JPH0552917B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Description
[発明の分野]
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変
換方法に用いられる放射線像変換パネルの製造法
に関するものである。さらに詳しくは本発明は、
支持体、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層および保
護膜をこの順序で有する放射線像変換パネルの製
造法に関するものである。 [発明の技術的背景および従来技術] 放射線像を画像として得る方法として、従来よ
り銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線写
真フイルムと増感紙との組合わせを用いる、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。最近、上記
放射線写真法に代る方法の一つとして、たとえば
特開昭55−12145号公報などに記載されているよ
うな、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
注目されるようになつた。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せら
れた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収さ
せ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線
などの電磁波(励起光)で時系列的に励起するこ
とにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放
射線エネルギーを蛍光(輝尽発光)として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読み取つて電気信号を
得、得られた電気信号を画像化するものである。 上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするX線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。 上記放射線像変換方法に用いる放射線像変換パ
ネルは、基本構造として、支持体とその片面に設
けられた蛍光体層とからなるものである。なお、
この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体
に面していない側の表面)には一般に、蛍光体層
を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護
し、かつパネル表面を平滑化するためにポリエチ
レンテレフタレートなどの透明な保護膜が設けら
れている。 放射線像変換方法の実施において、放射線像変
換パネルは、放射線の照射(放射線像の記録)・
励起光の照射(記録された放射線像の読取り)・
消去光の照射(残存する放射線像の消去)という
サイクルで繰り返し使用される。そして放射線像
変換パネルの各ステツプへの移行は搬送系により
行なわれ、一サイクル終了後パネルは順次積層し
て保存される。 この搬送から積層状態へと移行する連続したサ
イクルにおいて、その間に放射線像変換パネル同
志の接触や摩擦が繰り返し生じるために高分子物
質からなるパネルの表面(蛍光体層側表面)が帯
電し易く、このことが放射線像変換方法の実施上
種々の問題を発生させる原因となつている。 たとえば、放射線像変換パネルの表面が帯電す
る結果、パネルを積層状態から搬送系に移す際
に、パネル表面と他のパネルの裏面(支持体側表
面)とが相互に密着して二枚重なつた状態で搬送
系に送り込まれやすくなり、それ以後の正常な操
作を行なうことが不可能となるものである。ま
た、パネル表面には空気中の塵埃等が付着しやす
くなる。このようなパネルにおいては読み出しの
際に表面に付着した塵埃によつて励起光が散乱さ
れるために、得られる画像は画質が著しく低下し
たものとなる。 このような放射線像変換パネルの製造において
保護膜を付設する場合には一般に、既に形成され
た蛍光体層の表面に透明な高分子物質を適当な溶
剤に溶解してなる溶液を塗布することにより、あ
るいは別途形成した透明な薄膜を接着剤等を用い
て接着することにより行なわれている。 本出願人は、輝尽性蛍光体を分散してなる結合
剤溶液()と、輝尽性蛍光体を含有しない結合
剤溶液であつて上記結合剤溶液()に含まれる
結合剤に対して非相溶性の結合剤からなる結合剤
溶液()とを、該輝尽性蛍光体を分散してなる
結合剤溶液()が支持体側となるように支持体
表面に同時に重層塗布して、蛍光体層および保護
膜を形成することからなる放射線像変換パネルの
製造法;および 上記結合剤溶液()と結合剤溶液()と
を、平面シート上に同時に重層塗布して蛍光体層
および保護膜を形成したのち、該蛍光体層および
保護膜を該シートから分離して支持体上に付設す
ることからなるパネルの製造法について既に特許
出願している(特願昭59−203500号)。 従つて、この方法によれば保護膜と蛍光体層と
が同時に形成され、また両者の間に接着剤の層が
介在することがない。 [発明の要旨] 本発明は、帯電防止効果の優れた放射線像変換
パネルの製造法を提供することをその目的とする
ものである。 また、本発明は、特に搬送特性が向上した放射
線像変換パネルの製造法を提供することもその目
的とするものである。 上記の目的は、 (1) 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結
合剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩
からなる帯電防止剤とからなる結合剤溶液
()とを、該輝尽性蛍光体を分散してなる結
合剤溶液()が支持体側となるように支持体
表面に同時に重層塗布して、蛍光体層および保
護膜を形成することを特徴とする放射線像変換
パネルの製造法、および (2) 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結
合剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩
からなる帯電防止剤とからなる結合剤溶液
()とを、平面シート上に同時に重層塗布し
て蛍光体層および保護膜を形成したのち、該蛍
光体層および保護膜を該シートから分離して支
持体上に付設することを特徴とする放射線像変
換パネルの製造法、 により達成することができる。 [発明の効果] 本発明は、保護膜中に帯電防止剤を含有させる
ことにより、搬送系において発生する放射線像変
換パネルの帯電現象を防止して、円滑な放射線像
の記録再生を実現するものである。 本発明の放射線像変換パネルにおいては、その
保護膜側表面に帯電防止剤が分散状態で介在する
ため、パネルの帯電現象を効果的に防止すること
ができ、搬送系におけるパネルの移行操作を円滑
に行なうことができる。 また、従来においては一般に、蛍光体粒子を分
散してなる結合剤溶液(塗布液)を通常の塗布方
法によつて支持体上に塗布乾燥して蛍光体層を形
成したのちに、この蛍光体層表面にポリエチレン
テレフタレートなどの高分子物質からなる透明な
薄膜を接着剤を用いて接着することにより、保護
膜の付設が行なわれていた。本発明の方法によれ
ば、蛍光体粒子を分散してなる塗布液と帯電防止
剤を含有する結合剤溶液とを前者の塗布液を支持
体側に配置して同時に支持体上(あるいは、別の
平面シート上に)重層して塗布することにより、
蛍光体層および帯電防止機能を有する保護膜を一
度の塗布操作で同時に形成することができる。従
つて、従来のように別工程として蛍光体層上にさ
らに保護膜を設ける操作が必要でなく、放射線像
変換パネルの製造工程を簡略化することができ
る。 さらに、本発明の製造方法においては、蛍光体
層および保護膜形成のための両塗膜が同時に乾
燥、形成されるから、従来よりも保護膜と蛍光体
層との密着強度を高めることがでいき、接着剤層
の劣化により保護膜が蛍光体層から剥離するとい
つた問題が生じることもない。すなわち、得られ
た放射線像変換パネルの保護膜はその機能をより
有効に発揮しうるとともに、パネル全体としては
機械的強度の向上したものが得られる。 そして、本発明によつて製造される放射線像変
換パネルは接着剤層の付設による界面が形成され
ることがないので、従来のパネルよりも励起光の
散乱を減少させることができ、鮮鋭度および粒状
性など画質の向上した画像を得ることが可能であ
る。同時に、その界面での蛍光の散乱も生じるこ
とがないから、画質の向上とともに感度も増大さ
せることが可能である。 加えて、従来においては保護膜の付設(ラミネ
ート)に際して蛍光体層表面に塵埃が付着しがち
であり、付設操作に注意を要していたが、本発明
においてはこのような問題が生じることがない。 [発明の構成] 以上述べたような好ましい特性をもつた放射線
像変換パネルは、たとえば、次に述べるような本
発明の製造法により製造することができる。 すなわち、蛍光体層および本発明の特徴的な要
件である帯電防止機能を有する保護膜の形成は、
たとえば、次のようにして行なうことができる。 まず、蛍光体層形成のために、輝尽性蛍光体粒
子が結合剤溶液中に均一に分散された塗布液
()を調製する。 輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波長が400〜
900nmの範囲にある励起光によつて300〜500nm
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。放射線像変換パネルに用いられる輝尽
性蛍光体の例としては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS:Ce、Sm、SrS:Eu、Sm、ThO2:Er、お
よびLa2O2S:Eu、Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS:Cu、Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8
≦x≦10)、および、M〓O・xSiO2:A(ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、xは、0.5≦x≦2.5である)、 特開昭55−12143号公報に記載されている
(Ba1-x-y、Mgx、Cay)FX:aEu2+(ただし、X
はClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
xおよびyは、0<x+y≦0.6、かつxy≠0で
あり、aは、10-6≦a≦5×10-2である)、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、xは、0<x<0.1
である)、 特開昭55−12145号公報に記載されている
(Ba1-x、M2+ x)FX:yA(ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一つ
は、XはCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してxは、0≦x≦0.6、yは、0≦y≦0.2であ
る)、 特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA:yLn[ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、A
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TiO2、
ZrO2、GeO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5、および
ThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、XはCl、
Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、
xおよびyはそれぞれ5×10-5≦x≦0.5、およ
び0<y≦0.2である]の組成式で表わされる蛍
光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、
0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z
≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23673号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zB[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、お
よびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、
10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦2×10-2で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、Aは砒素および
珪素のうちの少なくとも一種であり、a、x、
y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x
≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦5×
10-1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−69281号公報に記載されているM〓
OX:xCe[ただし、M〓はPr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり、XはClおよびBrのうちのいずれか一方
あるいは両方であり、xは0<x<0.1である]
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されている
Ba1-xMx/2Lx/2FX:yEu2+[ただし、MはLi、Na、
K、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属を表わし;Lは、Sc、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、お
よびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属を表わし;Xは、Cl、Br、およびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンを表わし;そして、xは10-2≦x≦0.5、yは
0<y≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−27980号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、テトラフルオロホウ酸化
合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x≦
0.1、yは0<y≦0.1である]の組成式で表わさ
れる蛍光体、 特開昭59−47289号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジ
ルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からな
るヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり;そして、xは
10-6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である]の組成
式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56479号公報に記載されている
BaFX・xNaX′:aEu2+[ただし、XおよびX′は、
それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一種であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、
および0<a≦0.2である]の組成式で表わされ
る蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM〓
FX・xNaX′:yEu2+:zA[ただし、M〓は、Ba、
Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり;Xおよび
X′は、それぞれCl、Br、およびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;A
は、V、Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ば
れる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、
xは0<x≦2、yは0<y≦0.2、およびzは
0<z≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″2・cM〓X3・xA:
yEu2+[ただし、M〓はBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属であり;M〓はLi、Na、K、Rb、およびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′〓はBeおよびMgからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の二価金属であり;
M〓はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属であり;Aは金
属酸化物であり;XはCl、Br、およびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′、X″、およびXは、F、Cl、Br、およ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり;そして、aは0≦a≦2、bは0
≦b≦10-2、cは0≦c≦10-2、かつa+b+c
≧10-6であり;xは0<x≦0.5、yは0<y≦
0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−193161号明細書に記
載されているM〓X2・aM〓X′2:xEu2+[ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;Xお
よびX′はCl、BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであつて、かつX≠
X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0≦
x≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−208727号明細書に記
載されているM〓FX・aM〓X′:xEu2+[ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;M〓
はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ金属であり;XはCl、Brおよ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり;X′はF、Cl、BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;そしてaおよびxはそれぞれ0≦a≦4.0お
よび0≦x≦0.2である]の組成式で表わされる
蛍光体、 などを挙げることができる。 また、上記特願昭58−193161号明細書に記載さ
れているM〓X2・aM〓X′2:xEu2+蛍光体には、以
下に示すような添加物がM〓X2・aM〓X′21モルあ
たり以下の割合で含まれていてもよい。 本出願による特願昭59−22169号明細書に記載
されているbM〓X″(ただし、M〓はRbおよびCsか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属であり;X″はF、Cl、BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてbは0<b≦10.0である);特願昭59
−77225号明細書に記載されているbKX″・cMgX
2・dM〓′′′′3(ただし、M〓はSc、Y、La、Gdお
よびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属であり、X″、XおよびX′′′′はいず
れもF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり、そしてb、
c及びdはそれぞれ、0≦b≦2.0、0≦c≦
2.0、0≦d≦2.0であつて、かつ2×10-5≦b+
c+dである);特願昭59−84356号明細書に記載
されているyB(ただし、yは2×10-4≦y≦2×
10-1である);および特願昭59−84358号明細書に
記載されているbA(但し、AはSiO2及びP2O5か
らなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物で
あり、そしてbは10-4≦b≦2×10-1である) 上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウ
ム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体お
よび希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系
蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すので特に好まし
い。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は
上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を
照射したのちに励起光を照射した場合に、輝尽発
光を示す蛍光体であればいかなるものであつても
よい。 蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質;およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メ
タ)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、ポリアルキル(メタ)
アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエス
テルとの混合物およびニトロセルロースとポリア
ルキル(メタ)アクリレートとの混合物である。
なお、これらの結合剤は架橋剤によつて架橋され
たものであつてもよい。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノ
ールなどの低級アルコール;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル;ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル;そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、1:1乃至1:100(重
量比)範囲から選ばれ、そして特に1:8乃至
1:40(重量比)の範囲から選ぶことが好ましい。 なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル;そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。 さらに、塗布液には、画像の鮮鋭度を向上させ
る目的で、輝尽性蛍光体の励起光波長領域におけ
る平均反射率が、輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領
域における平均反射率よりも小さいような反射特
性を有する着色剤が含有されていてもよい。その
ような着色剤としては、たとえば、特開昭55−
163500号公報および特開昭57−96300号公報に開
示されているような着色剤を挙げることができ
る。あるいは、同じく画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、塗布液には特開昭55−146447号公報に記
載されているような白色粉体が含有されていても
よい。 次に、保護膜形成のために、帯電防止剤および
結合剤を適当な溶剤に溶解した塗布液()を調
製する。 本発明に用いられる帯電防止剤は、金属の無機
塩である。保護膜中に金属の無機塩を含有させる
ことによつて、パネルに帯電した電荷を表面電導
による電荷の移動(放電)により防止することが
できる。すなわち、その物質の表面電気抵抗を小
さくすることにより、発生した電荷を容易に放電
することができる。 本発明において帯電防止剤として用いられる金
属無機塩の代表的な例としては、LiCl、NaCl、
NaBr、NaI、NaNO3、Na3PO4、CsI、BaBr2、
BaI2、MgBr2、AlBr3等の金属の無機塩が挙げら
れる。なお、これらの金属無機塩は常温で安定で
ある限り、無水物の状態であつても、あるいは結
晶水が付加された状態であつてもよい。 上記の金属無機塩のうちで好ましいものは、
LiCl、NaBr、NaI、NaNO3、MgBr2および
AlBr3である。さらに、無着色であること、及び
水、アルコール等の溶剤に対する溶解性が高いこ
となどの点から、LiCl、NaBrおよびMgBr2が特
に好ましい。すなわち、これらの金属ハロゲン化
物は無着色であるために励起光を吸収することが
なく、また、結合剤溶液に溶解するから得られた
保護膜における分散性が高いものである。 結合剤としては、上記の蛍光体層形成のための
塗布液()に用いられる結合剤の他に、セルロ
ース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリビニルホルマール、メラミン、フエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができ
る。ただし、本発明の同時重層塗布により蛍光体
層と同時に保護膜を形成するためには、塗布液
()に用いられる結合剤は、塗布液()に用
いられる結合剤に対して実質的に相溶性のない結
合剤である必要がある。たとえば、数種類の結合
剤を併用する場合には、各結合剤が塗布液()
の結合剤に対して非相溶性である必要はなく、塗
布液()の結合剤全体として実質的に非相溶性
であればよい。また、放射線像変換パネル表面の
防傷性などの点からは塗布液()の結合剤は比
較的硬いものであることが好ましい。 塗布液()において帯電防止剤が結合剤溶液
中に含有される比率は、帯電防止剤の種類、結合
剤の種類および製造されるパネルの構成などによ
つても異なるが、一般には結合剤の使用量に対し
て0.1乃至20重量%の範囲から選ばれ、特に0.5乃
至5重量%の範囲から選ばれるのが好ましい。 溶剤としては、上記の塗布液()に用いられ
る溶剤を用いることができるが、保護膜における
帯電防止剤の分散性の点から、帯電防止剤である
金属無機塩を溶解しうるような溶剤を用いるのが
好ましい。また、塗布液()の溶剤は塗布液
()に用いられる溶剤と同一であつてもよいし、
あるいは異なつていてもよい。ただし、塗布液
()および()が重層されてなる塗膜の乾燥
速度を一致させることが望ましく、そのためには
互いに相溶性のある溶剤を用いるのが望ましい。 さらに、塗布液()には上記塗布液()に
用いられる各種の分散剤、可塑剤、着色剤などが
含有されていてもよい。 次いで、上記のようにして調製された塗布液
()と塗布液()とを、塗布液()を支持
体側に配置して支持体の表面に均一に、同時に重
層塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。
この塗布操作は、たとえば、二連式ホツパー型塗
布装置を用いることにより行なうことができる。 塗布液()および塗布液()の塗布量は、
目的とする放射線像変換パネルの特性、塗布液の
粘度、結合剤と蛍光体との混合比などによつて異
なるが、通常は100:1乃至1:1(体積比)の範
囲から選ばれ、好ましくは10:1乃至1:1の範
囲である。 同時重層塗布した後、支持体側の塗布液()
の塗膜およびその上に形成された塗布液()の
塗膜を徐々に加熱することにより乾燥し、支持体
上への蛍光体層および保護膜の形成を完了する。
このようにして支持体上には、支持体側の蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍
光体層と、その上に設けられた帯電防止剤が含有
された結合剤からなる保護膜が形成される。 蛍光体層および保護膜は、必ずしも上記のよう
に支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要
はなく、たとえば、別にガラス板、金属板、プラ
スチツクシートなどの平面シートの上に塗布液を
上述のようにして同時重層塗布することにより蛍
光体層および保護膜を形成した後、これを支持体
上に押圧するか、あるいは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層および保護膜とを接合しても
よい。この場合に、塗布液()と塗布液()
は所望とする放射線像変換パネルの特性、塗布条
件などに応じて、どちらを平面シート側に配置し
て重層塗布を行なつてもよい。 蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パ
ネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との
混合比などによつて異なるが、通常は20μm乃至
1mmとする。ただし、この層厚は50乃至500μm
とするのが好ましい。また、保護膜の膜厚は約3
乃至20μmとするのが好ましい。なお、一般に蛍
光体層の膜厚と保護膜の膜厚との比率は100:1
〜5:1の範囲にあるのが好ましい。 本発明において使用する支持体は、従来の放射
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料あるいは放射線像変換パネルの
支持体として公知の各種の材料から任意に選ぶこ
とができる。そのような材料の例としては、セル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリ
アセテート、ポリカーボネートなどのプラスチツ
ク物質のフイルム、アルミニウム箔、アルミニウ
ム合金箔などの金属シート、通常の紙、バライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を
含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールな
どをサイジングした紙などを挙げることができ
る。ただし、放射線像変換パネルの情報記録材料
としての特性および取扱いなどを考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチツクフイルムである。このプラスチツクフイ
ルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物質が
練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パネルに適
した支持体であり、後者は高感度タイプの放射線
像変換パネルに適した支持体である。 公知の放射線像変換パネルにおいては、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルとしての感度もしくは画質(鮮鋭
度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができる。 さらに、特開昭58−200200号公報に記載されて
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍
光体層側の表面に接着性付与層、光反射層あるい
は光吸収層などが設けられている場合には、その
表面を意味する)には、微細な凹凸が均質に形成
されていてもよい。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。なお、以下の各例で「部」は特に記載の
ない限り「重量部」を表わす。 実施例 1 ポリエステル樹脂(バイロン500、およびバイ
ロン200、東洋紡績(株)製)をメチルエチルケトン
に溶解してポリエステル樹脂溶液を調製した。ま
た、ニトロセルロース(RS−120、ダイセル化学
工業(株)製)をメチルエチルケトンに溶解してニト
ロセルロース溶液を調製した。輝尽性の二価ユー
ロピウム賦活弗化臭化バリウム蛍光体
(BaFBr:Eu2+)の粒子をメチルエチルケトンに
分散したのち、この分散液に上記ポリエステル樹
脂溶液およびニトロセルロース溶液を加え、さら
に群青(顔料;PB−100、第一化成工業(株)製)、
脂肪族ポリイソシアネート(スミジユールN−
75、住友バイエルウレタン(株)製)および燐酸トリ
クレジルを添加し、プロペラミキサーを用いて溶
解して蛍光体を含有する分散液[塗布液()]
を調製した。 次に、帯電防止剤として臭化マグネシウム
(MgBr2)をメチルエチルケトンに添加し充分溶
解させたのち、この溶解液にポリウレタン樹脂
(デスモコール530、住友バイエルウレタン(株)製)、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体(UCAR
Solution Vinyl VYHH、Union Carbide Corp.
製)、ニトロセルロース(RS−120、ダイセル化
学工業(株)製)および燐酸トリクレジルを添加し、
プロペラミキサーを用いて混合して結合剤溶液
[塗布液()]を調製した。 塗布液()および塗布液()の組成を下記
に示す。 塗布液()の組成 BaFBr:Eu2+蛍光体 800部 ポリエステル樹脂(バイロン500) 17.2部 ポリエステル樹脂(バイロン200) 4.3部 ニトロセルロース 2.8部 群 青 0.052部 脂肪族ポリイソシアネート 2.8部 燐酸トリクレジル 2.6部 メチルエチルケトン 201部 塗布液()の組成 ポリウレタン樹脂 27.2部 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 16.4部 ニトロセルロース 10.9部 燐酸トリクレジル 5.4部 臭化マグネシウム 1.8部 メチルエチルケトン 440部 次に、カーボン練り込みポリエチレンテレフタ
レートシート(支持体、厚み:250μm)をガラ
ス板上に水平に置いて、塗布液()および塗布
液()を第1図に示すような二連式ホツパー型
塗布装置を用いて、支持体上に同時に重層塗布し
た。 すなわち、第1図において、二連式ホツパー型
塗布装置1の右側導入部2には塗布液()を注
入し、左側導入部3には塗布液()を導入し
た。導入部1,2の下部開口部の長さはそれぞれ
0.500mmおよび0.150mmであつた。支持体5の置か
れたガラス板4を矢印8の方向に1.0m/分の速
度で移動させながら、下部開口部から塗布液
()および()を支持体5上に同時に重層塗
布して、塗布液()の塗膜6および塗布液
()の塗膜7を形成した。 そして塗布後に、塗膜の形成された支持体を乾
燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃か
ら100℃に徐々に上昇させて50分間塗膜の乾燥を
行なつた。 このようにして支持体上に層厚が約345μmの
蛍光体層、帯電防止剤を含有し層厚が約7μmの
保護膜を各々形成し、支持体、蛍光体層および保
護膜から構成された放射線像変換パネルを製造し
た。 比較例 1 実施例1において、塗布液()に臭化マグネ
シウムを添加しないこと以外は実施例1と同様の
方法により、支持体、蛍光体層および保護膜から
構成された放射線像変換パネルを製造した。 実施例1および比較例1で得られた各放射線像
変換パネルを、次に記載する表面抵抗試験および
搬送性試験により評価した。 (1) 表面抵抗試験 円電極(P−601型、川口電気製作所(株)製)
と絶縁計(EV−40型超絶縁計、川口電気製作
所(株)製)とを組合わせ、110mm×110mmのサイズ
に裁断した放射線像変換パネルを円電極の上に
載せ、電圧を印加してパネルの表面の電気抵抗
を測定した。なお、測定は温度23℃、湿度50%
RHの条件で行なつた。 (2) 搬送性試験 放射線像変換パネルを放射線像記録読取装置
内において搬送させることにより、移動、積層
のサイクルを100回繰り返し行ない、二枚のパ
ネルが同時に搬送される回数を測定した。 得られた結果を第1表に示す。
換方法に用いられる放射線像変換パネルの製造法
に関するものである。さらに詳しくは本発明は、
支持体、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層および保
護膜をこの順序で有する放射線像変換パネルの製
造法に関するものである。 [発明の技術的背景および従来技術] 放射線像を画像として得る方法として、従来よ
り銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線写
真フイルムと増感紙との組合わせを用いる、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。最近、上記
放射線写真法に代る方法の一つとして、たとえば
特開昭55−12145号公報などに記載されているよ
うな、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
注目されるようになつた。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せら
れた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収さ
せ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線
などの電磁波(励起光)で時系列的に励起するこ
とにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放
射線エネルギーを蛍光(輝尽発光)として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読み取つて電気信号を
得、得られた電気信号を画像化するものである。 上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするX線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。 上記放射線像変換方法に用いる放射線像変換パ
ネルは、基本構造として、支持体とその片面に設
けられた蛍光体層とからなるものである。なお、
この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支持体
に面していない側の表面)には一般に、蛍光体層
を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護
し、かつパネル表面を平滑化するためにポリエチ
レンテレフタレートなどの透明な保護膜が設けら
れている。 放射線像変換方法の実施において、放射線像変
換パネルは、放射線の照射(放射線像の記録)・
励起光の照射(記録された放射線像の読取り)・
消去光の照射(残存する放射線像の消去)という
サイクルで繰り返し使用される。そして放射線像
変換パネルの各ステツプへの移行は搬送系により
行なわれ、一サイクル終了後パネルは順次積層し
て保存される。 この搬送から積層状態へと移行する連続したサ
イクルにおいて、その間に放射線像変換パネル同
志の接触や摩擦が繰り返し生じるために高分子物
質からなるパネルの表面(蛍光体層側表面)が帯
電し易く、このことが放射線像変換方法の実施上
種々の問題を発生させる原因となつている。 たとえば、放射線像変換パネルの表面が帯電す
る結果、パネルを積層状態から搬送系に移す際
に、パネル表面と他のパネルの裏面(支持体側表
面)とが相互に密着して二枚重なつた状態で搬送
系に送り込まれやすくなり、それ以後の正常な操
作を行なうことが不可能となるものである。ま
た、パネル表面には空気中の塵埃等が付着しやす
くなる。このようなパネルにおいては読み出しの
際に表面に付着した塵埃によつて励起光が散乱さ
れるために、得られる画像は画質が著しく低下し
たものとなる。 このような放射線像変換パネルの製造において
保護膜を付設する場合には一般に、既に形成され
た蛍光体層の表面に透明な高分子物質を適当な溶
剤に溶解してなる溶液を塗布することにより、あ
るいは別途形成した透明な薄膜を接着剤等を用い
て接着することにより行なわれている。 本出願人は、輝尽性蛍光体を分散してなる結合
剤溶液()と、輝尽性蛍光体を含有しない結合
剤溶液であつて上記結合剤溶液()に含まれる
結合剤に対して非相溶性の結合剤からなる結合剤
溶液()とを、該輝尽性蛍光体を分散してなる
結合剤溶液()が支持体側となるように支持体
表面に同時に重層塗布して、蛍光体層および保護
膜を形成することからなる放射線像変換パネルの
製造法;および 上記結合剤溶液()と結合剤溶液()と
を、平面シート上に同時に重層塗布して蛍光体層
および保護膜を形成したのち、該蛍光体層および
保護膜を該シートから分離して支持体上に付設す
ることからなるパネルの製造法について既に特許
出願している(特願昭59−203500号)。 従つて、この方法によれば保護膜と蛍光体層と
が同時に形成され、また両者の間に接着剤の層が
介在することがない。 [発明の要旨] 本発明は、帯電防止効果の優れた放射線像変換
パネルの製造法を提供することをその目的とする
ものである。 また、本発明は、特に搬送特性が向上した放射
線像変換パネルの製造法を提供することもその目
的とするものである。 上記の目的は、 (1) 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結
合剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩
からなる帯電防止剤とからなる結合剤溶液
()とを、該輝尽性蛍光体を分散してなる結
合剤溶液()が支持体側となるように支持体
表面に同時に重層塗布して、蛍光体層および保
護膜を形成することを特徴とする放射線像変換
パネルの製造法、および (2) 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結
合剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩
からなる帯電防止剤とからなる結合剤溶液
()とを、平面シート上に同時に重層塗布し
て蛍光体層および保護膜を形成したのち、該蛍
光体層および保護膜を該シートから分離して支
持体上に付設することを特徴とする放射線像変
換パネルの製造法、 により達成することができる。 [発明の効果] 本発明は、保護膜中に帯電防止剤を含有させる
ことにより、搬送系において発生する放射線像変
換パネルの帯電現象を防止して、円滑な放射線像
の記録再生を実現するものである。 本発明の放射線像変換パネルにおいては、その
保護膜側表面に帯電防止剤が分散状態で介在する
ため、パネルの帯電現象を効果的に防止すること
ができ、搬送系におけるパネルの移行操作を円滑
に行なうことができる。 また、従来においては一般に、蛍光体粒子を分
散してなる結合剤溶液(塗布液)を通常の塗布方
法によつて支持体上に塗布乾燥して蛍光体層を形
成したのちに、この蛍光体層表面にポリエチレン
テレフタレートなどの高分子物質からなる透明な
薄膜を接着剤を用いて接着することにより、保護
膜の付設が行なわれていた。本発明の方法によれ
ば、蛍光体粒子を分散してなる塗布液と帯電防止
剤を含有する結合剤溶液とを前者の塗布液を支持
体側に配置して同時に支持体上(あるいは、別の
平面シート上に)重層して塗布することにより、
蛍光体層および帯電防止機能を有する保護膜を一
度の塗布操作で同時に形成することができる。従
つて、従来のように別工程として蛍光体層上にさ
らに保護膜を設ける操作が必要でなく、放射線像
変換パネルの製造工程を簡略化することができ
る。 さらに、本発明の製造方法においては、蛍光体
層および保護膜形成のための両塗膜が同時に乾
燥、形成されるから、従来よりも保護膜と蛍光体
層との密着強度を高めることがでいき、接着剤層
の劣化により保護膜が蛍光体層から剥離するとい
つた問題が生じることもない。すなわち、得られ
た放射線像変換パネルの保護膜はその機能をより
有効に発揮しうるとともに、パネル全体としては
機械的強度の向上したものが得られる。 そして、本発明によつて製造される放射線像変
換パネルは接着剤層の付設による界面が形成され
ることがないので、従来のパネルよりも励起光の
散乱を減少させることができ、鮮鋭度および粒状
性など画質の向上した画像を得ることが可能であ
る。同時に、その界面での蛍光の散乱も生じるこ
とがないから、画質の向上とともに感度も増大さ
せることが可能である。 加えて、従来においては保護膜の付設(ラミネ
ート)に際して蛍光体層表面に塵埃が付着しがち
であり、付設操作に注意を要していたが、本発明
においてはこのような問題が生じることがない。 [発明の構成] 以上述べたような好ましい特性をもつた放射線
像変換パネルは、たとえば、次に述べるような本
発明の製造法により製造することができる。 すなわち、蛍光体層および本発明の特徴的な要
件である帯電防止機能を有する保護膜の形成は、
たとえば、次のようにして行なうことができる。 まず、蛍光体層形成のために、輝尽性蛍光体粒
子が結合剤溶液中に均一に分散された塗布液
()を調製する。 輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波長が400〜
900nmの範囲にある励起光によつて300〜500nm
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。放射線像変換パネルに用いられる輝尽
性蛍光体の例としては、 米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS:Ce、Sm、SrS:Eu、Sm、ThO2:Er、お
よびLa2O2S:Eu、Sm、 特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS:Cu、Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8
≦x≦10)、および、M〓O・xSiO2:A(ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、xは、0.5≦x≦2.5である)、 特開昭55−12143号公報に記載されている
(Ba1-x-y、Mgx、Cay)FX:aEu2+(ただし、X
はClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
xおよびyは、0<x+y≦0.6、かつxy≠0で
あり、aは、10-6≦a≦5×10-2である)、 特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、xは、0<x<0.1
である)、 特開昭55−12145号公報に記載されている
(Ba1-x、M2+ x)FX:yA(ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一つ
は、XはCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してxは、0≦x≦0.6、yは、0≦y≦0.2であ
る)、 特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA:yLn[ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、A
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TiO2、
ZrO2、GeO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5、および
ThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、XはCl、
Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、
xおよびyはそれぞれ5×10-5≦x≦0.5、およ
び0<y≦0.2である]の組成式で表わされる蛍
光体、 特開昭56−116777号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、
0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z
≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23673号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zB[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、お
よびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、
10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦2×10-2で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭57−23675号公報に記載されている
(Ba1-X、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、Aは砒素および
珪素のうちの少なくとも一種であり、a、x、
y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x
≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦5×
10-1である]の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−69281号公報に記載されているM〓
OX:xCe[ただし、M〓はPr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり、XはClおよびBrのうちのいずれか一方
あるいは両方であり、xは0<x<0.1である]
の組成式で表わされる蛍光体、 特開昭58−206678号公報に記載されている
Ba1-xMx/2Lx/2FX:yEu2+[ただし、MはLi、Na、
K、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属を表わし;Lは、Sc、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、お
よびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属を表わし;Xは、Cl、Br、およびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンを表わし;そして、xは10-2≦x≦0.5、yは
0<y≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−27980号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、テトラフルオロホウ酸化
合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x≦
0.1、yは0<y≦0.1である]の組成式で表わさ
れる蛍光体、 特開昭59−47289号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジ
ルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からな
るヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり;そして、xは
10-6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である]の組成
式で表わされる蛍光体、 特開昭59−56479号公報に記載されている
BaFX・xNaX′:aEu2+[ただし、XおよびX′は、
それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一種であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、
および0<a≦0.2である]の組成式で表わされ
る蛍光体、 特開昭59−56480号公報に記載されているM〓
FX・xNaX′:yEu2+:zA[ただし、M〓は、Ba、
Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり;Xおよび
X′は、それぞれCl、Br、およびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;A
は、V、Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ば
れる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、
xは0<x≦2、yは0<y≦0.2、およびzは
0<z≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光
体、 特開昭59−75200号公報に記載されているM〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″2・cM〓X3・xA:
yEu2+[ただし、M〓はBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属であり;M〓はLi、Na、K、Rb、およびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′〓はBeおよびMgからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の二価金属であり;
M〓はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属であり;Aは金
属酸化物であり;XはCl、Br、およびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′、X″、およびXは、F、Cl、Br、およ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり;そして、aは0≦a≦2、bは0
≦b≦10-2、cは0≦c≦10-2、かつa+b+c
≧10-6であり;xは0<x≦0.5、yは0<y≦
0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−193161号明細書に記
載されているM〓X2・aM〓X′2:xEu2+[ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;Xお
よびX′はCl、BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであつて、かつX≠
X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0≦
x≦0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、 本出願人による特願昭58−208727号明細書に記
載されているM〓FX・aM〓X′:xEu2+[ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;M〓
はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ金属であり;XはCl、Brおよ
びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり;X′はF、Cl、BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;そしてaおよびxはそれぞれ0≦a≦4.0お
よび0≦x≦0.2である]の組成式で表わされる
蛍光体、 などを挙げることができる。 また、上記特願昭58−193161号明細書に記載さ
れているM〓X2・aM〓X′2:xEu2+蛍光体には、以
下に示すような添加物がM〓X2・aM〓X′21モルあ
たり以下の割合で含まれていてもよい。 本出願による特願昭59−22169号明細書に記載
されているbM〓X″(ただし、M〓はRbおよびCsか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属であり;X″はF、Cl、BrおよびIからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてbは0<b≦10.0である);特願昭59
−77225号明細書に記載されているbKX″・cMgX
2・dM〓′′′′3(ただし、M〓はSc、Y、La、Gdお
よびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属であり、X″、XおよびX′′′′はいず
れもF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり、そしてb、
c及びdはそれぞれ、0≦b≦2.0、0≦c≦
2.0、0≦d≦2.0であつて、かつ2×10-5≦b+
c+dである);特願昭59−84356号明細書に記載
されているyB(ただし、yは2×10-4≦y≦2×
10-1である);および特願昭59−84358号明細書に
記載されているbA(但し、AはSiO2及びP2O5か
らなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物で
あり、そしてbは10-4≦b≦2×10-1である) 上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウ
ム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体お
よび希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系
蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すので特に好まし
い。ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体は
上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を
照射したのちに励起光を照射した場合に、輝尽発
光を示す蛍光体であればいかなるものであつても
よい。 蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質;およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メ
タ)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、ポリアルキル(メタ)
アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエス
テルとの混合物およびニトロセルロースとポリア
ルキル(メタ)アクリレートとの混合物である。
なお、これらの結合剤は架橋剤によつて架橋され
たものであつてもよい。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノ
ールなどの低級アルコール;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル;ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル;そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、1:1乃至1:100(重
量比)範囲から選ばれ、そして特に1:8乃至
1:40(重量比)の範囲から選ぶことが好ましい。 なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル;そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。 さらに、塗布液には、画像の鮮鋭度を向上させ
る目的で、輝尽性蛍光体の励起光波長領域におけ
る平均反射率が、輝尽性蛍光体の輝尽発光波長領
域における平均反射率よりも小さいような反射特
性を有する着色剤が含有されていてもよい。その
ような着色剤としては、たとえば、特開昭55−
163500号公報および特開昭57−96300号公報に開
示されているような着色剤を挙げることができ
る。あるいは、同じく画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、塗布液には特開昭55−146447号公報に記
載されているような白色粉体が含有されていても
よい。 次に、保護膜形成のために、帯電防止剤および
結合剤を適当な溶剤に溶解した塗布液()を調
製する。 本発明に用いられる帯電防止剤は、金属の無機
塩である。保護膜中に金属の無機塩を含有させる
ことによつて、パネルに帯電した電荷を表面電導
による電荷の移動(放電)により防止することが
できる。すなわち、その物質の表面電気抵抗を小
さくすることにより、発生した電荷を容易に放電
することができる。 本発明において帯電防止剤として用いられる金
属無機塩の代表的な例としては、LiCl、NaCl、
NaBr、NaI、NaNO3、Na3PO4、CsI、BaBr2、
BaI2、MgBr2、AlBr3等の金属の無機塩が挙げら
れる。なお、これらの金属無機塩は常温で安定で
ある限り、無水物の状態であつても、あるいは結
晶水が付加された状態であつてもよい。 上記の金属無機塩のうちで好ましいものは、
LiCl、NaBr、NaI、NaNO3、MgBr2および
AlBr3である。さらに、無着色であること、及び
水、アルコール等の溶剤に対する溶解性が高いこ
となどの点から、LiCl、NaBrおよびMgBr2が特
に好ましい。すなわち、これらの金属ハロゲン化
物は無着色であるために励起光を吸収することが
なく、また、結合剤溶液に溶解するから得られた
保護膜における分散性が高いものである。 結合剤としては、上記の蛍光体層形成のための
塗布液()に用いられる結合剤の他に、セルロ
ース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリビニルホルマール、メラミン、フエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができ
る。ただし、本発明の同時重層塗布により蛍光体
層と同時に保護膜を形成するためには、塗布液
()に用いられる結合剤は、塗布液()に用
いられる結合剤に対して実質的に相溶性のない結
合剤である必要がある。たとえば、数種類の結合
剤を併用する場合には、各結合剤が塗布液()
の結合剤に対して非相溶性である必要はなく、塗
布液()の結合剤全体として実質的に非相溶性
であればよい。また、放射線像変換パネル表面の
防傷性などの点からは塗布液()の結合剤は比
較的硬いものであることが好ましい。 塗布液()において帯電防止剤が結合剤溶液
中に含有される比率は、帯電防止剤の種類、結合
剤の種類および製造されるパネルの構成などによ
つても異なるが、一般には結合剤の使用量に対し
て0.1乃至20重量%の範囲から選ばれ、特に0.5乃
至5重量%の範囲から選ばれるのが好ましい。 溶剤としては、上記の塗布液()に用いられ
る溶剤を用いることができるが、保護膜における
帯電防止剤の分散性の点から、帯電防止剤である
金属無機塩を溶解しうるような溶剤を用いるのが
好ましい。また、塗布液()の溶剤は塗布液
()に用いられる溶剤と同一であつてもよいし、
あるいは異なつていてもよい。ただし、塗布液
()および()が重層されてなる塗膜の乾燥
速度を一致させることが望ましく、そのためには
互いに相溶性のある溶剤を用いるのが望ましい。 さらに、塗布液()には上記塗布液()に
用いられる各種の分散剤、可塑剤、着色剤などが
含有されていてもよい。 次いで、上記のようにして調製された塗布液
()と塗布液()とを、塗布液()を支持
体側に配置して支持体の表面に均一に、同時に重
層塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。
この塗布操作は、たとえば、二連式ホツパー型塗
布装置を用いることにより行なうことができる。 塗布液()および塗布液()の塗布量は、
目的とする放射線像変換パネルの特性、塗布液の
粘度、結合剤と蛍光体との混合比などによつて異
なるが、通常は100:1乃至1:1(体積比)の範
囲から選ばれ、好ましくは10:1乃至1:1の範
囲である。 同時重層塗布した後、支持体側の塗布液()
の塗膜およびその上に形成された塗布液()の
塗膜を徐々に加熱することにより乾燥し、支持体
上への蛍光体層および保護膜の形成を完了する。
このようにして支持体上には、支持体側の蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる蛍
光体層と、その上に設けられた帯電防止剤が含有
された結合剤からなる保護膜が形成される。 蛍光体層および保護膜は、必ずしも上記のよう
に支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要
はなく、たとえば、別にガラス板、金属板、プラ
スチツクシートなどの平面シートの上に塗布液を
上述のようにして同時重層塗布することにより蛍
光体層および保護膜を形成した後、これを支持体
上に押圧するか、あるいは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層および保護膜とを接合しても
よい。この場合に、塗布液()と塗布液()
は所望とする放射線像変換パネルの特性、塗布条
件などに応じて、どちらを平面シート側に配置し
て重層塗布を行なつてもよい。 蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パ
ネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との
混合比などによつて異なるが、通常は20μm乃至
1mmとする。ただし、この層厚は50乃至500μm
とするのが好ましい。また、保護膜の膜厚は約3
乃至20μmとするのが好ましい。なお、一般に蛍
光体層の膜厚と保護膜の膜厚との比率は100:1
〜5:1の範囲にあるのが好ましい。 本発明において使用する支持体は、従来の放射
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料あるいは放射線像変換パネルの
支持体として公知の各種の材料から任意に選ぶこ
とができる。そのような材料の例としては、セル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリ
アセテート、ポリカーボネートなどのプラスチツ
ク物質のフイルム、アルミニウム箔、アルミニウ
ム合金箔などの金属シート、通常の紙、バライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を
含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールな
どをサイジングした紙などを挙げることができ
る。ただし、放射線像変換パネルの情報記録材料
としての特性および取扱いなどを考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチツクフイルムである。このプラスチツクフイ
ルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物質が
練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パネルに適
した支持体であり、後者は高感度タイプの放射線
像変換パネルに適した支持体である。 公知の放射線像変換パネルにおいては、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルとしての感度もしくは画質(鮮鋭
度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができる。 さらに、特開昭58−200200号公報に記載されて
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍
光体層側の表面に接着性付与層、光反射層あるい
は光吸収層などが設けられている場合には、その
表面を意味する)には、微細な凹凸が均質に形成
されていてもよい。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。なお、以下の各例で「部」は特に記載の
ない限り「重量部」を表わす。 実施例 1 ポリエステル樹脂(バイロン500、およびバイ
ロン200、東洋紡績(株)製)をメチルエチルケトン
に溶解してポリエステル樹脂溶液を調製した。ま
た、ニトロセルロース(RS−120、ダイセル化学
工業(株)製)をメチルエチルケトンに溶解してニト
ロセルロース溶液を調製した。輝尽性の二価ユー
ロピウム賦活弗化臭化バリウム蛍光体
(BaFBr:Eu2+)の粒子をメチルエチルケトンに
分散したのち、この分散液に上記ポリエステル樹
脂溶液およびニトロセルロース溶液を加え、さら
に群青(顔料;PB−100、第一化成工業(株)製)、
脂肪族ポリイソシアネート(スミジユールN−
75、住友バイエルウレタン(株)製)および燐酸トリ
クレジルを添加し、プロペラミキサーを用いて溶
解して蛍光体を含有する分散液[塗布液()]
を調製した。 次に、帯電防止剤として臭化マグネシウム
(MgBr2)をメチルエチルケトンに添加し充分溶
解させたのち、この溶解液にポリウレタン樹脂
(デスモコール530、住友バイエルウレタン(株)製)、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体(UCAR
Solution Vinyl VYHH、Union Carbide Corp.
製)、ニトロセルロース(RS−120、ダイセル化
学工業(株)製)および燐酸トリクレジルを添加し、
プロペラミキサーを用いて混合して結合剤溶液
[塗布液()]を調製した。 塗布液()および塗布液()の組成を下記
に示す。 塗布液()の組成 BaFBr:Eu2+蛍光体 800部 ポリエステル樹脂(バイロン500) 17.2部 ポリエステル樹脂(バイロン200) 4.3部 ニトロセルロース 2.8部 群 青 0.052部 脂肪族ポリイソシアネート 2.8部 燐酸トリクレジル 2.6部 メチルエチルケトン 201部 塗布液()の組成 ポリウレタン樹脂 27.2部 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 16.4部 ニトロセルロース 10.9部 燐酸トリクレジル 5.4部 臭化マグネシウム 1.8部 メチルエチルケトン 440部 次に、カーボン練り込みポリエチレンテレフタ
レートシート(支持体、厚み:250μm)をガラ
ス板上に水平に置いて、塗布液()および塗布
液()を第1図に示すような二連式ホツパー型
塗布装置を用いて、支持体上に同時に重層塗布し
た。 すなわち、第1図において、二連式ホツパー型
塗布装置1の右側導入部2には塗布液()を注
入し、左側導入部3には塗布液()を導入し
た。導入部1,2の下部開口部の長さはそれぞれ
0.500mmおよび0.150mmであつた。支持体5の置か
れたガラス板4を矢印8の方向に1.0m/分の速
度で移動させながら、下部開口部から塗布液
()および()を支持体5上に同時に重層塗
布して、塗布液()の塗膜6および塗布液
()の塗膜7を形成した。 そして塗布後に、塗膜の形成された支持体を乾
燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃か
ら100℃に徐々に上昇させて50分間塗膜の乾燥を
行なつた。 このようにして支持体上に層厚が約345μmの
蛍光体層、帯電防止剤を含有し層厚が約7μmの
保護膜を各々形成し、支持体、蛍光体層および保
護膜から構成された放射線像変換パネルを製造し
た。 比較例 1 実施例1において、塗布液()に臭化マグネ
シウムを添加しないこと以外は実施例1と同様の
方法により、支持体、蛍光体層および保護膜から
構成された放射線像変換パネルを製造した。 実施例1および比較例1で得られた各放射線像
変換パネルを、次に記載する表面抵抗試験および
搬送性試験により評価した。 (1) 表面抵抗試験 円電極(P−601型、川口電気製作所(株)製)
と絶縁計(EV−40型超絶縁計、川口電気製作
所(株)製)とを組合わせ、110mm×110mmのサイズ
に裁断した放射線像変換パネルを円電極の上に
載せ、電圧を印加してパネルの表面の電気抵抗
を測定した。なお、測定は温度23℃、湿度50%
RHの条件で行なつた。 (2) 搬送性試験 放射線像変換パネルを放射線像記録読取装置
内において搬送させることにより、移動、積層
のサイクルを100回繰り返し行ない、二枚のパ
ネルが同時に搬送される回数を測定した。 得られた結果を第1表に示す。
【表】
第1表から明らかなように、本発明の製造法に
より得られた帯電防止剤が含有された放射線像変
換パネル(実施例1)は、表面抵抗が顕著に小さ
く帯電性が防止され、その結果パネルの二枚搬送
現象は全く発生せず、円滑な搬送操作を行なうこ
とができた。一方、帯電防止剤が含有されない放
射線像変換パネル(比較例1)は、表面抵抗が大
きく、パネルの二枚搬送が3〜4回発生した。 実施例2〜実施例11 実施例1において、塗布液()の臭化マグネ
シウムの代りに下記第2表に示す金属無機塩を用
いること以外は実施例1と同様の方法により、支
持体、蛍光体層および保護膜から構成された放射
線像変換パネルを製造した。 なお、塗布液()における金属無機塩の結合
剤に対する比率は、塩化リチウムと塩化ナトリウ
ムの場合は2重量%であり、それ以外は全て3重
量%であつた。
より得られた帯電防止剤が含有された放射線像変
換パネル(実施例1)は、表面抵抗が顕著に小さ
く帯電性が防止され、その結果パネルの二枚搬送
現象は全く発生せず、円滑な搬送操作を行なうこ
とができた。一方、帯電防止剤が含有されない放
射線像変換パネル(比較例1)は、表面抵抗が大
きく、パネルの二枚搬送が3〜4回発生した。 実施例2〜実施例11 実施例1において、塗布液()の臭化マグネ
シウムの代りに下記第2表に示す金属無機塩を用
いること以外は実施例1と同様の方法により、支
持体、蛍光体層および保護膜から構成された放射
線像変換パネルを製造した。 なお、塗布液()における金属無機塩の結合
剤に対する比率は、塩化リチウムと塩化ナトリウ
ムの場合は2重量%であり、それ以外は全て3重
量%であつた。
【表】
実施例2〜11で得られた各放射線像変換パネル
を前記表面抵抗試験により評価した。得られた結
果を第3表に示す。
を前記表面抵抗試験により評価した。得られた結
果を第3表に示す。
【表】
【表】
第3表から明らかなように、本発明の製造法に
より得られた帯電防止剤が含有された放射線像変
換パネル(実施例2〜11)は、顕著に表面抵抗が
降下して帯電性を防止することができた。
より得られた帯電防止剤が含有された放射線像変
換パネル(実施例2〜11)は、顕著に表面抵抗が
降下して帯電性を防止することができた。
第1図は、本発明の放射線像変換パネルの製造
法に使用される塗布装置の一例である二連式ホツ
パー型塗布装置の概略断面図である。 1:二連式ホツパー型塗布装置、2:右側導入
部[塗布液()]、3:左側導入部[塗布液
()]、4:ガラス板、5:支持体、6:塗布液
()の塗膜、7:塗布液()の塗膜、8:矢
印。
法に使用される塗布装置の一例である二連式ホツ
パー型塗布装置の概略断面図である。 1:二連式ホツパー型塗布装置、2:右側導入
部[塗布液()]、3:左側導入部[塗布液
()]、4:ガラス板、5:支持体、6:塗布液
()の塗膜、7:塗布液()の塗膜、8:矢
印。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結合
剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩から
なる帯電防止剤とからなる結合剤溶液()と
を、該輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()が支持体側となるように支持体表面に同時
に重層塗布して、蛍光体層および保護膜を形成す
ることを特徴とする放射線像変換パネルの製造
法。 2 上記帯電防止剤が、LiCl、NaCl、NaBr、
NaI、NaNO3、Na3PO4、CsI、MgBr2、BaBr2、
BaI2およびAlBr3からなる群より選ばれる少なく
とも一種の金属無機塩である特許請求の範囲第1
項記載の放射線像変換パネルの製造法。 3 上帯電防止剤が、LiCl、NaCl、NaBr、
MgBr2およびAlBr3からなる群より選ばれる少な
くとも一種の金属無機塩である特許請求の範囲第
1項記載の放射線像変換パネルの製造法。 4 上記帯電防止剤が、結合剤溶液()中に結
合剤の量に対して、0.1乃至20重量%の範囲で含
有されている特許請求の範囲第1項記載の放射線
像変換パネルの製造法。 5 上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()の塗布量と帯電防止剤を含有している結合
剤溶液()の塗布量との体積比が、100:1〜
1:1の範囲にある特許請求の範囲第1項記載の
放射線像変換パネルの製造法。 6 上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()および帯電防止剤を含有している結合剤溶
液()における溶剤が、互いに相溶性がある特
許請求の範囲第1項記載の放射線像変換パネルの
製造法。 7 輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶液
()と、この結合剤溶液()に含まれる結合
剤に対して非相溶性の結合剤と金属の無機塩から
なる帯電防止剤とからなる結合剤溶液()と
を、平面シート上に同時に重層塗布して蛍光体層
および保護膜を形成したのち、該蛍光体層および
保護膜を該シートから分離して支持体上に付設す
ることを特徴とする放射線像変換パネルの製造
法。 8 上記帯電防止剤がLiCl、NaCl、NaBr、
NaI、NaNO3、Na3PO4、CsI、MgBr2、BaBr2、
BaI2およびAlBr3からなる群より選ばれる少なく
とも一種の金属無機塩である特許請求の範囲第7
項記載の放射線像変換パネルの製造法。 9 上帯電防止剤が、LiCl、NaCl、NaBr、
MgBr2およびAlBr3からなる群より選ばれる少な
くとも一種の金属無機塩である特許請求の範囲第
7項記載の放射線像変換パネルの製造法。 10 上記帯電防止剤が、結合剤溶液()中に
結合剤の量に対して、0.1乃至20重量%の範囲で
含有されている特許請求の範囲第7項記載の放射
線像変換パネルの製造法。 11 上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶
液()の塗布量と帯電防止剤を含有している結
合剤溶液()の塗布量との体積比が、100:1
〜1:1の範囲にある特許請求の範囲第7項記載
の放射線像変換パネルの製造法。 12 上記輝尽性蛍光体を分散してなる結合剤溶
液()および帯電防止剤を含有している結合剤
溶液()における溶剤が、互いに相溶性がある
特許請求の範囲第7項記載の放射線像変換パネル
の製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5667385A JPS61213800A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 放射線像変換パネルの製造法 |
| US06/771,122 US4728583A (en) | 1984-08-31 | 1985-08-30 | Radiation image storage panel and process for the preparation of the same |
| EP90100227A EP0377470B1 (en) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Radiation image storage panel |
| DE3587955T DE3587955T2 (de) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Schirm zum Speichern eines Strahlungsbildes. |
| EP85111030A EP0173352B1 (en) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Radiation image storage panel and process for the preparation of the same |
| DE8585111030T DE3582206D1 (de) | 1984-08-31 | 1985-09-02 | Schirm zum speichern eines strahlungsbildes und verfahren zur herstellung desselben. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5667385A JPS61213800A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 放射線像変換パネルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61213800A JPS61213800A (ja) | 1986-09-22 |
| JPH0552917B2 true JPH0552917B2 (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=13033937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5667385A Granted JPS61213800A (ja) | 1984-08-31 | 1985-03-20 | 放射線像変換パネルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61213800A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003090900A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | シートの製造方法及び放射線像変換パネル |
-
1985
- 1985-03-20 JP JP5667385A patent/JPS61213800A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61213800A (ja) | 1986-09-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |