JPS6180100A - 放射線像変換パネルの製造法 - Google Patents
放射線像変換パネルの製造法Info
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Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【発明の分野]
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に
用いられる放射線像変換パネルの製造法に関するもので
ある。さらに詳しくは本発明は、支持体11尽性蛍光体
からなる蛍光体層および保護膜をこの順序で有する放射
線像変換パネルの製造法に間するものである。
用いられる放射線像変換パネルの製造法に関するもので
ある。さらに詳しくは本発明は、支持体11尽性蛍光体
からなる蛍光体層および保護膜をこの順序で有する放射
線像変換パネルの製造法に間するものである。
〔91明の技術的背)Aおよび従来技術]放射線像をF
!iRとして(1)る方法として、従来より銀塩感光材
料からなる乳剤層を有する放射線写真フィルムと増感紙
との組合わせを用いる、いわゆる放射線写真法が利用さ
れている。最近、上記放射線写真法に代る方法の一つと
して、たとえば特開昭55−12145号公報などに記
載されているような、輝尽性1゛ケ光休を用いる放射線
像変換方法が注目されるようになった。この放射線像変
換方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル(
蓄積性蛍光体ンート)を利用するもので、被写体を透過
した放射線、あるいは被検体から発せられた放射線を該
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののらに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系
列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積さ
れている放射線エネルギー?蛍光(輝尽発光)として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
得られた′#、気信号を画像化するものである。
!iRとして(1)る方法として、従来より銀塩感光材
料からなる乳剤層を有する放射線写真フィルムと増感紙
との組合わせを用いる、いわゆる放射線写真法が利用さ
れている。最近、上記放射線写真法に代る方法の一つと
して、たとえば特開昭55−12145号公報などに記
載されているような、輝尽性1゛ケ光休を用いる放射線
像変換方法が注目されるようになった。この放射線像変
換方法は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル(
蓄積性蛍光体ンート)を利用するもので、被写体を透過
した放射線、あるいは被検体から発せられた放射線を該
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののらに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系
列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積さ
れている放射線エネルギー?蛍光(輝尽発光)として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
得られた′#、気信号を画像化するものである。
上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真法
による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報
量の豐富な放射線画像を得ることができるという利点が
ある。従って、この放射線像変換方法は、特に医療診断
を目的とするX線撮影等の直接医療用放射線撮影におい
て利用価値の非常に高いものである。
による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報
量の豐富な放射線画像を得ることができるという利点が
ある。従って、この放射線像変換方法は、特に医療診断
を目的とするX線撮影等の直接医療用放射線撮影におい
て利用価値の非常に高いものである。
上記放射線像変換方法に用いる放射線像変換パネルは、
基本構造として、支持体とその片面に設けられた蛍光体
層とからなるものである。なおこの蛍光体層の支持体と
は反対側の表面(支持体に面していない側の表面)には
一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化
学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。
基本構造として、支持体とその片面に設けられた蛍光体
層とからなるものである。なおこの蛍光体層の支持体と
は反対側の表面(支持体に面していない側の表面)には
一般に、透明な保護膜が設けられていて、蛍光体層を化
学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。
蛍光体層は、輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持
する結合剤とからなるものであり、輝尽性蛍光体IすX
線などの放射線を吸収したのち、OT視光線および赤外
線などの電磁波(励起光)の照射を受けると発光(r4
尽発光)を示す性質を有するものである。従って、被写
体を透過した。あるいは被検体から発せられた放射線は
、その放射線量に比例して放射線像変換パネルの蛍光体
層に吸収され、放射線像変換パネル上には被写体あるい
は被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄清像として
形成される。この蓄!A像は、上記電磁波で時系列的に
励起することにより輝尽発光として放射させることがで
き、この輝尽発光を光電的に読み取って電気信号に変換
すSことにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化する
ことが可能となる。
する結合剤とからなるものであり、輝尽性蛍光体IすX
線などの放射線を吸収したのち、OT視光線および赤外
線などの電磁波(励起光)の照射を受けると発光(r4
尽発光)を示す性質を有するものである。従って、被写
体を透過した。あるいは被検体から発せられた放射線は
、その放射線量に比例して放射線像変換パネルの蛍光体
層に吸収され、放射線像変換パネル上には被写体あるい
は被検体の放射線像が放射線エネルギーの蓄清像として
形成される。この蓄!A像は、上記電磁波で時系列的に
励起することにより輝尽発光として放射させることがで
き、この輝尽発光を光電的に読み取って電気信号に変換
すSことにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化する
ことが可能となる。
放射線像変換方法は上述のように非常に有利な画像形成
方法であるが、この方法に用いられる放射線像!換パネ
ルも上記従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様
に、高感度であってかつ画m(鮮鋭度1粒状性など)の
良好な画像を与えるものであることが望まれている。
方法であるが、この方法に用いられる放射線像!換パネ
ルも上記従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様
に、高感度であってかつ画m(鮮鋭度1粒状性など)の
良好な画像を与えるものであることが望まれている。
これまで、放射線電変換パネルにおいて保護膜の付設は
一般に、既に形成された蛍光体層の表面に透明な高分子
物質をA当な溶剤に溶解してなる溶液を塗布することに
より、あるいは別途形成した透り1な薄膜を接着剤等を
用いて接着することにより行なわれている。
一般に、既に形成された蛍光体層の表面に透明な高分子
物質をA当な溶剤に溶解してなる溶液を塗布することに
より、あるいは別途形成した透り1な薄膜を接着剤等を
用いて接着することにより行なわれている。
塗布操作により蛍光体層上に保護膜を形成する場合には
、塗布液の溶剤の種類、塗布液中の高分子物質と蛍光体
層中の結合剤との組合せ、蛍光体層における蛍光体粒子
の含有率などに依存して蛍光体層と保護膜との密着強度
が大きく変動するために、所望の密着強度および保護膜
としての性能を得るためには保護膜の材料および塗布条
件が制限されていた。また、放射線像変換パネルは一般
に繰返し使用されるものであるが、接着剤層を介して蛍
光体層上に保護膜を付設した場合には、使用回数の増加
につれて接着剤層が機械的にあるいは熱的に劣化しやす
く、結果として保護膜が剥離する傾向にあった。すなわ
ち、蛍光体層と保護膜との密着強度が充分でなく、繰返
し使用に際してパネルの耐久性に欠けるという問題があ
った。
、塗布液の溶剤の種類、塗布液中の高分子物質と蛍光体
層中の結合剤との組合せ、蛍光体層における蛍光体粒子
の含有率などに依存して蛍光体層と保護膜との密着強度
が大きく変動するために、所望の密着強度および保護膜
としての性能を得るためには保護膜の材料および塗布条
件が制限されていた。また、放射線像変換パネルは一般
に繰返し使用されるものであるが、接着剤層を介して蛍
光体層上に保護膜を付設した場合には、使用回数の増加
につれて接着剤層が機械的にあるいは熱的に劣化しやす
く、結果として保護膜が剥離する傾向にあった。すなわ
ち、蛍光体層と保護膜との密着強度が充分でなく、繰返
し使用に際してパネルの耐久性に欠けるという問題があ
った。
また、一般に各層間の界面では光(励起光)の散乱が生
じやすく、接着剤層を介して蛍光体層上に保w1膜を付
設した場合には、蛍光体層、接着剤層および保護膜の各
層の界面で光の散乱が生じるために、得られる画像は画
質が低下しがちであった。
じやすく、接着剤層を介して蛍光体層上に保w1膜を付
設した場合には、蛍光体層、接着剤層および保護膜の各
層の界面で光の散乱が生じるために、得られる画像は画
質が低下しがちであった。
さらに、上記の各界面における輝尽発光光の散乱は、パ
ネル表面(保護V表面)からの光の読出し効(イを低下
させるために、放射線像変換パネルの感度低下の一因と
なっていた。
ネル表面(保護V表面)からの光の読出し効(イを低下
させるために、放射線像変換パネルの感度低下の一因と
なっていた。
[発明の要旨J
本発明は、機械的強度の向上した放射線像変換パネルの
!造法を提供することをその目的とするものである。
!造法を提供することをその目的とするものである。
また、本発明は1画質の向上した画像を与える放射SI
A像変換パネルの製造法を提供することもその目的とす
るものである。
A像変換パネルの製造法を提供することもその目的とす
るものである。
さらに、本発明は、感度の向上した放射線像変換パネル
の製造法を提供することもその目的とするものである。
の製造法を提供することもその目的とするものである。
すなわち1.(発明は、
(1)jl尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液Iと、
輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合
剤溶液Iに含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤か
らなる結合剤溶液IIとを、該輝尽性蛍光体を分散して
なる結合剤溶液Iが支持体側となるように支持体表面に
同時にff1)#塗布して、蛍光体層および保護膜を形
成することを特徴とする未発嗅1の放射線像変換パネル
の製造法。
輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合
剤溶液Iに含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤か
らなる結合剤溶液IIとを、該輝尽性蛍光体を分散して
なる結合剤溶液Iが支持体側となるように支持体表面に
同時にff1)#塗布して、蛍光体層および保護膜を形
成することを特徴とする未発嗅1の放射線像変換パネル
の製造法。
および
(2)輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液Iと、輝
尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合剤
溶液!に含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤から
なる結合剤溶液IIとを、平面シート上に同時に重層塗
布して蛍光体層および保護膜を形成したのち、該蛍光体
層および保護膜を該シートから分離して支持体上に付設
することを特徴とする本発明の放射線像変換パネルの製
造法。
尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合剤
溶液!に含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤から
なる結合剤溶液IIとを、平面シート上に同時に重層塗
布して蛍光体層および保護膜を形成したのち、該蛍光体
層および保護膜を該シートから分離して支持体上に付設
することを特徴とする本発明の放射線像変換パネルの製
造法。
を提供するものである。
[発明の効果]
本発明は、蛍光体層と保M膜とを重層塗布により同時に
支持体上に形成することにより、放射線(を変換パネル
の機械的強度の向上、感度の向上、および該パネルによ
り得られる画像の画質の向上など諸特性のWJ−yfな
向上を実現するものである。
支持体上に形成することにより、放射線(を変換パネル
の機械的強度の向上、感度の向上、および該パネルによ
り得られる画像の画質の向上など諸特性のWJ−yfな
向上を実現するものである。
従来においては一般に、蛍光体粒子を分散してなる結合
剤溶液O1!血液)を通常の塗布方法によって支持体上
に塗布乾燥して蛍光体層を形成したのちに、この蛍光体
層表面にポリエチレンテレフタレートなどの高分子物質
からなる透明な薄膜を接着剤を用いて接着することによ
り、保護膜の付設が行なわれていた0本発明においては
、蛍光体粒子を分散してなる塗布液と蛍光体粒子を含ま
ない結合剤溶液とを6に塗布液を支持体側に配置して同
時に支持体上に(あるいは、別の平面シート上に)気層
して塗布することにより、蛍光体N!j8よび保護膜を
−IPLの塗布操作で同時に形成することができる。従
って、従来のように蛍光体層上にざらに保護膜を設ける
必要がなく、放射線像変換パネルの製造工程を筒略化す
ることができる。
剤溶液O1!血液)を通常の塗布方法によって支持体上
に塗布乾燥して蛍光体層を形成したのちに、この蛍光体
層表面にポリエチレンテレフタレートなどの高分子物質
からなる透明な薄膜を接着剤を用いて接着することによ
り、保護膜の付設が行なわれていた0本発明においては
、蛍光体粒子を分散してなる塗布液と蛍光体粒子を含ま
ない結合剤溶液とを6に塗布液を支持体側に配置して同
時に支持体上に(あるいは、別の平面シート上に)気層
して塗布することにより、蛍光体N!j8よび保護膜を
−IPLの塗布操作で同時に形成することができる。従
って、従来のように蛍光体層上にざらに保護膜を設ける
必要がなく、放射線像変換パネルの製造工程を筒略化す
ることができる。
また1本発明の!Ii造方法においては、蛍光体層およ
び保護膜形成のための両p#、!I’2が同時に乾燥、
形成されるから、従来よりも保護膜と蛍光体層との密着
強度を高めることができ、接着剤層の劣化により保護膜
が蛍光体層から剥離するといった問題が生じることもな
い。
び保護膜形成のための両p#、!I’2が同時に乾燥、
形成されるから、従来よりも保護膜と蛍光体層との密着
強度を高めることができ、接着剤層の劣化により保護膜
が蛍光体層から剥離するといった問題が生じることもな
い。
さらに、本発明によって製造される放射線像変換パネル
は接着剤層の付設による界面が形成されることがないの
で、従来のパネルよりも励起光の散乱を減少させること
ができ、鮮鋭度および粒状性など画質の向上した画像を
得ることができる。
は接着剤層の付設による界面が形成されることがないの
で、従来のパネルよりも励起光の散乱を減少させること
ができ、鮮鋭度および粒状性など画質の向上した画像を
得ることができる。
同時に、その界面での蛍光の散乱も生じることがないか
ら、画質の向上とともに感度も増大させることができる
。
ら、画質の向上とともに感度も増大させることができる
。
そして、従来においては保MMの付設(ラミネート)に
際して蛍光体暦表面に塵埃が付着しがちであり、付設操
作に注意衛要していたが1本発明においてはこのような
問題が生じることがない。
際して蛍光体暦表面に塵埃が付着しがちであり、付設操
作に注意衛要していたが1本発明においてはこのような
問題が生じることがない。
このことによっても高画質の画像を得ることが容易とな
る。
る。
[発明の構成]
以上述べたような好ましい特性をもった放射線像変換パ
ネルは、たとえば1次に述べるような末完Ijlの製造
法番こより製造することができる。
ネルは、たとえば1次に述べるような末完Ijlの製造
法番こより製造することができる。
すなわち、本発明の特徴的な要件である蛍光体層および
保護膜の形成は、たとえば1次のようにして行なうこと
ができる。
保護膜の形成は、たとえば1次のようにして行なうこと
ができる。
まず、蛍光体層形成のために、輝尽性蛍光体粒子が結合
剤溶液中に均一に分散された塗布液(I)を調製する。
剤溶液中に均一に分散された塗布液(I)を調製する。
輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した後
、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、
χ用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にあ
る励起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽
発光を示す蛍光体であることが望ましい、放射ii像変
換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては。
、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、
χ用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にあ
る励起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽
発光を示す蛍光体であることが望ましい、放射ii像変
換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては。
米国特許第3.859.527号明細書に記載されてい
るSrS:Ce、Sm、SrS:Eu。
るSrS:Ce、Sm、SrS:Eu。
Sm、Th02 : E r、およびI、a202s’
:Eu、Sm。
:Eu、Sm。
特開昭55−12142号公報に記載されているZnS
:Cu、Pb、Ba0exA1203:Eu(ただし、
08≦X≦10)、および、M”0−XSiO2:A(
ただし1M菫はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、または
Baであり、AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、TQ
、Bi。
:Cu、Pb、Ba0exA1203:Eu(ただし、
08≦X≦10)、および、M”0−XSiO2:A(
ただし1M菫はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、または
Baであり、AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、TQ
、Bi。
またはM n テあり、Xは、0.5≦X≦2,5であ
る)、 特開昭55−12143号公報に記載されている(Ba
s−x−y、Mgx、Cay)FX:a E u 9(
ただし、XはC1およびBrのうちの少なくとも一つで
あり、Xおよびyは、O<x+y≦0.6.かつxy#
0であり、aは、10′≦a≦5XIQ4である)、 特開昭55−12144号公報に記載されているLnO
X:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、およびLu
のうちの少なくとも一つ、Xは0隻およびBrのうちの
少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少なくと
も一つ、そして、Xは、0<x<0.1である)、 特開昭55−12145号公報に記載されている(B
& I−x 、 M”X) FX : 7 A (ただ
し、M′はMg、Ca、S r、Zn、およびCdのう
ちの少なくとも一つ、XはC1、Br、およびIのうち
の少なくとも一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy
、Pr、Ha、Nd、yb、およびErのうちの少なく
とも一つ、そしてXは、O≦X≦o、s、yは、0≦y
≦0,2である)、特開昭55−160078号公報に
記載されているM’FX−xA: yLn [ただし1
M舅はBa、Ca、S r、Mg、Zn、およびCdの
うちの少なくとも一種、AはBed、MgO,CaO,
SrO,Bad、Zr+O,Al2O3,Y2O3、L
a2O3,In2O3,5i02.TiO2、Z r0
2、GeO2、S n 02、Nb2O5、T a 2
05 、およびTh02(7)うちの少なくとも一種、
LnはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、H−o、
Nd、 Yb、Er、 Sm、およびGdのうちの少な
くとも一種、又は0文。
る)、 特開昭55−12143号公報に記載されている(Ba
s−x−y、Mgx、Cay)FX:a E u 9(
ただし、XはC1およびBrのうちの少なくとも一つで
あり、Xおよびyは、O<x+y≦0.6.かつxy#
0であり、aは、10′≦a≦5XIQ4である)、 特開昭55−12144号公報に記載されているLnO
X:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、およびLu
のうちの少なくとも一つ、Xは0隻およびBrのうちの
少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうちの少なくと
も一つ、そして、Xは、0<x<0.1である)、 特開昭55−12145号公報に記載されている(B
& I−x 、 M”X) FX : 7 A (ただ
し、M′はMg、Ca、S r、Zn、およびCdのう
ちの少なくとも一つ、XはC1、Br、およびIのうち
の少なくとも一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy
、Pr、Ha、Nd、yb、およびErのうちの少なく
とも一つ、そしてXは、O≦X≦o、s、yは、0≦y
≦0,2である)、特開昭55−160078号公報に
記載されているM’FX−xA: yLn [ただし1
M舅はBa、Ca、S r、Mg、Zn、およびCdの
うちの少なくとも一種、AはBed、MgO,CaO,
SrO,Bad、Zr+O,Al2O3,Y2O3、L
a2O3,In2O3,5i02.TiO2、Z r0
2、GeO2、S n 02、Nb2O5、T a 2
05 、およびTh02(7)うちの少なくとも一種、
LnはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、H−o、
Nd、 Yb、Er、 Sm、およびGdのうちの少な
くとも一種、又は0文。
Br、および工のうちの少なくとも一種であり、Xおよ
びyはそれぞれ5X1(1’≦X≦0.5、および0<
7≦02である]の組成式で表わされる蛍光体。
びyはそれぞれ5X1(1’≦X≦0.5、および0<
7≦02である]の組成式で表わされる蛍光体。
特開昭56−116777号公報に記載されている(B
a+−)(、M”x)F2*aBaX2:yEu、zA
[ただし1M11はへIJ IJ SF /a、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカ
ドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、お
よび沃素のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムお
よびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、a、
x、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.0
≦X≦1.10−≦y≦2X10−’、および0<z≦
107である]の組成式で表わされる蛍光体。
a+−)(、M”x)F2*aBaX2:yEu、zA
[ただし1M11はへIJ IJ SF /a、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛、およびカ
ドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素、臭素、お
よび沃素のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムお
よびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、a、
x、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.0
≦X≦1.10−≦y≦2X10−’、および0<z≦
107である]の組成式で表わされる蛍光体。
特開昭57−23673号公報に記載されている (
Ba I−x 、M”x) F2 * a
BaX2 :yEu、zB[ただし Mlはベリリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛
、およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素
、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種であり、a
、x、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.
0≦X≦1.10−≦y≦2×10−’、および0<z
≦2XlO−’t’ある〕の組成式で表わされる蛍光体
。
Ba I−x 、M”x) F2 * a
BaX2 :yEu、zB[ただし Mlはベリリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、亜鉛
、およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素
、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種であり、a
、x、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.
0≦X≦1.10−≦y≦2×10−’、および0<z
≦2XlO−’t’ある〕の組成式で表わされる蛍光体
。
特開昭57−23675吟公報に記載されている(Ba
l−3(、M”x)F2*aBaX2:yEu、zA[
ただし1M厘はベリリウム、マグネ/ラム、カルシウム
、ストロンチウム、亜鉛。
l−3(、M”x)F2*aBaX2:yEu、zA[
ただし1M厘はベリリウム、マグネ/ラム、カルシウム
、ストロンチウム、亜鉛。
およびカトミウノ、のうちの少なくとも一種、Xは)i
!素、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種、Aは
砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、a、x
、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.0≦
X≦i、to′≦Y≦2×10−1、およびO<z≦5
XlO−1である]の組成式で表わされる蛍光体。
!素、臭素、および沃素のうちの少なくとも一種、Aは
砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、a、x
、y、および2はそれぞれ0.5≦a≦1.25.0≦
X≦i、to′≦Y≦2×10−1、およびO<z≦5
XlO−1である]の組成式で表わされる蛍光体。
特開昭58−69281r+公報に記載されているM”
OX : xCe [ただし M”はPr、Nd、Pm
、Sm、Eu、’rb、Dy、Ho、Er。
OX : xCe [ただし M”はPr、Nd、Pm
、Sm、Eu、’rb、Dy、Ho、Er。
Tm、Yb、およびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種の三価金属であり、Xは0文およびBrのうち
のいずれか一方あるいはその両方であり、Xは0<x<
0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されて、いるB
a+−xMxwLx/2FX : yE u” [た
だし1MはLl、Na、に、Rb、およびCsからなる
群より遭ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし
;Lは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、S
m、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、 Tm、 Yb、
Lu、 AM、Ga、In、および1文からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし;Xは、
CQ、、Br、およびIからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロケンを表わし:そして、Xは104≦X
≦0.5、yはOくy≦0.1である]の組成式で表わ
される蛍光体。
とも一種の三価金属であり、Xは0文およびBrのうち
のいずれか一方あるいはその両方であり、Xは0<x<
0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されて、いるB
a+−xMxwLx/2FX : yE u” [た
だし1MはLl、Na、に、Rb、およびCsからなる
群より遭ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし
;Lは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、S
m、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、 Tm、 Yb、
Lu、 AM、Ga、In、および1文からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし;Xは、
CQ、、Br、およびIからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロケンを表わし:そして、Xは104≦X
≦0.5、yはOくy≦0.1である]の組成式で表わ
される蛍光体。
特開昭59−27980号公報に記載されているBaF
X・xA: yEu2+[ただし、Xは、C1,Er、
および■からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲノであり;Aは、テトラフルオロホウ酸化合物の焼成
物であり;そして、XはlO1≦X≦o、i、yはO<
7≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59’ −47289号公報に記載されているB
aFX−xA : yE u2+[ただし、Xは、C
1,Br、およびIからなる群より選ばれる少なくとも
一種のハロゲンでありzAは、ヘキザフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニ
ウム酸の一価もしくは三価金属の塩からなるヘキサフル
オロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼
成物であり;そして、Xは10′≦X≦0.1、yはO
<7≦0.1である]のMi威式で表わされる蛍光体、
特開昭59−56479号公報に記載されているBaF
X−xNaX’:aEu′[ただし、XおよびX゛は、
それぞれCff1.Br、およびIのうちの少なくとも
一種であり、XおよびaはそれぞれO<x≦2、および
Ova≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体。
X・xA: yEu2+[ただし、Xは、C1,Er、
および■からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲノであり;Aは、テトラフルオロホウ酸化合物の焼成
物であり;そして、XはlO1≦X≦o、i、yはO<
7≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59’ −47289号公報に記載されているB
aFX−xA : yE u2+[ただし、Xは、C
1,Br、およびIからなる群より選ばれる少なくとも
一種のハロゲンでありzAは、ヘキザフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニ
ウム酸の一価もしくは三価金属の塩からなるヘキサフル
オロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼
成物であり;そして、Xは10′≦X≦0.1、yはO
<7≦0.1である]のMi威式で表わされる蛍光体、
特開昭59−56479号公報に記載されているBaF
X−xNaX’:aEu′[ただし、XおよびX゛は、
それぞれCff1.Br、およびIのうちの少なくとも
一種であり、XおよびaはそれぞれO<x≦2、および
Ova≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体。
特開昭59−56480号公報に記載されているM’F
