JPS5943871A - 蒸発材料収容器 - Google Patents
蒸発材料収容器Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 58
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 56
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018110 Se—Te Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えばセレン及びテルルからなる蒸発材料を
加熱、蒸発させる際に使用され、前記蒸発材料がその蒸
発面積より小さい開口を通して外方へ導出されるように
構成された蒸発材料収容器に関するものである。
加熱、蒸発させる際に使用され、前記蒸発材料がその蒸
発面積より小さい開口を通して外方へ導出されるように
構成された蒸発材料収容器に関するものである。
この種の蒸発材料収容器（以下、蒸着ボートと称する。
）として、蒸発材料の蒸発面積とほぼ同一サイズの上部
開口を有したいわゆるオープンボートが知られている。
開口を有したいわゆるオープンボートが知られている。
しかし、このようなオープンボートでは、蒸着速度の制
御が困蛯であり、しかも突沸が多い等の実用上の問題が
大きい。°また、このようなオープンボートを仮に低幅
射率の材料で形成したとしても、上記したことがら使用
が不可能である。
御が困蛯であり、しかも突沸が多い等の実用上の問題が
大きい。°また、このようなオープンボートを仮に低幅
射率の材料で形成したとしても、上記したことがら使用
が不可能である。
一方、オープンボートの欠点を解消したボートとして、
いわゆるクヌードセンセル型と称されるものがある。こ
れは、上部開口を蒸発面積より狭く絞ることにより、蒸
着速度が効果的に制御され、突沸で飛出した蒸発物が上
部開口に至るまでの間に壁部に付着して外方（即ち被蒸
着基体側）へ飛翔することはない等の点で、非常に優れ
たものである。
いわゆるクヌードセンセル型と称されるものがある。こ
れは、上部開口を蒸発面積より狭く絞ることにより、蒸
着速度が効果的に制御され、突沸で飛出した蒸発物が上
部開口に至るまでの間に壁部に付着して外方（即ち被蒸
着基体側）へ飛翔することはない等の点で、非常に優れ
たものである。
ところが、ボート外面、特に蒸発材料と接している壁部
外面からの熱輻射率が０５〜０．７ と太きいために、
蒸発源の長さ方向において温度分布のばらつきが大きく
、また蒸発源の高さ方向においても温度分布のばらつき
が大きくなることが判明した。こうした温度分布のばら
つきによって蒸発ムラが生じ、これが蒸着膜の膜厚や特
性のノ、うを招き、製品の歩留り若しくは収率が低下し
てしまう。
外面からの熱輻射率が０５〜０．７ と太きいために、
蒸発源の長さ方向において温度分布のばらつきが大きく
、また蒸発源の高さ方向においても温度分布のばらつき
が大きくなることが判明した。こうした温度分布のばら
つきによって蒸発ムラが生じ、これが蒸着膜の膜厚や特
性のノ、うを招き、製品の歩留り若しくは収率が低下し
てしまう。
本発明は、上記の如き蒸着ボートの特長を生かしつつそ
の欠点を解消すべくなされたものであって、冒頭に述べ
た蒸発材料収容器において輻射率が０．４以下（望まし
くは０．１以下）であることを特徴とする蒸発材料収容
器に係るものである。
の欠点を解消すべくなされたものであって、冒頭に述べ
た蒸発材料収容器において輻射率が０．４以下（望まし
くは０．１以下）であることを特徴とする蒸発材料収容
器に係るものである。
本発明によれば、容器の輻射率を０．４以下と小さくし
ているため、外方への熱放出が大幅に減少し、特に蒸発
源の長さ方向、更には深さ方向での温度分布のばらつき
が減少し、これによって安定した蒸発を可能となし、蒸
発ムラ、及び蒸着膜の膜厚、特性のムラをなくし、収率
を大きく向上させることができる。
ているため、外方への熱放出が大幅に減少し、特に蒸発
源の長さ方向、更には深さ方向での温度分布のばらつき
が減少し、これによって安定した蒸発を可能となし、蒸
発ムラ、及び蒸着膜の膜厚、特性のムラをなくし、収率
を大きく向上させることができる。
本発明においては、容器全体が輻射率０．４以下の材料
によって形成されたり、或いは輻射率が０．４以下のカ
バー材が少くとも外面に被覆されたり、更には輻射率が
０．４以下の材料が少なくとも外面に塗布されることが
望ましい。
によって形成されたり、或いは輻射率が０．４以下のカ
バー材が少くとも外面に被覆されたり、更には輻射率が
０．４以下の材料が少なくとも外面に塗布されることが
望ましい。
こうした低輻射率（輻射熱量の小さい）の構成材料とし
ては、鏡面加工されたＭ、黄銅、Ｃｒ、α、Ａｕ、 Ｆ
ｅ、、Ｍｏ、 Ｎｉ、 Ｐｔ、 Ｔａ、 Ｗ等が挙げら
れる。これ等は成形等によって容器形状に仕上げられて
よいし、或いは上記の塗布の場合には溶射、蒸着等の表
面塗装によって被着されてもよい。
ては、鏡面加工されたＭ、黄銅、Ｃｒ、α、Ａｕ、 Ｆ
ｅ、、Ｍｏ、 Ｎｉ、 Ｐｔ、 Ｔａ、 Ｗ等が挙げら
れる。これ等は成形等によって容器形状に仕上げられて
よいし、或いは上記の塗布の場合には溶射、蒸着等の表
面塗装によって被着されてもよい。
以下、本発明を実施例について、図面参照下に詳細に説
明する。
明する。
第１図は真空蒸着装置の要部を概略的に示すものであっ
て、ペルジャー（図示せず）内に蒸発源１と対向して被
蒸着Ｊ、％体２（例えば回転可能なアルミニウムドラム
）が配されている。蒸発源１は、蒸発材料３（例えばセ
レン−テルル合金）を収容する蒸着ボート４からなって
いる。このボート４は上下２段に配された各２つのヒー
ターランプ５．６を容する土壁部７と、蒸発材料３を容
する下壁部８とによって構成され、土壁部７には蒸発材
料３の蒸発面積より小さい上部開口９から制御された状
態で蒸気が外方（即ち基体２側）へ飛翔するようになっ
ている。これはいわゆるクヌードセンセル型蒸発源と称
されるものである。
て、ペルジャー（図示せず）内に蒸発源１と対向して被
蒸着Ｊ、％体２（例えば回転可能なアルミニウムドラム
）が配されている。蒸発源１は、蒸発材料３（例えばセ
レン−テルル合金）を収容する蒸着ボート４からなって
いる。このボート４は上下２段に配された各２つのヒー
ターランプ５．６を容する土壁部７と、蒸発材料３を容
する下壁部８とによって構成され、土壁部７には蒸発材
料３の蒸発面積より小さい上部開口９から制御された状
態で蒸気が外方（即ち基体２側）へ飛翔するようになっ
ている。これはいわゆるクヌードセンセル型蒸発源と称
されるものである。
この蒸発源においては、本発明に従って、ボート壁部７
及び８（換言すればボート全体）が輻射率（ε）０．４
以下、特に０．１以下の高度研磨面を有するアルミニウ
ムによって形成されている。この低輻射率の材料によっ
て、特に蒸発材料３に接する壁部をはじめ全体の熱放出
が著しく少なくなる。
及び８（換言すればボート全体）が輻射率（ε）０．４
以下、特に０．１以下の高度研磨面を有するアルミニウ
ムによって形成されている。この低輻射率の材料によっ
て、特に蒸発材料３に接する壁部をはじめ全体の熱放出
が著しく少なくなる。
第２図は、ボートの壁部本体１７及び１８自体は通常の
熱処理されたステスレス鋼で形成されるが、その外面に
上記した如き低輻射率材のカバー材１０が施された例を
示している。このように構成しても、ボート外面からの
輻射による放出熱量が著しく少なくなる。第３図は、第
２図と同様のカバー材１０が設けられているが、蒸発材
料３の収容部の形状が異なったボートを示している。
熱処理されたステスレス鋼で形成されるが、その外面に
上記した如き低輻射率材のカバー材１０が施された例を
示している。このように構成しても、ボート外面からの
輻射による放出熱量が著しく少なくなる。第３図は、第
２図と同様のカバー材１０が設けられているが、蒸発材
料３の収容部の形状が異なったボートを示している。
第４図の例では、第２図と同様の壁部１７．１８の外面
に上記した如き低輻射率材料加が溶射又は蒸着によって
塗布されている。
に上記した如き低輻射率材料加が溶射又は蒸着によって
塗布されている。
第２図〜第４図の例においては、ボートからの熱放出に
よる温度分布のばらつきをカバー材１０又は塗布層加に
よって防止している。なお、これらの低輻射率材はボー
トの内面に及んでいてもよい。
よる温度分布のばらつきをカバー材１０又は塗布層加に
よって防止している。なお、これらの低輻射率材はボー
トの内面に及んでいてもよい。
上記した如き低輻射率材の適用によって、上記した各ボ
ートの側面形状を示す第５図（この図では例示的に第１
図のボートに対応した側面が示されている。）において
、ボート１の長さ方向での左端側の点Ａ、中間点Ｂ、右
端側の点Ｃの各温度間での最高温度と最低温度との差（
ΔＴ）は数℃程度と非常に小さくなる。従って、例えば
、ボート１の長さ３ｍに対し、１つの温度測定点（例え
中間点Ｂ）に熱電対を配して１つの温度制御系を用いれ
ば、所望の温度制御を行なうことが充分可能であり、蒸
着膜として感光体膜を形成する場合にはその感度ムラを
なくし、特性を良好にすることができる。これに反し、
従来のボートでは上記のΔＴが２０数℃〜３０数℃と大
きくなり、既述した如き蒸発ムラ等の問題が生じてし寸
う。
ートの側面形状を示す第５図（この図では例示的に第１
図のボートに対応した側面が示されている。）において
、ボート１の長さ方向での左端側の点Ａ、中間点Ｂ、右
端側の点Ｃの各温度間での最高温度と最低温度との差（
ΔＴ）は数℃程度と非常に小さくなる。従って、例えば
、ボート１の長さ３ｍに対し、１つの温度測定点（例え
中間点Ｂ）に熱電対を配して１つの温度制御系を用いれ
ば、所望の温度制御を行なうことが充分可能であり、蒸
着膜として感光体膜を形成する場合にはその感度ムラを
なくし、特性を良好にすることができる。これに反し、
従来のボートでは上記のΔＴが２０数℃〜３０数℃と大
きくなり、既述した如き蒸発ムラ等の問題が生じてし寸
う。
また、蒸発材料の深さ方向における温度分布については
、第６図に示すように、蒸発材料（合金融液）３の液面
温度をＴＡ、ＬＩ−面温度をＴＢ、壁部８の外面温度を
Ｔｃとしたところ、第６Ａ図の従来例（輻射率０．５以
上と犬）の場合にはＴＡ（３３０℃）＞＞ ＴＢ （３
００℃） ＞’ｒＣ（２９５℃）と温度分布のばらつき
が大きくなる。しかし、本発明に従って壁材８として低
輻射率材を用いた場合（第６１３図）には、ＴＡ （３
０２℃） ＝：＝ＴＢ （３００°Ｇ ） ＋Ｔｃ （
２９９℃）となり、深さ方向でも温度が均一化している
。
、第６図に示すように、蒸発材料（合金融液）３の液面
温度をＴＡ、ＬＩ−面温度をＴＢ、壁部８の外面温度を
Ｔｃとしたところ、第６Ａ図の従来例（輻射率０．５以
上と犬）の場合にはＴＡ（３３０℃）＞＞ ＴＢ （３
００℃） ＞’ｒＣ（２９５℃）と温度分布のばらつき
が大きくなる。しかし、本発明に従って壁材８として低
輻射率材を用いた場合（第６１３図）には、ＴＡ （３
０２℃） ＝：＝ＴＢ （３００°Ｇ ） ＋Ｔｃ （
２９９℃）となり、深さ方向でも温度が均一化している
。
即ち、従来例ではＴＡ −ＴＢが大であって、蒸発の進
行に伴なって蒸発温度が３３０℃から３００°Ｃｔで３
０℃も変化するので蒸発ムラが生じるが、本例ではｒＡ
−ＴＢが２℃程度でちって、安定な蒸発が可能となる。
行に伴なって蒸発温度が３３０℃から３００°Ｃｔで３
０℃も変化するので蒸発ムラが生じるが、本例ではｒＡ
−ＴＢが２℃程度でちって、安定な蒸発が可能となる。
第７図は、上記した方法で得られたＳｅ −ｉ、”ｅ蒸
着膜のＴｅ９度プロファイルを示す。この蒸着に当って
は、Ｔｅ含有量が１３，５重量％の５ｅ−Ｔｅ合金を蒸
発材料として用い、これを３００℃に加熱し、ペルジャ
ー内の真空度を１０ Ｔｏｒｒ以下とした。
着膜のＴｅ９度プロファイルを示す。この蒸着に当って
は、Ｔｅ含有量が１３，５重量％の５ｅ−Ｔｅ合金を蒸
発材料として用い、これを３００℃に加熱し、ペルジャ
ー内の真空度を１０ Ｔｏｒｒ以下とした。
第５図に示した蒸発源の長さ方向において、従来装置で
は最高温度（Ｔｈ）、中間温度（ＴＭ ）及び最低温度
（ＴＬ ）の各部分からは第７図に実線で示す如き蒸着
膜の厚み方向のＴｅ９度分布が得られ、温度のばらつき
によって蒸着膜中のＴｅ濃度が場所的に著しく不均一に
なっていることが分った。しかしながら、本発明に従っ
て、ボートを例えば輻射率０．０６の材料で形成したり
、或いは被覆または塗布したとき（第１図〜第４図参照
）には、第７図に破線で示す如く、温度分布のばらつき
が非常に小さいために蒸着膜のＴｅ濃度が場所的にみて
非常に均一となり、そのばらつきは±１チ以内に抑えら
れることが分った。
は最高温度（Ｔｈ）、中間温度（ＴＭ ）及び最低温度
（ＴＬ ）の各部分からは第７図に実線で示す如き蒸着
膜の厚み方向のＴｅ９度分布が得られ、温度のばらつき
によって蒸着膜中のＴｅ濃度が場所的に著しく不均一に
なっていることが分った。しかしながら、本発明に従っ
て、ボートを例えば輻射率０．０６の材料で形成したり
、或いは被覆または塗布したとき（第１図〜第４図参照
）には、第７図に破線で示す如く、温度分布のばらつき
が非常に小さいために蒸着膜のＴｅ濃度が場所的にみて
非常に均一となり、そのばらつきは±１チ以内に抑えら
れることが分った。
以上、本発明を例示したが、上述の例は本発明の技術的
思想に基いて更に変形が可能である。
思想に基いて更に変形が可能である。
例えば、蒸着ボートの形状や構造を神々変更でき、上述
した蒸発利料を別の容器に収容してこれを蒸発源の空間
内に配置してもよい。この場合でも、蒸発源の外壁は本
発明に従って低輻射率材料で形成することができる。ま
た、使用する蒸発材料はＳｅ −Ｔｅに限らず、Ｓｅ
−Ｓ、 Ｆｅ−Ｎｉ 、 ＡｇＢｒ −Ｉ等でもよい。
した蒸発利料を別の容器に収容してこれを蒸発源の空間
内に配置してもよい。この場合でも、蒸発源の外壁は本
発明に従って低輻射率材料で形成することができる。ま
た、使用する蒸発材料はＳｅ −Ｔｅに限らず、Ｓｅ
−Ｓ、 Ｆｅ−Ｎｉ 、 ＡｇＢｒ −Ｉ等でもよい。
図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は真
空蒸着装置の要部概略図、 第２図、第３図、第４図は他の各側による蒸発源の各断
面図、 第５図は蒸発源の側面図、 第６Ａ図は従来例による蒸発材料及びボートの一部分の
拡大断面図、 第６Ｂ図は本実施例における第６Ａ図と同様の拡大断面
図、 第７図は得られた蒸着膜中のＴｅ濃度プロファイルを示
す図、 である。 なお、図面に示された符号においそ、 １・・・・蒸発源 ２・・・・被蒸着基体 ３・・・・蒸発材料 ４・・φ・蒸着ボート ５．６・・ヒーター ７．８・・低輻射率の壁部 ９・・・・上部開口 １０・・・・低輻射率のカバー材 加・・・・低輻射率の塗布層 である。 代理人 弁理土掻 坂 宏 第２１９ 弔３１０
空蒸着装置の要部概略図、 第２図、第３図、第４図は他の各側による蒸発源の各断
面図、 第５図は蒸発源の側面図、 第６Ａ図は従来例による蒸発材料及びボートの一部分の
拡大断面図、 第６Ｂ図は本実施例における第６Ａ図と同様の拡大断面
図、 第７図は得られた蒸着膜中のＴｅ濃度プロファイルを示
す図、 である。 なお、図面に示された符号においそ、 １・・・・蒸発源 ２・・・・被蒸着基体 ３・・・・蒸発材料 ４・・φ・蒸着ボート ５．６・・ヒーター ７．８・・低輻射率の壁部 ９・・・・上部開口 １０・・・・低輻射率のカバー材 加・・・・低輻射率の塗布層 である。 代理人 弁理土掻 坂 宏 第２１９ 弔３１０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、蒸発材料を加熱、蒸発させる際に使用され、前記蒸
発材料がその蒸発面積より小さい開口を通して外方へ導
出されるように構成された蒸発材料収容器において、輻
射率が０．４以下であることを特徴とする蒸発材料収容
器。 ２、輻射率が０．４以下の材料によって形成されている
、特許請求の範囲の第１項に記載した蒸発材料収容器。 ３、輻射率が０．４以下のカバー材が少くとも外面に被
覆されている、特許請求の範囲の第１項に記載した蒸発
材料収容器。 ４、輻射率が０．４以下の材料が少なくとも外面に塗布
されている、特許請求の範囲の第１項に記載した蒸発材
料収容器。 ５、輻射率が０．１以下である、特許請求の範囲の第１
項〜第４項のいずれか１項に記載した蒸発材料収容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15423482A JPS5943871A (ja) | 1982-09-04 | 1982-09-04 | 蒸発材料収容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15423482A JPS5943871A (ja) | 1982-09-04 | 1982-09-04 | 蒸発材料収容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5943871A true JPS5943871A (ja) | 1984-03-12 |
Family
ID=15579776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15423482A Pending JPS5943871A (ja) | 1982-09-04 | 1982-09-04 | 蒸発材料収容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5943871A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5239611A (en) * | 1991-02-14 | 1993-08-24 | Hilmar Weinert | Series evaporator |
| CN110656309A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 佳能特机株式会社 | 加热装置、蒸发源及蒸镀装置 |
| CN114381693A (zh) * | 2020-10-19 | 2022-04-22 | 株式会社爱发科 | 真空蒸镀装置用的蒸镀源 |
-
1982
- 1982-09-04 JP JP15423482A patent/JPS5943871A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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