JPS6178128A - 半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ル - Google Patents
半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ルInfo
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- JPS6178128A JPS6178128A JP59199579A JP19957984A JPS6178128A JP S6178128 A JPS6178128 A JP S6178128A JP 59199579 A JP59199579 A JP 59199579A JP 19957984 A JP19957984 A JP 19957984A JP S6178128 A JPS6178128 A JP S6178128A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野〕
本発明は半導体装置およびその製造において用いるボン
ディングツールに関する。
ディングツールに関する。
半導体装置等の電子部品は種々の構造があるが、その一
つの構造とし、てリードフレームのタブと呼ばれる支持
板上にチップが固定(チップボンディング)され、この
チップの電極とタブの周辺に内端を臨ませるリードの内
端とがワイヤで接続(ワイヤボンディング)された構造
が知られている。
つの構造とし、てリードフレームのタブと呼ばれる支持
板上にチップが固定(チップボンディング)され、この
チップの電極とタブの周辺に内端を臨ませるリードの内
端とがワイヤで接続(ワイヤボンディング)された構造
が知られている。
前記ワイヤボンディングは、たとえば、株式会社プレス
ジャーナル発行「月刊Sem1condu−ctor
WorldJ 1982年11月号、昭和58年lO
月15日発行、P40〜P45にも記載されているよう
に、熱圧着、超音波ボンディング、サーモソニック(超
音波付加熱圧着)による方法が知られている。
ジャーナル発行「月刊Sem1condu−ctor
WorldJ 1982年11月号、昭和58年lO
月15日発行、P40〜P45にも記載されているよう
に、熱圧着、超音波ボンディング、サーモソニック(超
音波付加熱圧着)による方法が知られている。
そして、前記文献にも記載されているように、上記のよ
うなボンダ(ボンディング装置)にとっては、ボンダビ
リティおよび結線後のワイヤの形(ループ形状)が良い
ことが臨まれる。これは、半導体装置の信幀度向上およ
び製造歩留りの向上を図るための必須条件である。また
、同文献には、前記ループ形状の良否に対してボンディ
ングツール(たとえば、Fliaりが影響することも指
摘されている。
うなボンダ(ボンディング装置)にとっては、ボンダビ
リティおよび結線後のワイヤの形(ループ形状)が良い
ことが臨まれる。これは、半導体装置の信幀度向上およ
び製造歩留りの向上を図るための必須条件である。また
、同文献には、前記ループ形状の良否に対してボンディ
ングツール(たとえば、Fliaりが影響することも指
摘されている。
一方、ボンディングツール、特にワイヤボンディング用
のボンディングツールは、たとえば、江業調査会発行[
を子材料J 1981年8月号、昭和57年8月1日発
行、P68〜P70に記載されているように、ガラス、
セラミックガラス、超硬(WC,TaC)、セラミック
(アルミナ)。
のボンディングツールは、たとえば、江業調査会発行[
を子材料J 1981年8月号、昭和57年8月1日発
行、P68〜P70に記載されているように、ガラス、
セラミックガラス、超硬(WC,TaC)、セラミック
(アルミナ)。
ルビー(溶融アルミナ)等によって形成されているが、
より高いボンディング耐用回数が希求されている。 と
ころで、本願の検討により下記のことがあきらかとなっ
た。すなわち、バイブリフトICの組立におけるボンデ
ィングは、セラミック基板の主面に設けられた導体層は
スクリーン印刷等によって形成されるため、その導体層
の平坦度は必ずしも良好であるとは言えず、導体層への
ボンダビリティを常に良好に維持することは難しい。
より高いボンディング耐用回数が希求されている。 と
ころで、本願の検討により下記のことがあきらかとなっ
た。すなわち、バイブリフトICの組立におけるボンデ
ィングは、セラミック基板の主面に設けられた導体層は
スクリーン印刷等によって形成されるため、その導体層
の平坦度は必ずしも良好であるとは言えず、導体層への
ボンダビリティを常に良好に維持することは難しい。
また、ボンディング状況が一定となり難いことから、ボ
ンディングツールも摩耗し、易くなり、ボンディングツ
ールの寿命も短くなる傾向になり易く、ボンディングツ
ールの交換も多くなり、作業性の向上の妨げとなってい
る。特に、圧着と振動(illり付けも含む)動作によ
るサーモソニックボンディングの場合はボンディングツ
ールがより摩耗し易くなるため、ボンダビリティおよび
ループ形状を良好に維持できるボンディング回数が減少
し、ボンディングツールの寿命が短(なる0本発明は上
記にかんがみなされたものである。
ンディングツールも摩耗し、易くなり、ボンディングツ
ールの寿命も短くなる傾向になり易く、ボンディングツ
ールの交換も多くなり、作業性の向上の妨げとなってい
る。特に、圧着と振動(illり付けも含む)動作によ
るサーモソニックボンディングの場合はボンディングツ
ールがより摩耗し易くなるため、ボンダビリティおよび
ループ形状を良好に維持できるボンディング回数が減少
し、ボンディングツールの寿命が短(なる0本発明は上
記にかんがみなされたものである。
本発明の目的はボンディングの信顛度の高い半導体装置
を提供することにある。
を提供することにある。
本発明の他の目的はボンダビリティが良好にできるボン
ディングツールを提供することにある。
ディングツールを提供することにある。
本発明の他の目的は寿命が長くできるボンディングツー
ルを提供することにある。
ルを提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
〔発明の1既要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明にあっては、ワイヤを保持するキャピ
ラリの先端面にワイヤを案内するガイド孔に同心的にリ
ング状の溝を設け、ワイヤボンディング時にはこの溝内
にワイヤの一部が入り込むようにすることによって、ワ
イヤを確実に保持できるため、キャピラリからの超音波
振動のワイヤに対する伝達効率が高くなり、前記溝の内
周側および外周側の部分で良好な接着ができるようにな
ヮていることから、ボンダビリティ、が向上する。
ラリの先端面にワイヤを案内するガイド孔に同心的にリ
ング状の溝を設け、ワイヤボンディング時にはこの溝内
にワイヤの一部が入り込むようにすることによって、ワ
イヤを確実に保持できるため、キャピラリからの超音波
振動のワイヤに対する伝達効率が高くなり、前記溝の内
周側および外周側の部分で良好な接着ができるようにな
ヮていることから、ボンダビリティ、が向上する。
また、超音波振動の伝達効率が高くできることによって
、超音波出力(振幅)を小さくすることができ、ボンデ
ィングツールの長寿命化も達成できる。
、超音波出力(振幅)を小さくすることができ、ボンデ
ィングツールの長寿命化も達成できる。
(実施例〕
第1図は本発明の一実施例によるバイブリフトICの一
部を示す断面図、第2図は同じくワイヤが張られた状態
を示す部分的な平面図、第3図は同じ(ワイヤボンディ
ング状態を示すワイヤボンディング装置の概要を示す正
面図、第40は同じくキャピラリの先端部分を示す断面
図、第5図は同じくチップの電極にワイヤを接続する最
初の状態を示す断面図、第6図は同じくチップの電極に
ワイヤを接続した状態を示す断面図、第7図は同じく導
体層上にワイヤを接続した状態を示す断面図である。
部を示す断面図、第2図は同じくワイヤが張られた状態
を示す部分的な平面図、第3図は同じ(ワイヤボンディ
ング状態を示すワイヤボンディング装置の概要を示す正
面図、第40は同じくキャピラリの先端部分を示す断面
図、第5図は同じくチップの電極にワイヤを接続する最
初の状態を示す断面図、第6図は同じくチップの電極に
ワイヤを接続した状態を示す断面図、第7図は同じく導
体層上にワイヤを接続した状態を示す断面図である。
本発明の半導体装置は第1図および第2図の要部図面で
示すように、セラミック板lからなる配線基板2の主面
に固定されたチップ3の電極4と、導体層(リード)5
の内端とは、ワイヤ6で接続されている。前記チップ3
は配[5板2の主面にあらかじめ設けられた導体層7に
半田、銀ペースト等の接合材8によって固定されている
。なお、前記導体層(リード)5および導体層7はセラ
ミック板lの主面に印刷によって同時に形成される。
示すように、セラミック板lからなる配線基板2の主面
に固定されたチップ3の電極4と、導体層(リード)5
の内端とは、ワイヤ6で接続されている。前記チップ3
は配[5板2の主面にあらかじめ設けられた導体層7に
半田、銀ペースト等の接合材8によって固定されている
。なお、前記導体層(リード)5および導体層7はセラ
ミック板lの主面に印刷によって同時に形成される。
ところで、前記チップ3の電極4とリード5を結線する
ワイヤ6は金線からなり、かつ第4図で示されるような
特別の構造を有するキャピラリ9によって接続されてい
る。
ワイヤ6は金線からなり、かつ第4図で示されるような
特別の構造を有するキャピラリ9によって接続されてい
る。
キャピラリ9は中心に数十μmの直径のワイヤ6が挿入
されるガイド孔10を存している。また、キャピラリ9
の先端、すなわち、前記ワイヤ6を押し付け、振動によ
って擦り付ける押圧面11は平坦となってワイヤ6の押
し潰しが有効に行えるようになっているとともに、その
押圧面11には、前記ガイド孔10と同心円的に設けら
れたリング状の溝(冨み) 12が設けられている。前
記窪み12は直径が180〜200μmの押圧面11の
略中間に沿って設けられている。また、前記窪み12は
その幅が10μm前後、深さが15〜20μm程度とな
っている。これは、ワイヤ6の押し付は振動時に押圧部
分から外れたワイヤ6部分がこの窪み12部分に入るこ
とによって、ワイヤ6カキヤビラリ9により確実に保持
されるための寸法であり、かつ磨滅によって生じたワイ
ヤ屑が窪み12に溜まり難い寸法でもある。また、前記
キャピラリ9は一般に使用されているセラミック。
されるガイド孔10を存している。また、キャピラリ9
の先端、すなわち、前記ワイヤ6を押し付け、振動によ
って擦り付ける押圧面11は平坦となってワイヤ6の押
し潰しが有効に行えるようになっているとともに、その
押圧面11には、前記ガイド孔10と同心円的に設けら
れたリング状の溝(冨み) 12が設けられている。前
記窪み12は直径が180〜200μmの押圧面11の
略中間に沿って設けられている。また、前記窪み12は
その幅が10μm前後、深さが15〜20μm程度とな
っている。これは、ワイヤ6の押し付は振動時に押圧部
分から外れたワイヤ6部分がこの窪み12部分に入るこ
とによって、ワイヤ6カキヤビラリ9により確実に保持
されるための寸法であり、かつ磨滅によって生じたワイ
ヤ屑が窪み12に溜まり難い寸法でもある。また、前記
キャピラリ9は一般に使用されているセラミック。
ルビー等によって形成されていて、材質面からみてもボ
ンディング使用回数が長くなるように配慮されている。
ンディング使用回数が長くなるように配慮されている。
このようなキャピラリ9によれば、ボンディング部分は
2箇所でそれぞれ固定される。すなわち、ボンディング
は圧着と超音波振動とによるサーモソニックボンディン
グによることおよびワイヤ6の一部がキャピラリ9に直
接押圧されないでキャピラリ9の窪み12内に逃げるこ
とから、チップ3の電極4におけるボンディング部分で
は、第1図および第2図ならびに第4図に示されるよう
に、a、bなる幅のリング状の接合面によって接合され
る(第2図においてクロスハンチングが施された部分が
リング状接合部13となる。)。また、リード5側では
、第2図に示されるように、ワイヤ6はクロスハツチン
グで示された2条の接合部14で接合されている。なお
、キャピラリ9の窪み12に対応するワイヤ6部分は全
く接合されないわけではなく、前記リング状接合部13
や接合部14の接合強度よりは接合強度が小さいことを
意味するだけである。
2箇所でそれぞれ固定される。すなわち、ボンディング
は圧着と超音波振動とによるサーモソニックボンディン
グによることおよびワイヤ6の一部がキャピラリ9に直
接押圧されないでキャピラリ9の窪み12内に逃げるこ
とから、チップ3の電極4におけるボンディング部分で
は、第1図および第2図ならびに第4図に示されるよう
に、a、bなる幅のリング状の接合面によって接合され
る(第2図においてクロスハンチングが施された部分が
リング状接合部13となる。)。また、リード5側では
、第2図に示されるように、ワイヤ6はクロスハツチン
グで示された2条の接合部14で接合されている。なお
、キャピラリ9の窪み12に対応するワイヤ6部分は全
く接合されないわけではなく、前記リング状接合部13
や接合部14の接合強度よりは接合強度が小さいことを
意味するだけである。
ここで、サーモソニックポンディング装置についてPj
Llに説明する。サーモソニックボンディング装置は、
振動をワイヤ6に印可する必要があることから、方向性
がある。そこで、サーモソニックボンディング装置の本
体I5は、第3図に示されるように、XYテーブル16
(XY平行移動可能)上に支持されるとともに、昇降す
るようになっている。また、本体15からはアーム17
が延在し、その先端には第4図に示されるキャピラリ9
が取付けられている。キャピラリ9はアーム17の延び
る方向に振動(たとえば、1μm以下の振幅で超音波振
動する)する。特に、本発明のサーモソニックボンディ
ング装置は、キャピラリ9の窪み12の存在効果によっ
てワイヤ6が確実に保持され、ワイヤ6へのキャピラリ
9がらの超音波振動の伝達効率が高いことから、超音波
出力(振幅)を小さくすることができるため、キャピラ
リ9の寿命が長くなる。また、キャピラリ9の寿命の点
で言えば、キャピラリ9に設けられた窪み12の幅、深
さが適度の寸法となっていることがら、ワイヤ6の屑が
溜まり難く、常にキャピラリ9はワイヤ6を確実に保持
しながらワイヤボンディングができるため、キャピラリ
9の長寿命化が維持できると言える。
Llに説明する。サーモソニックボンディング装置は、
振動をワイヤ6に印可する必要があることから、方向性
がある。そこで、サーモソニックボンディング装置の本
体I5は、第3図に示されるように、XYテーブル16
(XY平行移動可能)上に支持されるとともに、昇降す
るようになっている。また、本体15からはアーム17
が延在し、その先端には第4図に示されるキャピラリ9
が取付けられている。キャピラリ9はアーム17の延び
る方向に振動(たとえば、1μm以下の振幅で超音波振
動する)する。特に、本発明のサーモソニックボンディ
ング装置は、キャピラリ9の窪み12の存在効果によっ
てワイヤ6が確実に保持され、ワイヤ6へのキャピラリ
9がらの超音波振動の伝達効率が高いことから、超音波
出力(振幅)を小さくすることができるため、キャピラ
リ9の寿命が長くなる。また、キャピラリ9の寿命の点
で言えば、キャピラリ9に設けられた窪み12の幅、深
さが適度の寸法となっていることがら、ワイヤ6の屑が
溜まり難く、常にキャピラリ9はワイヤ6を確実に保持
しながらワイヤボンディングができるため、キャピラリ
9の長寿命化が維持できると言える。
また、配線基板2等の被処理物をa置するテーブル18
は支軸19によって支持される。この結果、XYテーブ
ル16の平面のXY方向の移動操作によってキャピラリ
9は配線基板2の所望の位置に正確に移動することがで
きる。
は支軸19によって支持される。この結果、XYテーブ
ル16の平面のXY方向の移動操作によってキャピラリ
9は配線基板2の所望の位置に正確に移動することがで
きる。
つぎに、このようなサーモソニノクポンディング装置に
よるワイヤボンディングについて、第5図〜第7図を参
照しながら簡単に説明する。
よるワイヤボンディングについて、第5図〜第7図を参
照しながら簡単に説明する。
最初に、金からなるワイヤ6をガイド孔lO内に保持し
たキャピラリ9は、第5図に示されるように、キャピラ
リ9の先端から突出した部分が電気トーチによって加熱
され、金ボール20とされる。そして、このキャピラリ
9は第1ボンディング位置であるチップ3の所定の電極
4の真上に移動される。
たキャピラリ9は、第5図に示されるように、キャピラ
リ9の先端から突出した部分が電気トーチによって加熱
され、金ボール20とされる。そして、このキャピラリ
9は第1ボンディング位置であるチップ3の所定の電極
4の真上に移動される。
つぎに、第6図に示されるように、キャピラリ9は降下
して金ボール20を熱圧着および超音波振動によって押
し潰してワイヤ6を電極4に接続する。
して金ボール20を熱圧着および超音波振動によって押
し潰してワイヤ6を電極4に接続する。
金ポール20部分の電極4に対する接続が終了すると、
前記キャピラリ9は第7図の矢印に示されるように、上
昇、水平移動、降下と連続的に移動して、第2ボンディ
ング位置であるリード5上にワイヤ6の途中部分を熱圧
着しかつ超音波振動によって固定する。その後、キャピ
ラリ9は上昇しかつワイヤ6は図示しないクランパーに
よって引っ張られて第2ボンディング部分近傍で分断さ
れる。なお、キャピラリ9が第1ボンディング位置から
第2ボンディング位置に移動する際、キャピラリ9の押
圧面11が汚れていないことから、ガイド孔lOから繰
り出されるワイヤ6は良好に引き出されるため、ワイヤ
ループ形状は最も好ましい形状となり、不所望の部分に
垂れ下がって接触したりするようなことはない。
前記キャピラリ9は第7図の矢印に示されるように、上
昇、水平移動、降下と連続的に移動して、第2ボンディ
ング位置であるリード5上にワイヤ6の途中部分を熱圧
着しかつ超音波振動によって固定する。その後、キャピ
ラリ9は上昇しかつワイヤ6は図示しないクランパーに
よって引っ張られて第2ボンディング部分近傍で分断さ
れる。なお、キャピラリ9が第1ボンディング位置から
第2ボンディング位置に移動する際、キャピラリ9の押
圧面11が汚れていないことから、ガイド孔lOから繰
り出されるワイヤ6は良好に引き出されるため、ワイヤ
ループ形状は最も好ましい形状となり、不所望の部分に
垂れ下がって接触したりするようなことはない。
このようにして、順次必要箇所のワイヤボンディングが
行われる。
行われる。
+11本発明によれば、キャピラリ9の押圧面11に設
けられた窪み12の存在効果によって、キャピラリから
のワイヤに対する超音波振動の伝達効率が高(なるため
、ボンダビリティが向上し、ボンディングの信超度向上
が達成できるという効果が得られる。
けられた窪み12の存在効果によって、キャピラリから
のワイヤに対する超音波振動の伝達効率が高(なるため
、ボンダビリティが向上し、ボンディングの信超度向上
が達成できるという効果が得られる。
(2)上記+1)から、本発明によれば、超音波振動の
伝達効率が高くできることによって、超音波出力(振幅
)を小さくすることができ、ボンディングツールの長寿
命化が達成できるという効果が得られる。
伝達効率が高くできることによって、超音波出力(振幅
)を小さくすることができ、ボンディングツールの長寿
命化が達成できるという効果が得られる。
(3)上記(1)から、本発明によればボンディングの
歩留りが向上するという効果が得られる。
歩留りが向上するという効果が得られる。
(4)上記(1)より、本発明によれば、キャピラリ9
の押圧面に窪みがあることより、リード側でのボンディ
ングは2点ボンディングとなり、信頼度の高い半導体装
置が得られる。
の押圧面に窪みがあることより、リード側でのボンディ
ングは2点ボンディングとなり、信頼度の高い半導体装
置が得られる。
(5)上記+1)〜(4)により、本発明によればボン
ディングの信頼度が高い半導体装置をより低度に提供す
ることができるという相乗効果が得られる。
ディングの信頼度が高い半導体装置をより低度に提供す
ることができるという相乗効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基つき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、第8図に示す
ように、超音波ワイヤボンディング装置におけるボンデ
ィングツールであるウェッジ21に前記実施例同様に窪
み12を設ければ、第9図に示すように2状の接合部1
4が形成でき、前記実施例同様な効果が得られる。
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない、たとえば、第8図に示す
ように、超音波ワイヤボンディング装置におけるボンデ
ィングツールであるウェッジ21に前記実施例同様に窪
み12を設ければ、第9図に示すように2状の接合部1
4が形成でき、前記実施例同様な効果が得られる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるサーモソニックボン
ディング技術に通用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、たとえば、熱圧着技術など
に適用できる。
をその背景となった利用分野であるサーモソニックボン
ディング技術に通用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、たとえば、熱圧着技術など
に適用できる。
本発明は少な(とも接続には適用できる。
第1図は本発明の一実施例によるハイブリッドICの一
部を示す断面図、 第2図は同じくワイヤが張られた状態を示す部分的な平
面図、 第3図は同じくワイヤボンディング状態を示すワイヤボ
ンディング装置の概要を示す正面図、第4図は同じくキ
ャピラリの先端部分を示す断面図、 第5図は同じくチップの電極にワイヤを接続する最初の
状態を示す断面図、 第6図は同じくチア・プの電極にワイヤを接続した状態
を示す断面図、 第7図は同じく導体層上にワイヤを接続した状態を示す
断面図、 第8図は本発明の他の実施例によるウェッジの先端部分
を示す断面図、 第9図は同じくウェッジによるボンディング部分を示す
平面図である。 l・・・セラミック板、2・・・配線基板、3・・・チ
ップ、4・・・電極、5・・・リード、6・・・ワイヤ
、7・・・導体層、8・・・接合材、9・・・キャピラ
リ、10・・・ガイド孔、11・・・押圧面、12・・
・窪み、13・・・リング状接合部、14・・・接合部
、15・・・本体、16・・・XYテーブル、17・・
・アーム、18・・・テーブル、19・・・支軸、20
。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 /デ 第 4 図 第 5 図 第 6 図
部を示す断面図、 第2図は同じくワイヤが張られた状態を示す部分的な平
面図、 第3図は同じくワイヤボンディング状態を示すワイヤボ
ンディング装置の概要を示す正面図、第4図は同じくキ
ャピラリの先端部分を示す断面図、 第5図は同じくチップの電極にワイヤを接続する最初の
状態を示す断面図、 第6図は同じくチア・プの電極にワイヤを接続した状態
を示す断面図、 第7図は同じく導体層上にワイヤを接続した状態を示す
断面図、 第8図は本発明の他の実施例によるウェッジの先端部分
を示す断面図、 第9図は同じくウェッジによるボンディング部分を示す
平面図である。 l・・・セラミック板、2・・・配線基板、3・・・チ
ップ、4・・・電極、5・・・リード、6・・・ワイヤ
、7・・・導体層、8・・・接合材、9・・・キャピラ
リ、10・・・ガイド孔、11・・・押圧面、12・・
・窪み、13・・・リング状接合部、14・・・接合部
、15・・・本体、16・・・XYテーブル、17・・
・アーム、18・・・テーブル、19・・・支軸、20
。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 /デ 第 4 図 第 5 図 第 6 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、チップと、このチップの周辺に内端を臨ませるリー
ドと、前記チップの電極とリード内端とを接続するワイ
ヤと、を有する半導体装置であって、前記電極およびリ
ードとワイヤとの接続部分は多条の圧着部を有している
ことを特徴とする半導体装置。 2、ワイヤを保持したボンディングツールでボンディン
グ位置にワイヤを押し付けて擦り付け、第1ボンディン
グ位置と第2ボンディング位置とをワイヤで電気的に接
続するワイヤボンディング装置におけるボンディングツ
ールであって、前記ボンディングツールのワイヤを圧着
する圧着面には窪みが設けられていることを特徴とする
ボンディングツール。 3、前記窪みはワイヤを繰り出すガイド孔の外周に同心
円的に溝条となって設けられていることを特徴とする特
許請求の範囲第2項記載のボンディングツール。 4、前記窪みはボンディングツールの平坦な圧着面に設
けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載のボンディングツール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59199579A JPS6178128A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59199579A JPS6178128A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6178128A true JPS6178128A (ja) | 1986-04-21 |
Family
ID=16410187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59199579A Pending JPS6178128A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6178128A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4886200A (en) * | 1988-02-08 | 1989-12-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Capillary tip for bonding a wire |
| US5172851A (en) * | 1990-09-20 | 1992-12-22 | Matsushita Electronics Corporation | Method of forming a bump electrode and manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device |
| US11756919B2 (en) | 2018-02-07 | 2023-09-12 | Mitsubishi Electric Corporation | Wedge tool, bonding device, and bonding inspection method |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP59199579A patent/JPS6178128A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4886200A (en) * | 1988-02-08 | 1989-12-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Capillary tip for bonding a wire |
| US5172851A (en) * | 1990-09-20 | 1992-12-22 | Matsushita Electronics Corporation | Method of forming a bump electrode and manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device |
| US11756919B2 (en) | 2018-02-07 | 2023-09-12 | Mitsubishi Electric Corporation | Wedge tool, bonding device, and bonding inspection method |
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