XIIxNaX’:yEu”: zA [ただしMWは
、Ba、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ土類金属であり:XおよびXoは
、それぞれC見、Br、およびIかうなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンチあり、Aは、V、Cr、
Mn、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なくとも
一種の遷移金属であり;そして、Xは0<X≦2.7は
o<y≦0.2、および2はQ<z≦10′である]の
組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM”F
Xa aM’X’ a bM’ ”X”2・CM”X”
’39xA : y E u” [ただし、M厘はBa
、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり、 M XはLi、Na
、に、Rb、およびCsからなる群より2ばれる少なく
とも一種のアルカリ金属であり、 M ’ IはBeお
よびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価
金属であり、 M xはA文、Ga、In、およびTQ
からなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り;Aは金属酸化物であり;XはC見、Br、および■
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X’、x”、およびX″°は、F、C見、Br、お
よび工からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり:そして、aはO≦a≦2、bはO≦b≦10
−”、CはO≦C≦104゜かツh + b + c≧
to4−C’あり、XはO<x≦05、yは0<7≦0
.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 などを挙げることができる。
XIIxNaX’:yEu”: zA [ただしMWは
、Ba、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ土類金属であり:XおよびXoは
、それぞれC見、Br、およびIかうなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンチあり、Aは、V、Cr、
Mn、Fe、Co、およびNiより選ばれる少なくとも
一種の遷移金属であり;そして、Xは0<X≦2.7は
o<y≦0.2、および2はQ<z≦10′である]の
組成式で表わされる蛍光体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM”F
Xa aM’X’ a bM’ ”X”2・CM”X”
’39xA : y E u” [ただし、M厘はBa
、Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり、 M XはLi、Na
、に、Rb、およびCsからなる群より2ばれる少なく
とも一種のアルカリ金属であり、 M ’ IはBeお
よびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価
金属であり、 M xはA文、Ga、In、およびTQ
からなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り;Aは金属酸化物であり;XはC見、Br、および■
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X’、x”、およびX″°は、F、C見、Br、お
よび工からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり:そして、aはO≦a≦2、bはO≦b≦10
−”、CはO≦C≦104゜かツh + b + c≧
to4−C’あり、XはO<x≦05、yは0<7≦0
.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 などを挙げることができる。
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活ア
ルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体および島土類
元素賦活島土類すキシハロゲン化物系蛍光体は高輝度の
輝尽発光を示すので特に好ましい、ただし、本発明に用
いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもので
はなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場合
に、輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであっ
てもよい。
ルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体および島土類
元素賦活島土類すキシハロゲン化物系蛍光体は高輝度の
輝尽発光を示すので特に好ましい、ただし、本発明に用
いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもので
はなく、放射線を照射したのちに励起光を照射した場合
に、輝尽発光を示す蛍光体であればいかなるものであっ
てもよい。
蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、
デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴ
ムのような天然高分子物質;および、ポリビ÷ルブチラ
ール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセル
ロース1塩化ビニリデン@塩化ビニルコポリマー、ポリ
アルキル(メタ)アクリレート、1!!化ビニルΦ酢酸
ビニルコポリ1− ポリウレタン、セルロースアセテー
トブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ルなどような合成高分子物質などにより代表される結合
剤を挙げることができる。このような結合剤のなかで特
に好ましいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステ
ル、ポリアルキル(メタ)アクリレート、ニトロセルロ
ースと線状ポリエステルとの混合物およびニトロセルロ
ースとポリアルキル(メタ)アクリレートとの混合物で
ある。
デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴ
ムのような天然高分子物質;および、ポリビ÷ルブチラ
ール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセル
ロース1塩化ビニリデン@塩化ビニルコポリマー、ポリ
アルキル(メタ)アクリレート、1!!化ビニルΦ酢酸
ビニルコポリ1− ポリウレタン、セルロースアセテー
トブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ルなどような合成高分子物質などにより代表される結合
剤を挙げることができる。このような結合剤のなかで特
に好ましいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステ
ル、ポリアルキル(メタ)アクリレート、ニトロセルロ
ースと線状ポリエステルとの混合物およびニトロセルロ
ースとポリアルキル(メタ)アクリレートとの混合物で
ある。
なお、これらの結合剤は架橋剤によって架橋されたもの
であってもよい。
であってもよい。
塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノール、エタノ
ール、n−プロパツール、n−フタノールなどの低級ア
ルコール;メチレングロライト、エチレンクロライドな
どの111素原子含有炭化水素:アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低
級アルコールとのエステル:ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテルなどのエーテル:そして、それらの混合物
を挙げることができる。
ール、n−プロパツール、n−フタノールなどの低級ア
ルコール;メチレングロライト、エチレンクロライドな
どの111素原子含有炭化水素:アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低
級アルコールとのエステル:ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテルなどのエーテル:そして、それらの混合物
を挙げることができる。
塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目
的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類など
によって+Aなるが、一般には結合剤と蛍光体との混合
比は、1:1乃至1:1OO(東間比)の範囲から選ば
れ、そして特に1:8乃至L : 40 (@、i比)
の範囲から選ぶことが好ましい。
的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類など
によって+Aなるが、一般には結合剤と蛍光体との混合
比は、1:1乃至1:1OO(東間比)の範囲から選ば
れ、そして特に1:8乃至L : 40 (@、i比)
の範囲から選ぶことが好ましい。
なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体の分散性
を向−ヒさせるための分散剤、また、形成後の蛍光体層
中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させる
ための可塑剤などの種々の添加剤が混合されていてもよ
い、そのような目的に用いられる分1ヤ剤の例としては
、フタル醜、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活
性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例とし
ては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフ
ェニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル
酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エステル:グリコー
ル酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリ
ルブチルなどのグリコール酸エステル、そして、トリエ
チレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルなどのポ
リエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステ
ルなどを挙げることができる。
を向−ヒさせるための分散剤、また、形成後の蛍光体層
