JPS6180742A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS6180742A JPS6180742A JP20229184A JP20229184A JPS6180742A JP S6180742 A JPS6180742 A JP S6180742A JP 20229184 A JP20229184 A JP 20229184A JP 20229184 A JP20229184 A JP 20229184A JP S6180742 A JPS6180742 A JP S6180742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- electron beam
- vacuum deposition
- ray
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はＸ線発生装置であり、特に回転体が特定の金属
で構成されて、この金属材料に電子ビームが投射される
ことにより、特定の波長のＸ線が投射される回転式のＸ
線発生装置に関するものである。
で構成されて、この金属材料に電子ビームが投射される
ことにより、特定の波長のＸ線が投射される回転式のＸ
線発生装置に関するものである。
Ｘ線発生装置では、特定の波長を投射する材料が限定さ
れ、例えばアルミニウムを電子ビームのターゲットに使
用すると、８．３人の波長のＸ線が投射される。
れ、例えばアルミニウムを電子ビームのターゲットに使
用すると、８．３人の波長のＸ線が投射される。
然しなから、高速度で露光を行う′場合には強度の大き
いＸ線で露光をする必要があり、そのために高エネルギ
ーでターゲットに照射すると、照射部の金属が高温にな
って溶解するために安定に動作をさせることが不可能に
なり、これの改善が要望されている。
いＸ線で露光をする必要があり、そのために高エネルギ
ーでターゲットに照射すると、照射部の金属が高温にな
って溶解するために安定に動作をさせることが不可能に
なり、これの改善が要望されている。
第２図は従来のＸ線発生装置を説明するための要部の断
面図である。
面図である。
電子ビーム発生装置１から発射された実線の矢印の電子
ビームはターゲット２に投射され、電子ビームが投射さ
れた部分からは、点線のようなその部分の金属材料の種
類により波長が決まるＸ線が発生される。
ビームはターゲット２に投射され、電子ビームが投射さ
れた部分からは、点線のようなその部分の金属材料の種
類により波長が決まるＸ線が発生される。
ターゲット２は直径約４０ｃｍで、通常ターゲット本体
が熱伝導の良好な銅が使用され、その表面にＸ線を発生
する特定の材料面５で被覆され、高工ネルギーの電子ビ
ームによってターゲットの定位置が長時間にわたり投射
され続けると、その部分の金属が熔融するために、ター
ゲット２が過熱されないように、回転軸３によって、タ
ーゲートを２０００〜４０００ Ｒ，Ｐ、Ｍ、で回転さ
れ、又回転軸にはターゲットを冷却するための水冷パイ
プ４が設けられていて、ターゲットを冷却し手いる。
が熱伝導の良好な銅が使用され、その表面にＸ線を発生
する特定の材料面５で被覆され、高工ネルギーの電子ビ
ームによってターゲットの定位置が長時間にわたり投射
され続けると、その部分の金属が熔融するために、ター
ゲット２が過熱されないように、回転軸３によって、タ
ーゲートを２０００〜４０００ Ｒ，Ｐ、Ｍ、で回転さ
れ、又回転軸にはターゲットを冷却するための水冷パイ
プ４が設けられていて、ターゲットを冷却し手いる。
このように構成されたＸ線発生装置では、ターゲートを
高真空中で高速回転させるために、回転部に使用される
潤滑材がターゲット表面に蒸発して付着したり、又アル
ミニウムが電子ビームの衝撃により表面状態が変化し、
その結果Ｘ線の発生効率が劣化する。
高真空中で高速回転させるために、回転部に使用される
潤滑材がターゲット表面に蒸発して付着したり、又アル
ミニウムが電子ビームの衝撃により表面状態が変化し、
その結果Ｘ線の発生効率が劣化する。
上記の構成のＸ線発生装置においては、電子ビームが投
射されるターゲット面に異物が被着するということが問
題点であり、そのために安定にＸ線の発生が出来ないと
いう不具合を生ずる。
射されるターゲット面に異物が被着するということが問
題点であり、そのために安定にＸ線の発生が出来ないと
いう不具合を生ずる。
本発明は上記問題点を解消したＸ線発生装置を提供する
もので、その手段は、電子ビームが回転するターゲット
に投射されて、該ターゲットからＸ線が放射されるＸ線
発生装置において、上記ターゲットに近接して金属蒸着
装置を設けてＸ線発生期間の常時又は間欠的に上記ター
ゲットの電子ビームが投射される部分に上記ターゲット
と同材料の金属が上記金属蒸着装置から蒸着されるよう
に構成されたことを特徴とするＸ線発生装置によって達
成ｔきる。
もので、その手段は、電子ビームが回転するターゲット
に投射されて、該ターゲットからＸ線が放射されるＸ線
発生装置において、上記ターゲットに近接して金属蒸着
装置を設けてＸ線発生期間の常時又は間欠的に上記ター
ゲットの電子ビームが投射される部分に上記ターゲット
と同材料の金属が上記金属蒸着装置から蒸着されるよう
に構成されたことを特徴とするＸ線発生装置によって達
成ｔきる。
本発明は電子ビームが投射されるＸ線を発生するターゲ
ットに異物が付着したり、表面状態が変化しても、ター
ゲットに近接してそのターゲット材料と同一の材料を常
にターゲット表面に蒸着して被膜するためにターