JPS617988A - パタ−ン復元方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は光学文字読取装置等におけるパターン復元処理
に関し、特に、かすれたパターン、一部が切断されたパ
ターン等を復元するのに好適なパターン復元方式に関す
る。

〔発明の背景〕

光学文字読取装置等の読取対象となる文字、マーク等の
パターンは、必ずしも常に完全な形で表記されていると
は限らず、゛かすれ′や一部切断を含んでいる場合があ
る。このようなパターンを復元する際、゛かすれ′や一
部切断を修復しその意味を正確に復元するために、従来
、太め処理を行っている。

第１図は、従来の太め処理を説明するための図である。

第１図（ａ）に示した文字パターンｃ１はかすれており
、ｃ２は８部が切断された文字パターンである。第１図
（ｂ）は第１図の各文字パターンに対し従来技術により
太め処理を行い復元した文字パターンである。

文字パターンｃ１を太め処理した文字パターン０１′は
完全に修復され１文字パターンｃ１の意味する２′を正
確に判読することができるが、文字パターンｃ２を太め
処理した文字パターン０２′は完全には復元されていな
い。すなわち、文字パターンｃ２のａ部切断は修復され
ているが、ｂ部の中空がつぶれて消失し文字パターンｃ
２の意味する８′が９′に誤読される恐れがある。

このように、従来の太め処理により゛かすれ′や切断の
ある文字パターンを修復しようとすると、変形や消失に
より誤って意味の異なる文字パターンに復元する場合が
ある６ 〔発明の目的〕 本発明の目的は、上記のような従来技術の欠点を解消し
、かすれたり、一部に切断のあるパターンを消失や変形
なしに復元するパターン復元方式を提供することにある
。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するため、本発明によるパターン復元方
式は、読取りの対象であるパターンを外輪郭パターンと
内輪郭パターンとに分離する手段と、太め処理または細
め処理を行う手段とを設け、前記外輪郭パターン、内輪
郭パターンに対しそれぞれ個別に太め処理または細め処
理を行うことにより、かすれたり、一部に切断のあるパ
ターンを消失や変形なしに復元することに特徴がある。

〔発明の実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

第２図は、本発明の−・実施例による光学文字読取装置
の構成を示す図である。

第２図において、１は帳票搬送機構、２は帳票、３は発
光源、４は受光素子、５は２値化回路、６は記憶回路、
７は認識回路、８は辞書ファイル。

９は上位装置、１０は修復部である。

帳票２は帳票搬送機構１により搬送される。帳票２は発
光源３および受光素子４からなる読取部に達すると発光
源３により光学的に走査される。

走査により帳票２からの反射光が受光素子４に入射し受
光素子４上に帳票２上の枠パターン、文字パターン、記
号パターン等が結像される。受光素子４は、例えば−次
元半導体ＣＣＤセンサ等が適用される。

受光素子４は、順次結像されるパターンを電気信号に変
換して２値化回路５に出力する。２値化回路５は、電気
信号を所定の閾値により０′。

１′の２値信号とし、記憶回路６に出力する。

記憶回路６は、帳票２上のパターンを０′、１′の２値
信号として記憶するもので、例えばＩＣメモリ等が適用
される。認識回路７は、記憶回路６の文字パターン、記
号パターン等を切り出し、切り出したパターンを辞書フ
ァイル８に格納されている標準パターンと比較し、一致
のと熟た標準パターンを認識結果として出力する。この
認識結果は、例えば磁気テープ記憶装置、磁気ディスク
装置等の外部記憶装置や中央処理装置等の上位装置９に
出力される。

記憶回路６のパターンと標準パターンとの一致がとれな
くて認識回路７が読取ることができなかったパターンに
対し、修復部１０は次の処理を行う。すなわち、読取り
ができなかったパターンには゛かすれ′や一部切断があ
ることを仮定し、パターンを太めることにより、かすれ
パターンや一部切断パターンの修復処理を行い、修復さ
れたパターンを認識回路７に送り再度標準パターンと比
較し認識の再試行を行う。