中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させる
ための可塑剤などの種々の添加剤が混合されていてもよ
い、そのような目的に用いられる分1ヤ剤の例としては
、フタル醜、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活
性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例とし
ては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフ
ェニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル
酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エステル:グリコー
ル酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリ
ルブチルなどのグリコール酸エステル、そして、トリエ
チレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルなどのポ
リエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステ
ルなどを挙げることができる。
さらに、塗布液には、画像の鮮鋭度を向上させる目的で
、輝尽性蛍光体の励起光波長領域における平均反射率が
、輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領域における平均反射率
よりも小さいような反射特性を有する着色剤が含有され
ていてもよい、そのような着色剤としては、たとえば、
特開昭55−163500号公報および特開昭57−9
6300号公報に開示されているような着色剤を挙げる
ことがでjる。あるい1よ 回し、ど画像の鮮鋭度を向
」ニさせる[1的で、塗III液には特開昭55−14
6447号公報に記載されているような白色粉体が含有
されていてもよい。
、輝尽性蛍光体の励起光波長領域における平均反射率が
、輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領域における平均反射率
よりも小さいような反射特性を有する着色剤が含有され
ていてもよい、そのような着色剤としては、たとえば、
特開昭55−163500号公報および特開昭57−9
6300号公報に開示されているような着色剤を挙げる
ことがでjる。あるい1よ 回し、ど画像の鮮鋭度を向
」ニさせる[1的で、塗III液には特開昭55−14
6447号公報に記載されているような白色粉体が含有
されていてもよい。
次に、保護膜形成のために、結合剤のみを適当な溶剤に
溶解した塗布液CU)を調製する。
溶解した塗布液CU)を調製する。
結合剤としては 上記の蛍光体層形成のための塗布液(
I)に用いられる結合剤の他に、セルロース誘導体、ポ
リm化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルホルマ
ール、メラミン、フェノール樹脂、エボキン樹脂などを
挙げることができる。ただし1本光明の同時重FF!塗
布により蛍光体層と同時に保護膜を形成するためには、
塗布液(II)に用いられる結合剤は、塗布液CI)に
用いられる結合剤に対して相溶性のない結合剤である必
要がある。また、放射線像変換パネル表面の防傷性など
の点からは塗布液(II)の結合剤は比較的硬いもので
あることが好ましい。
I)に用いられる結合剤の他に、セルロース誘導体、ポ
リm化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルホルマ
ール、メラミン、フェノール樹脂、エボキン樹脂などを
挙げることができる。ただし1本光明の同時重FF!塗
布により蛍光体層と同時に保護膜を形成するためには、
塗布液(II)に用いられる結合剤は、塗布液CI)に
用いられる結合剤に対して相溶性のない結合剤である必
要がある。また、放射線像変換パネル表面の防傷性など
の点からは塗布液(II)の結合剤は比較的硬いもので
あることが好ましい。
溶剤としては、」−記の’Nll1府(I)に用いられ
る溶剤を用いることができ、qit液(I)の溶剤と同
一であってもよいし、あるいは異なっていてもよい、た
だし、塗布液(1)および(I[)が毛屑されてなる塗
膜の乾燥速度を一致させることが望ましく、そのために
は互いに相溶性のある溶剤を用いるのが望ましい。
る溶剤を用いることができ、qit液(I)の溶剤と同
一であってもよいし、あるいは異なっていてもよい、た
だし、塗布液(1)および(I[)が毛屑されてなる塗
膜の乾燥速度を一致させることが望ましく、そのために
は互いに相溶性のある溶剤を用いるのが望ましい。
さらに、塗布液(n)には上記塗布液(I)に用いられ
る各種の分散剤、可塑剤、着色剤などが含有されていて
もよい。
る各種の分散剤、可塑剤、着色剤などが含有されていて
もよい。
次いで、上記のようにして調製された塗布液(I)と塗
布液(II)とを、塗布液(I)を支持体側に配置して
支持体の表面に均一に、同時に重層塗布することにより
塗布液の塗膜を形成する。
布液(II)とを、塗布液(I)を支持体側に配置して
支持体の表面に均一に、同時に重層塗布することにより
塗布液の塗膜を形成する。
この塗布操作は、たとえば、二連式ホッパー型塗布装置
を用いることにより行なうことができる。
を用いることにより行なうことができる。
塗布液(lおよび塗布液(I[)の塗布量は。
目的とする放射線像変換パネルの特性、塗布液の粘度、
結合剤と蛍光体との混合比などによって異なるが1通常
は100:l乃至1:l(体積比)の範囲から選ばれ、
好ましくは10:1乃至1゜1の範囲である。
結合剤と蛍光体との混合比などによって異なるが1通常
は100:l乃至1:l(体積比)の範囲から選ばれ、
好ましくは10:1乃至1゜1の範囲である。
同時重層塗布した後、支持体側の塗布液(r)の塗膜お
よびその上に形成、、!れた塗布液(II)の塗膜を徐
々に加熱することにより乾燥し、支持体上への蛍光体層
および保護膜の形成を完了する。
よびその上に形成、、!れた塗布液(II)の塗膜を徐
々に加熱することにより乾燥し、支持体上への蛍光体層
および保護膜の形成を完了する。
このようにして支持体上には、支持体側の蛍光体粒子を
分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍光体層と、そ
の」−に設けられた蛍光体粒子を含まない結合剤からな
る保護膜が形成される。
分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍光体層と、そ
の」−に設けられた蛍光体粒子を含まない結合剤からな
る保護膜が形成される。
蛍光体層および保護膜は、必ずしも上記のように支持体
上に塗布液を11接塗布して形成する必要はなく、たと
えば、別にカラス板、金属板、プラスチックシートなど
の1i面シートの上に塗布液を−[二連のようにして同
ll¥:]’「に+ * diすることにより蛍光体層
および保護膜を形成し、た後、これを支持体−ヒに押圧
するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光
体層および保護膜とを接合してもよい、この場合に、塗
41液(I)と塗布液(ff)は所望とする放射線像変
換パネルの特性、塗布条件などに応じて どもりを+z
面シート偏に配置して重層塗布を行なってもよい。
上に塗布液を11接塗布して形成する必要はなく、たと
えば、別にカラス板、金属板、プラスチックシートなど
の1i面シートの上に塗布液を−[二連のようにして同
ll¥:]’「に+ * diすることにより蛍光体層
および保護膜を形成し、た後、これを支持体−ヒに押圧
するか、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光
体層および保護膜とを接合してもよい、この場合に、塗
41液(I)と塗布液(ff)は所望とする放射線像変
換パネルの特性、塗布条件などに応じて どもりを+z
面シート偏に配置して重層塗布を行なってもよい。
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特
性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによ
って異なるが1通常は20ALm乃至1mmとする。た
だし、この層厚は50乃至5004mとするのが好まし
い、また、保護膜の膜厚は約3乃至20gmとするのが
好ましい、なお、一般に蛍光体層の層厚と保護膜の膜厚
との比率は100:1〜5:1の範囲にあるのが好まし
い。
性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによ
って異なるが1通常は20ALm乃至1mmとする。た
だし、この層厚は50乃至5004mとするのが好まし
い、また、保護膜の膜厚は約3乃至20gmとするのが
好ましい、なお、一般に蛍光体層の層厚と保護膜の膜厚
との比率は100:1〜5:1の範囲にあるのが好まし
い。
本発明において使用する支持体は、従来の放射線写真法
における増感紙の支持体として用いられている各種の材
料あるいは放射線像変換パネルの支持体として公知の各
種の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の例としては、セルロースアセテート、ポリエステル、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
、トリアセテート、ポリカーボネートなどのプラスチッ
ク物質のフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金
箔などの金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグメント
紙、ポリビニルアルコールなどをサイジングした紙など
を挙げることができる。ただし、放射線像変換パネルの
情報記録材料としての特性および取扱いなどを考慮した
場合、本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチックフィルムである。このプラスチックフィルムに
はカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り込まれて
いてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質
が練り込まれていてもよい。
における増感紙の支持体として用いられている各種の材
料あるいは放射線像変換パネルの支持体として公知の各
種の材料から任意に選ぶことができる。そのような材料
の例としては、セルロースアセテート、ポリエステル、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド
、トリアセテート、ポリカーボネートなどのプラスチッ
ク物質のフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金
箔などの金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグメント
紙、ポリビニルアルコールなどをサイジングした紙など
を挙げることができる。ただし、放射線像変換パネルの
情報記録材料としての特性および取扱いなどを考慮した
場合、本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチックフィルムである。このプラスチックフィルムに
はカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り込まれて
いてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質
が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度夕ずプの放射線像変換パネルに適した支
持体であり、後渚は高感度タイプの放射線像変換パネル
に適した支持体である。
持体であり、後渚は高感度タイプの放射線像変換パネル
に適した支持体である。
公知の放射iI像変換パネルにおいては、支持体と蛍光
体層の結合を強化するため あるいは放射線像変換パネ
ルとしでの感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向に
させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に
ゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着仕付rf一層
としたり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質か
らなる光反射層 もしくはカーボンブラックなどの光吸
収性物質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これらの各
種の層を設りることができる。
体層の結合を強化するため あるいは放射線像変換パネ
ルとしでの感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向に
させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面に
ゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着仕付rf一層
としたり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質か
らなる光反射層 もしくはカーボンブラックなどの光吸
収性物質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これらの各
種の層を設りることができる。
さらに、特開昭58−200200号公報に記載されて
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で
、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍光体層側の表
面に接着性付与層、光反射層あるいは光吸収層などが設
けられている場合には、その表面を意味する)には、微
細な凹凸が均質に形成されていてもよい。
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で
、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍光体層側の表
面に接着性付与層、光反射層あるいは光吸収層などが設
けられている場合には、その表面を意味する)には、微
細な凹凸が均質に形成されていてもよい。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの6例は本発明を制限するものではない
、なお、以下の6例で「部」は特に記載のない限り[重
量部」を表わす。
、なお、以下の6例で「部」は特に記載のない限り[重
量部」を表わす。
[実施例1]
ポリアクリル樹脂A(クリスコートP−+018Gs。
大日本イノキ化学工業株製)およびポリアクリル樹脂B
(ダイヤナールBR−107、三菱レイヨン補装)をメ
チルエチルケトンに溶解してポリアクリル樹脂溶液を調
製した。また、ニトロセルロース(R3120、ダイセ
ル化学工X:麹製)をメチルエチルケトンに溶解してニ
トロセルロース溶液を調製した。
(ダイヤナールBR−107、三菱レイヨン補装)をメ
チルエチルケトンに溶解してポリアクリル樹脂溶液を調
製した。また、ニトロセルロース(R3120、ダイセ
ル化学工X:麹製)をメチルエチルケトンに溶解してニ
トロセルロース溶液を調製した。
輝尽性の二価ニーaピウム賦活弗化臭化バリウム蛍光体
(B aFB r : Eu”)の粒子をメチルエチル
ケトンに分散したのち、この分散液に上記ポリアクリル
樹脂溶液およびニトロセルロース溶液を加え、さらにJ
VnCa料; PB−100,m−化成工業補装)およ
び燐酸トリクレジルを添加し、プロペラミキサーを用い
て蛍光体が均一に分散した塗7a液(■)祭調製した。
(B aFB r : Eu”)の粒子をメチルエチル
ケトンに分散したのち、この分散液に上記ポリアクリル
樹脂溶液およびニトロセルロース溶液を加え、さらにJ
VnCa料; PB−100,m−化成工業補装)およ
び燐酸トリクレジルを添加し、プロペラミキサーを用い
て蛍光体が均一に分散した塗7a液(■)祭調製した。
別に、ポリウレタノ樹脂(パップ−/ クスT−527
5五、大「1本インし化学工業補装)、塩化ビニル書酢
酸ビニル共玉合体(υCAR5olution Vin
yl VYHH、Union Carbide Car
p、 M)8よび燐酸トリフ、zニルをメチルエチルケ
トンに添加し、プロペラミキサーを用いて均一に混合し
て塗布液(ff)を調製した。りI(i液(1)および
塗布液(ff)の組成を下記に示す。
5五、大「1本インし化学工業補装)、塩化ビニル書酢
酸ビニル共玉合体(υCAR5olution Vin
yl VYHH、Union Carbide Car
p、 M)8よび燐酸トリフ、zニルをメチルエチルケ
トンに添加し、プロペラミキサーを用いて均一に混合し
て塗布液(ff)を調製した。りI(i液(1)および
塗布液(ff)の組成を下記に示す。
/11液(1)の組成
りaFBr+Eu2+蛍光体 900 部ポリ
アクリル樹1石A 67.5部ポリア
クリル樹脂B 10.5部ニトロセル
ロース 4,5部燐酸トリクレジル
1.5部群青
0.0585部メチルエチルケトン
257 部、布 ■ の ポリウレタン樹脂 14 部m化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体 24,8部燐酸トリフェ
ニル 1.2部メチルエチルケトン
360 邪法に、カーボン練り込み
ポリエチレンテレフタレートンート(支持体、厚み:2
50川m)用ガラス板上に水平に置いて、塗布液CI)
および塗布液(II)をi1図に示すような二連式ホッ
パー型塗布装置を用いて、支持体上に同時に重li#塗
布した。
アクリル樹1石A 67.5部ポリア
クリル樹脂B 10.5部ニトロセル
ロース 4,5部燐酸トリクレジル
1.5部群青
0.0585部メチルエチルケトン
257 部、布 ■ の ポリウレタン樹脂 14 部m化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体 24,8部燐酸トリフェ
ニル 1.2部メチルエチルケトン
360 邪法に、カーボン練り込み
ポリエチレンテレフタレートンート(支持体、厚み:2
50川m)用ガラス板上に水平に置いて、塗布液CI)
および塗布液(II)をi1図に示すような二連式ホッ
パー型塗布装置を用いて、支持体上に同時に重li#塗
布した。
すなわち、第1図において、二連式ホッパー型塗布装置
lの右側導入部2には塗布液(I)を注入し、左側導入
部3には塗布液(II)を導入した。導入部l、2の下
部開EJ部の長さはそれぞれ0.500rnmおよび0
.150m+nとした。
lの右側導入部2には塗布液(I)を注入し、左側導入
部3には塗布液(II)を導入した。導入部l、2の下
部開EJ部の長さはそれぞれ0.500rnmおよび0
.150m+nとした。
支持体5の置かれたガラス板4を矢印8の方向に1.0
m/分の速度で移動させながら、下部開口部から塗布液
(1)および(]IIを支持体5上に同時に重層塗布し
て、塗布液(I)の塗II!26および?#布液(H>
の塗膜7を形成した。
m/分の速度で移動させながら、下部開口部から塗布液
(1)および(]IIを支持体5上に同時に重層塗布し
て、塗布液(I)の塗II!26および?#布液(H>
の塗膜7を形成した。
そして塗IIj後に、塗膜の形成された支持体を乾燥器
内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃から100
℃に徐々に」二外させて50分間塗膜の乾疑を行なった
。このようにして、支持体、蛍光体層および透明保、l
I膜から構成された放射線像変換パネルを製造した。
内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃から100
℃に徐々に」二外させて50分間塗膜の乾疑を行なった
。このようにして、支持体、蛍光体層および透明保、l
I膜から構成された放射線像変換パネルを製造した。
この放射線像変換パネルの蛍光体層について走査型電子
顕微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体上には、
蛍光体粒子を高密度で含有する蛍光体層と透明な保護膜
とが境界面を有して設けられていることが明らかであっ
た。また、断面写真からユi?光体層の層厚は約350
pmであり1保A〜IIQの膜厚は約フルmであった
。
顕微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体上には、
蛍光体粒子を高密度で含有する蛍光体層と透明な保護膜
とが境界面を有して設けられていることが明らかであっ
た。また、断面写真からユi?光体層の層厚は約350
pmであり1保A〜IIQの膜厚は約フルmであった
。
[比較例1]
実施例1において、実施例1の塗布液CI)のみを用い
二連式ホッパー5塗布装置の導入部1(下部開口部の
長さ+ 0.500mm)のみを使用すること以外は、
実施例1と同様の方法により支持体上に層厚が約350
ルmの蛍光体層を形成した。
二連式ホッパー5塗布装置の導入部1(下部開口部の
長さ+ 0.500mm)のみを使用すること以外は、
実施例1と同様の方法により支持体上に層厚が約350
ルmの蛍光体層を形成した。
次いで、この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレー
トの透明フィルム(保3ff膜、厚み=7gm、ポリエ
ステル系接着剤が付与されているもの)を接着剤層側を
下に向けて置いて90〜100℃の加熱ロールを用いて
圧着することにより、透明保護膜を付設し、支持体、蛍
光体層および透明保護膜から構成された放射線像変換パ
ネル紮製造した。
トの透明フィルム(保3ff膜、厚み=7gm、ポリエ
ステル系接着剤が付与されているもの)を接着剤層側を
下に向けて置いて90〜100℃の加熱ロールを用いて
圧着することにより、透明保護膜を付設し、支持体、蛍
光体層および透明保護膜から構成された放射線像変換パ
ネル紮製造した。
実施例1および比較例1で得られた各放射線像変換パネ
ルを1次に記載する画像鮮鋭度試験、画像粒状性試験、
感度試験および密着強度試験により評価した。
ルを1次に記載する画像鮮鋭度試験、画像粒状性試験、
感度試験および密着強度試験により評価した。
(1)画像鮮鋭度試験
放射線像変換パネルに、管電圧80KVpのX線をMT
Fチャートを通して照射したのち、He−Neレーザー
光(波i:632.8nm)で走査して蛍光体粒子を励
起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器(分光
