JPS6179764A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は真空蒸着装置に関するものである。

（従来例の構成とその問題点） 近年、半導体や新材料分野の開発は目ざましいものであ
る。これらの製作において真空蒸着装置が多く用いられ
ている。蒸着は、その名のとおり、固体を真空中で熱し
て、蒸発させて被蒸着物質に着けることであるので、蒸
着物質は、非常に高温になる。このため、被蒸着物質に
選択的に蒸着させるためのマスクとして用いるレジスト
が、熱のために損傷したり、膨張あるいは収縮する問題
があった。第１図は従来の真空蒸着装置で、蒸着物質１
１．抵抗加熱や電子ビーム等で加熱して溶かすものであ
る。所望の量を蒸着させるため、蒸着物質１の飛翔を防
ぐシャッター２の開閉によシ、被蒸着物質３に蒸着させ
る。蒸着は本質的に高温にならざるを得ないが、シャッ
ター２を開けるまでの蒸着物質１を加熱している間に既
に温度が上がってしまったシ、蒸着後も、熱輻射によ多
温度が下がらない問題があり念。

（発明の目的） 本発明は上記問題に鑑み、蒸着開始まで、また、蒸着後
の温度上昇を少なくすることのできる真空蒸着装置を提
供するものである。

（発明の構成） この目的を達成するために、本発明の真空蒸着装置は、
シャッターが複数枚、空間を隔てて、積み重ねて構成し
である。この構成によって、シャッターから被蒸着物質
への熱の輻射を非常に小さくすることができる。

（実施例の説明） 以下本発明の一実施例について第２図を参照しながら説
明する。蒸着物質１としてＡｕ　、　Ｐｔ　ｔｌ−使用
した。シャッター２はステンレス製の厚さ２　ｗｍｓ直
径１２０のものを２枚、５ｃｔｎ離してとりつけた。

被蒸着物質３としてＰＭＭＡレジストを塗布した半導体
基板を用いた。被蒸着物質３に蒸着を開始するまでの間
には、蒸着物質１が下のシャツ“ターに直接蒸着され、
このシャッターは非常に高温となるが、このシャッター
からの輻射熱は、上のシャッターによシ、直接被蒸着物
質３には到達しないの−で、被蒸着物質３の温度上昇を
小さく抑えることができる。なお、本実施例では、シャ
ッターを金属としたがセラミックでもよい。また２重に
したが、３重でも４重でもよい。

（発明の効果） 以上のように本発明は、蒸着物質またはシャッターから
被蒸着物質への熱輻射を小さくすることができ、その実
用的効果は犬なるものがある。

【図面の簡単な説明】 第１図は従来の真空蒸着装置の要部の概略図、第２図は
本発明の一実施例における真空蒸着装置の要部の概略図
である。 １・・・蒸着物質、２・・・シャッター、３・・・被蒸
着物質。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 蒸着物質の飛翔を遮るためのシャッターが多重になって
   いることを特徴とする真空蒸着装置。