第３図は、本発明の一実施例によるパターン復元処理を
説明するための図である。

第３図（、）のＣｉ、Ｃ２は第１図に示したものと同様
の゛かすれ′や一部切断のある文字ノ（ターンである。

このような文字パターンに対する修復処理は次のように
行う。まず、修復部１０は、第３図（、）の文字パター
ンに対する上記２値化信号が０′から１′、あるいは１
′から０′に変化する点、すなわち輪郭点を追跡し、第
３図（ｂ）に示す輪郭パターンを得るとともに内輪郭パ
ターンと外輪郭パターンとに分離する。分離はパターン
の高さ方向をＹとした場合、各輪郭パターンのＹの最大
値、最小値対応の原パターン（ｅｌ−Ｃ２）の点につい
て、その外側が白か黒かにより行う。

例えば、２値信号の０′を白、１′を黒に対応させる場
合は、外側が黒を示す゛工′の場合は内輪郭パターン、
白を示す０′の場合は外輪郭パターンであると判断する
。第３図（ｂ）においては・Ｃ１０、Ｃ１１、Ｃ１２・
Ｃ２０力蒐外輪郭パターンで、Ｃ２１が内輪郭バタ・−
ンである。

次に、修復部１０は得られた輪郭パターンについて太め
処理を行うが、輪郭パターンのままでは太め処理が複雑
になるため、輪郭パターンを２値化パターンに変換する
。この時、内輪郭パターンと外輪郭パターンを別々に２
値化パターンに変換し、第３図（ｃ）に示すようにｅ　
１０’　、　Ｃ１１’、Ｃ１２’＋　Ｃ２０’、Ｃ２１
’　を得る０続いて・これらに対し゛かすれ′や切断を
修復するために太め処理を行う。しかし、内輪郭パター
ン０２１′に対して太め処理を行った場合、内輪郭がつ
ぶれて消失する恐れがあるので、太め処理は外輪郭パタ
ーンｃｉｏ’・Ｃ１ｌ’−Ｃ１２’、Ｃ２０’に対して
のみ行い、内輪郭パターン０２１′はそのまま残してお
く。その結果第３図（ｄ）に示す修復パターンＣ１０１
２とＣ２０’を得る。太め処理の結果、修復パターンＣ
１０１２においては゛かすれ′が修復され、修復パター
ンＣ２０′においては切断部ａが修復されている。

しかし、修復パターンＣ２０’の内輪郭パターン０２１
′対応部分は消失したままである。そこで、太め処理さ
れていない内輪郭パターン０２１′と、太め処理された
外輪郭パターン（−ｔ　ｏ　１２とＣ２０′の論理積を
とることにより第３図（ｅ）に示す復元パターンｃ１′
と０２′を得る。第３図（８）に示したように、復元パ
ターンｃ１′。

復元パターン０２′には゛かすれ′、一部切断。

さらには太め処理による消失部分がなく、完全な形で復
元されている。したがって、認識回路７におけるパター
ン認識処理において、誤認識することなく正しい認識が
可能となる。

なお、外輪郭パターンに対して太め処理を行い、゛かす
れ′や一部切断を一旦（ＩＩ復した後、さらに外輪郭パ
ターンに対して細め処理を行うことにより、さらに変形
の少ない復元パターンを得ることも可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように５本発明のパターン復元方式によれ
ば、パターンを外輪郭パターンと内輪郭パターンとに分
離し、各々個別に太め処理、あるいは細め処理を行うこ
とにより、゛かすれ′や一部切断のあるパターンを消失
や変形なしに復元することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のパターン復元状態を説明するための図、
第２図は本発明の一実施例による光学文字読取装置の構
成を示す図、第３図は本発明の一実施例によるパターン
復元状態を説明するための図である。 ３発光源、４：受光素子、５：２値化回路、６：記憶回
路、７：認識回路、８：辞書ファイル、９；上位装置、
１０：修復部。 第　　　１　　　図 ＣＩ’　Ｃ２’

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）読取りの対象である文字、記号等のパターンを外
   輪郭パターンと内輪郭パターンとに分離する手段と、太
   め処理または細め処理を行う手段とを設け、前記外輪郭
   パターン、内輪郭パターンに対しそれぞれ個別に太め処
   理または細め処理を行うことを特徴とするパターン復元
   方式。