感度S 5の光電子増倍管)で受光して電気信号にf
換し、これを画像再生装置によって画像としてtip生
して表示装置にMTFチャートの画像を得た。得られた
画像より変調伝達関数(MTF)を測定し、空間周波数
2サイクル/ m mにおけるMTF値で表示した。
Fチャートを通して照射したのち、He−Neレーザー
光(波i:632.8nm)で走査して蛍光体粒子を励
起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器(分光
感度S 5の光電子増倍管)で受光して電気信号にf
換し、これを画像再生装置によって画像としてtip生
して表示装置にMTFチャートの画像を得た。得られた
画像より変調伝達関数(MTF)を測定し、空間周波数
2サイクル/ m mにおけるMTF値で表示した。
(2)画像粒状性試験
放射線像変換パネルに、管電圧80KVp、線Iij
l f) rn RノX線を1μ射したのち、He−N
eレーザー光(波長:632.8nm)で走査して蛍光
体粒子を励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光セ受
光器(分光感iff S −5の光電子増倍管)で受光
して電気信号に変換し、これをフィルムスキャナーによ
って通常の写真フィルムに記録し、得られた画像の粒状
度を写真濃度D= 1.2.空間周波数0.4〜5本/
m mにおけるRMS値で表示した。
l f) rn RノX線を1μ射したのち、He−N
eレーザー光(波長:632.8nm)で走査して蛍光
体粒子を励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光セ受
光器(分光感iff S −5の光電子増倍管)で受光
して電気信号に変換し、これをフィルムスキャナーによ
って通常の写真フィルムに記録し、得られた画像の粒状
度を写真濃度D= 1.2.空間周波数0.4〜5本/
m mにおけるRMS値で表示した。
(3)感度試験
放射線像変換パネルに、管電圧80KVpのX線を照射
したのち、He−Neレーザー光(波長・632.8n
m)で励起して感度を測定した。
したのち、He−Neレーザー光(波長・632.8n
m)で励起して感度を測定した。
(4)密着強度試験
放射線像変換パネルを幅100mmに裁断した試験片の
蛍光体層と保護膜との界面に切り込みを入れた。そして
、このように調製した試験片の保護膜部分と、支持体お
よび蛍光体層部分とを引き離すように引張ることにより
密着強度を測定した。測定は、テンシロン万能型引張試
験機(東洋ボールドウィン社製のUTM−ff−20)
を用いて、引張り速度10mm/分にて層部分を互いに
直角方向に引張ること(90°剥離)により行ない、保
21J膜部分が10mm剥離した時に働いている力F(
g/cm)により密着強度を表示した。
蛍光体層と保護膜との界面に切り込みを入れた。そして
、このように調製した試験片の保護膜部分と、支持体お
よび蛍光体層部分とを引き離すように引張ることにより
密着強度を測定した。測定は、テンシロン万能型引張試
験機(東洋ボールドウィン社製のUTM−ff−20)
を用いて、引張り速度10mm/分にて層部分を互いに
直角方向に引張ること(90°剥離)により行ない、保
21J膜部分が10mm剥離した時に働いている力F(
g/cm)により密着強度を表示した。
得られた結果を第1表に示す。
第1 表
実施例1 比較例1
鮮鋭度 36.8% 35.5%粒状性
0.85X 10−” 0.70X lf
l”相対感度 127 115密着強度
130z/cm 70g/am第1表から
明らかなように1本発明に従う放射線像変換パネル(実
施例1)は、従来の放射線像変換パネル(比較例1)と
比較して感度が高く、鮮鋭度および粒状性において優れ
た画像を与え、かつ密着強度においても潰れていた。
0.85X 10−” 0.70X lf
l”相対感度 127 115密着強度
130z/cm 70g/am第1表から
明らかなように1本発明に従う放射線像変換パネル(実
施例1)は、従来の放射線像変換パネル(比較例1)と
比較して感度が高く、鮮鋭度および粒状性において優れ
た画像を与え、かつ密着強度においても潰れていた。
[実施例2]
実施例1において、結合剤としてポリアクリル樹脂の代
りにポリエステル樹脂A(バイロン30’O。
りにポリエステル樹脂A(バイロン30’O。
東洋紡MnM)およびポリエステル樹脂B(バイロン2
00、東洋紡績補装)を用いること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより。
00、東洋紡績補装)を用いること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより。
塗ンII藪(I)をA製した。
また、実施例1において 結合剤としてポリウレタン樹
脂および塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体の代りにポリ
ウレタン樹脂にツボラン5120゜日本ポリウレタン工
業−gM)およびポリアクリル樹脂(アルマテックスL
1020 、三井東圧化学株製)を用い、可塑剤として
燐酸トリフェニルの代りに燐酸トリブチルを用いること
以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことにより
、塗布液(II)を調製した。塗布液(I)および(I
I)の組成を下記に示す。
脂および塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体の代りにポリ
ウレタン樹脂にツボラン5120゜日本ポリウレタン工
業−gM)およびポリアクリル樹脂(アルマテックスL
1020 、三井東圧化学株製)を用い、可塑剤として
燐酸トリフェニルの代りに燐酸トリブチルを用いること
以外は実施例1の方法と同様の処理を行なうことにより
、塗布液(II)を調製した。塗布液(I)および(I
I)の組成を下記に示す。
1並1ユニ上A溝遣
BaFBr:Eu2+i光体 900 部ポ
リエステル樹脂A 19.8部ポリエ
ステル樹脂8 5.1部ニトロセルロ
ース 33部燐酸トリクレンル
1.8部群n
0.0585部メチルエチルケトン
233 1l121り創11[ルIU曵成 ボリウレタ7樹1tti 57 、
6部ポリアクリル樹脂 28.5部燐
酸トリブチル 1.44部メチルエ
チルケトン 312 邪法に、L記塗
布液CI)および(II)を用いること以外は実施例1
の方法と同様の処理を行なうことにより、支持体、蛍光
体層および透明保護膜から構成された放射線電変換パネ
ルを製造した。
リエステル樹脂A 19.8部ポリエ
ステル樹脂8 5.1部ニトロセルロ
ース 33部燐酸トリクレンル
1.8部群n
0.0585部メチルエチルケトン
233 1l121り創11[ルIU曵成 ボリウレタ7樹1tti 57 、
6部ポリアクリル樹脂 28.5部燐
酸トリブチル 1.44部メチルエ
チルケトン 312 邪法に、L記塗
布液CI)および(II)を用いること以外は実施例1
の方法と同様の処理を行なうことにより、支持体、蛍光
体層および透明保護膜から構成された放射線電変換パネ
ルを製造した。
この放射線像変換パネルの蛍光体層について走査型il
I子IA微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体上
には、蛍光体粒子を高密度で含有する蛍光体層と透すI
な保護膜とが境界面を有して設けられていることが51
らかであった。また、断面写真から蛍光体層の層厚は約
34811.mであり、保護i1Qの膜厚は約7川口で
あった。
I子IA微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体上
には、蛍光体粒子を高密度で含有する蛍光体層と透すI
な保護膜とが境界面を有して設けられていることが51
らかであった。また、断面写真から蛍光体層の層厚は約
34811.mであり、保護i1Qの膜厚は約7川口で
あった。
[比較例2]
比較例1において、実施例2の塗布液(r)を用いるこ
と以外は比較例1の方法と同様の処理を行なうことによ
り、支持体上に同厚の蛍光体層を形成した。
と以外は比較例1の方法と同様の処理を行なうことによ
り、支持体上に同厚の蛍光体層を形成した。
次いで、比較例1の方法と同様の方法で保護膜を圧着付
設することにより、支持体、蛍光体層および透明保護膜
から構成された放射線像変換パネルを製造した。
設することにより、支持体、蛍光体層および透明保護膜
から構成された放射線像変換パネルを製造した。
実施例2および比較例2で得られた各放射線像変換パネ
ルを前記と同様の試験により評価した。
ルを前記と同様の試験により評価した。
得られた結果を第2表に示す。
第2表
実施例2 比較例2
鮮鋭度 34.5% 33.5%粒状性
0.80X 10− 0.[15X 10−相
対感度 135 125密着強度 2
00 g/c瑠 100 g/c■第2表から明ら
かなように、本発明に従う放射線像変換パネル(実施例
2)は、従来の放射線像変換パネル(比較例2)と比較
して感度が高く、a、T説度および粒状+′1において
潰れた画像を与え、かつ密着強度においても!pれてい
た。
0.80X 10− 0.[15X 10−相
対感度 135 125密着強度 2
00 g/c瑠 100 g/c■第2表から明ら
かなように、本発明に従う放射線像変換パネル(実施例
2)は、従来の放射線像変換パネル(比較例2)と比較
して感度が高く、a、T説度および粒状+′1において
潰れた画像を与え、かつ密着強度においても!pれてい
た。
[実施例3]
実施例1において Jll′1合剤としてポリアクリル
樹脂の代りにポリウレタン樹脂(デスモラック4125
、住友バイエルウレタン林製)を用い、溶剤としてメチ
ルエチルケトンに加えてイソプロピルアルコールを用い
、かつjq塑剤として燐酸トリクレジルの代りに燐酸ト
リフェニルを用いること以外は実施例1の方法と同様の
処理を行なうことにより、塗布液(I)を調製した。
樹脂の代りにポリウレタン樹脂(デスモラック4125
、住友バイエルウレタン林製)を用い、溶剤としてメチ
ルエチルケトンに加えてイソプロピルアルコールを用い
、かつjq塑剤として燐酸トリクレジルの代りに燐酸ト
リフェニルを用いること以外は実施例1の方法と同様の
処理を行なうことにより、塗布液(I)を調製した。
また、実施例1において、結合剤としてポリウレタン樹
脂および塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体の代りにポリ
アクリル樹脂(パラロイドA−30、Rohm and
)Iaas Carp、 )および脂肪族ポリイソシ
アネート(スミジュールドア5.住友バイエルウレタン
株ffiりを用い、可塑剤として燐酸トリフェニルの代
りに燐酸トリクレジルを用いること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより、塗布液(In)を
上製した。塗布液(I)および(II )の組成を上記
に小才。
脂および塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体の代りにポリ
アクリル樹脂(パラロイドA−30、Rohm and
)Iaas Carp、 )および脂肪族ポリイソシ
アネート(スミジュールドア5.住友バイエルウレタン
株ffiりを用い、可塑剤として燐酸トリフェニルの代
りに燐酸トリクレジルを用いること以外は実施例1の方
法と同様の処理を行なうことにより、塗布液(In)を
上製した。塗布液(I)および(II )の組成を上記
に小才。
ハフ111 の11′
BaFBr:Eu”ii?光体 900 部
ポリウレタン樹脂 756部ニトロセ
ルロース 8.1部燐酸トリフェニ
ル 3.0部群青
0.0585部メチルエチルケトン
259 部イソプロピルアルコール
46 部■ の1 ポリアクリル樹脂 48.4部脂肪族
ボリイソンアネート 74部燐酸トリクレジ
ル 8.1部メチルエチルケトノ
336 邪法に、上記塗布液CI)お
よび(ff)を用いること以外は実施例1の方法と同様
の処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層および透
明保護膜から構成された放射線像変換パネルを製造した
。
ポリウレタン樹脂 756部ニトロセ
ルロース 8.1部燐酸トリフェニ
ル 3.0部群青
0.0585部メチルエチルケトン
259 部イソプロピルアルコール
46 部■ の1 ポリアクリル樹脂 48.4部脂肪族
ボリイソンアネート 74部燐酸トリクレジ
ル 8.1部メチルエチルケトノ
336 邪法に、上記塗布液CI)お
よび(ff)を用いること以外は実施例1の方法と同様
の処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層および透
明保護膜から構成された放射線像変換パネルを製造した
。
この放射線像変換パネルの蛍光体層について走査型電子
顕微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体」−には
、蛍光体粒子を、f^密瓜で含有する蛍光体層と透明な
保護膜とが境界面を有して設けられていることが1JI
らかであった。また、断面写真から蛍光体層の層厚は約
350濤mであり、保護膜の膜厚は約7牌mであった。
顕微鏡を用いて得られた断面写真から、支持体」−には
、蛍光体粒子を、f^密瓜で含有する蛍光体層と透明な
保護膜とが境界面を有して設けられていることが1JI
らかであった。また、断面写真から蛍光体層の層厚は約
350濤mであり、保護膜の膜厚は約7牌mであった。
[比較例3]
比較VA1において、実施例3の塗布液(l を用いる
こと以外は比較例1の方法と同様の処理を行なうことに
より 支持体上に同厚の蛍光体層を形成した。
こと以外は比較例1の方法と同様の処理を行なうことに
より 支持体上に同厚の蛍光体層を形成した。
り・いで、比較例1の方法と同様の方法で保護膜をfJ
−着付設することにより、支持体、蛍光体層およびr!
!明保護脱η1ら構成された放射線像変換パネルを製造
した。
−着付設することにより、支持体、蛍光体層およびr!
!明保護脱η1ら構成された放射線像変換パネルを製造
した。
実施例3および比較例3で得られた各放射線像変換パネ
ルを+iii記と同様の試験により評価した。
ルを+iii記と同様の試験により評価した。
得られた結果を第3表に示す。
11+令白
第3表
実施例3 比較例3
幣鋭度 36% 35%粒状性
0.75X to−20,85X 10−”相対感度
128 120密着強度 140g
/cm 90g/am第3表から明らかなよう
に1本発明に従う放射線像変換パネル(実施例3)は、
従来の放射線像変換パネル(比較例3)と比較して感度
が高く、鮮鋭度および粒状性において優れた画像を与え
。
0.75X to−20,85X 10−”相対感度
128 120密着強度 140g
/cm 90g/am第3表から明らかなよう
に1本発明に従う放射線像変換パネル(実施例3)は、
従来の放射線像変換パネル(比較例3)と比較して感度
が高く、鮮鋭度および粒状性において優れた画像を与え
。
かつ密着強度においても優れていた。
第1図は1本発明の放射&l像変換パネルの製造法に使
用される塗布装置の一例である二連式ホッパー型塗布装
置の概略断面図である。 l、二連式ホッパー型塗布装置、2.右側導入部[塗布
液(1)1.3:左側導入部[塗布液(II)]、4:
カラス少、5:支持体、6、塗7′IJ掖(I)の塗膜
、7・塗41液(It)の塗膜、8:矢印
用される塗布装置の一例である二連式ホッパー型塗布装
置の概略断面図である。 l、二連式ホッパー型塗布装置、2.右側導入部[塗布
液(1)1.3:左側導入部[塗布液(II)]、4:
カラス少、5:支持体、6、塗7′IJ掖(I)の塗膜
、7・塗41液(It)の塗膜、8:矢印
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I と、輝
尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合剤
溶液 I に含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤か
らなる結合剤溶液IIとを、該輝尽性蛍光体を分散してな
る結合剤溶液 I が支持体側となるように支持体表面に
同時に重層塗布して、蛍光体層および保護膜を形成する
ことを特徴とする放射線像変換パネルの製造法。 2、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I の
塗布量と輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液IIの塗布
量との体積比が、100:1〜1:1の範囲にあること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の放射線像変換
パネルの製造法。 3、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I お
よび輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液IIにおける溶
剤が、互いに相溶性があることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の放射線像変換パネルの製造法。 4、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I が
、該輝尽性蛍光体の励起光波長領域における平均反射率
が該輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領域における平均反射
率よりも小さい着色剤を含有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の放射線像変換パネルの製造法。 5、輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I と、輝
尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液であって上記結合剤
溶液 I に含まれる結合剤に対して非相溶性の結合剤か
らなる結合剤溶液IIとを、平面シート上に同時に重層塗
布して蛍光体層および保護膜を形成したのち、該蛍光体
層および保護膜を該シートから分離して支持体上に付設
することを特徴とする放射線像変換パネルの製造法。 6、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I の
塗布量と輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液IIの塗布
量との体積比が、100:1〜1:1の範囲にあること
を特徴とする特許請求の範囲第5項記載の放射線像変換
パネルの製造法。 7、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I お
よび輝尽性蛍光体を含有しない結合剤溶液IIにおける溶
剤が、互いに相溶性があることを特徴とする特許請求の
範囲第5項記載の放射線像変換パネルの製造法。 8、上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液 I が
、該輝尽性蛍光体の励起光波長領域における平均反射率
が該輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領域における平均反射
率よりも小さい着色剤を含有することを特徴とする特許
請求の範囲第5項記載の放射線像変換パネルの製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20350084A JPS6180100A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 放射線像変換パネルの製造法 |
| US06/771,122 US4728583A (en) | 1984-08-31 | 1985-08-30 | Radiation image storage panel and process for the preparation of the same |
| EP90100227A EP0377470B1 (en) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Radiation image storage panel |
| DE8585111030T DE3582206D1 (de) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Schirm zum speichern eines strahlungsbildes und verfahren zur herstellung desselben. |
| DE3587955T DE3587955T2 (de) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Schirm zum Speichern eines Strahlungsbildes. |
| EP85111030A EP0173352B1 (en) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Radiation image storage panel and process for the preparation of the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20350084A JPS6180100A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 放射線像変換パネルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180100A true JPS6180100A (ja) | 1986-04-23 |
| JPH0521439B2 JPH0521439B2 (ja) | 1993-03-24 |
Family
ID=16475183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20350084A Granted JPS6180100A (ja) | 1984-08-31 | 1984-09-28 | 放射線像変換パネルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180100A (ja) |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20350084A patent/JPS6180100A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0521439B2 (ja) | 1993-03-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |