧を印加するための端子、(23)は高圧
電源、(24)は真空容器(21)を排気するための真
空排気装置、(25)は真空排気のための開閉弁、 (
26)は水素ガスボンベ、 (27)は水素ガス導入の
ための開閉弁である。
つぎに電極表面の処理方法について説明する。
組立てた電子銃(1)を真空容器(21)内に設定し、
所定の結線を行なった後、開閉弁(25)を操作して真
空排気装置(24)により真空容器(21)の内部を排
気する。真空容器(21)内が高真空になった時点で、
開閉弁(27)を開き、真空容器(21)の内部に水素
ガスボンベ(26)から水素ガスを導入する。そして、
その後高電圧を電子銃(1)の陽極(4)に印加する。
所定の結線を行なった後、開閉弁(25)を操作して真
空排気装置(24)により真空容器(21)の内部を排
気する。真空容器(21)内が高真空になった時点で、
開閉弁(27)を開き、真空容器(21)の内部に水素
ガスボンベ(26)から水素ガスを導入する。そして、
その後高電圧を電子銃(1)の陽極(4)に印加する。
印加する電圧は直流、交流、パルスのいずれであっても
よい。
よい。
電子銃(1)に高電圧が印加されると、水素ガスを介し
て陽極(4)と収束電極(3)、および陽極(4)と低
圧電極(2a) 、 (2b) 、 (2c)との間で
放電が発生し、放電プラズマが生じる。水素ガス中の放
電プラズマでは、水素分子が励起またはイオン化され、
電子銃(1)の電極に衝突する。このときの運動エネル
ギによって電極表面上の不純物を追い出し、また、電極
表面上の酸化層と還元反応を起こして酸化層を除去し、
電極表面を清浄化する。これにより電界放出電子(9)
の発生原因となる不純物や酸化層が減少し、電界放出電
子(9)の発生を抑制することができるので、管内放電
の少ない信頼性の高い陰極線管を製造することができる
。
て陽極(4)と収束電極(3)、および陽極(4)と低
圧電極(2a) 、 (2b) 、 (2c)との間で
放電が発生し、放電プラズマが生じる。水素ガス中の放
電プラズマでは、水素分子が励起またはイオン化され、
電子銃(1)の電極に衝突する。このときの運動エネル
ギによって電極表面上の不純物を追い出し、また、電極
表面上の酸化層と還元反応を起こして酸化層を除去し、
電極表面を清浄化する。これにより電界放出電子(9)
の発生原因となる不純物や酸化層が減少し、電界放出電
子(9)の発生を抑制することができるので、管内放電
の少ない信頼性の高い陰極線管を製造することができる
。
なお、上記のようにして処理された電子銃(1)は、真
空容器(21)から取出Xれた後、従来と同様にしてガ
ラスバルブ内に封入される。
空容器(21)から取出Xれた後、従来と同様にしてガ
ラスバルブ内に封入される。
−に記実施例においては、高電圧を陽極(0の部分に印
加したが、陽極(4)を接地し、低圧側のピン端子を通
して収束電極(3)か低圧電極(2a) 、 (2b)
、 (2c)に高電圧を印加してもよい。
加したが、陽極(4)を接地し、低圧側のピン端子を通
して収束電極(3)か低圧電極(2a) 、 (2b)
、 (2c)に高電圧を印加してもよい。
第3図はこの発明の他の実施例を示している。
この実施例では、電子銃(1)に近接してコイル(28
)を配設し、このコイル(28)に高周波電源(28)
から高周波電流を供給して電極の周囲で放電プラズマを
発生させるようにしている。
)を配設し、このコイル(28)に高周波電源(28)
から高周波電流を供給して電極の周囲で放電プラズマを
発生させるようにしている。
第3図の場合には電子銃(1)の部分に高周波磁界を印
加することになるが、これに代えて、たとえば平行平板
電極による高周波電界や、進行波管による高周波電磁界
を印加しても同様な放電プラズマを発生させることがで
きる。
加することになるが、これに代えて、たとえば平行平板
電極による高周波電界や、進行波管による高周波電磁界
を印加しても同様な放電プラズマを発生させることがで
きる。
[発明の効果]
以りのように、この発明によれば、電子銃の電極表面は
放電プラズマにより清浄化され、電界放出電子の発生原
因となる不純物や酸化層が減少する結果、管内放電の少
ない信頼性の高い陰極線管の製造方法を提供することが
できる。
放電プラズマにより清浄化され、電界放出電子の発生原
因となる不純物や酸化層が減少する結果、管内放電の少
ない信頼性の高い陰極線管の製造方法を提供することが
できる。
第1図はこの発明による陰極線管の製造工程を示す図、
第2図はこの発明における放電の工程を示す図、第3図
は放電を行なう工程の他の例を示す図、第4図は従来の
陰極線管の製造工程を示す図、第5図は一般的な陰極線
管の構造を示す概略断面図である。 (1)・・・電子銃、(21)・・・真空容器、(23
)・・・高圧電源、(24)・・・真空排気装置、(2
B)・・・水素ガスボンベ、(28)・・・コイル、(
28)・・・高周波電源。 なお、図中同一符号は、同一または相当部分を示す。
第2図はこの発明における放電の工程を示す図、第3図
は放電を行なう工程の他の例を示す図、第4図は従来の
陰極線管の製造工程を示す図、第5図は一般的な陰極線
管の構造を示す概略断面図である。 (1)・・・電子銃、(21)・・・真空容器、(23
)・・・高圧電源、(24)・・・真空排気装置、(2
B)・・・水素ガスボンベ、(28)・・・コイル、(
28)・・・高周波電源。 なお、図中同一符号は、同一または相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)ガラスバルブに封入する前の電子銃を真空容器内
に設定して真空排気を行なつた後、上記真空容器内に水
素ガスを導入し、この水素ガス雰囲気中において上記電
子銃の周囲に放電プラズマを生成させることにより電子
銃の電極表面を処理し、その後電子銃を上記真空容器か
ら取出してガラスバルブ内に封入することを特徴とする
陰極線管の製造方法。 - (2)電子銃の陽極または収束電極または低圧電極に高
電圧を印加することにより放電プラズマを生成させる特
許請求の範囲第1項記載の陰極線管の製造方法。 - (3)電子銃に高周波磁界または高周波電界を印加する
ことにより放電プラズマを生成させる特許請求の範囲第
1項記載の陰極線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198237A JPS6177233A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 陰極線管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198237A JPS6177233A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 陰極線管の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6177233A true JPS6177233A (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=16387781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59198237A Pending JPS6177233A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 陰極線管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6177233A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11213926A (ja) * | 1998-01-23 | 1999-08-06 | Toshiba Corp | 回転陽極型x線管の製造方法 |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP59198237A patent/JPS6177233A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11213926A (ja) * | 1998-01-23 | 1999-08-06 | Toshiba Corp | 回転陽極型x線管の製造方法 |
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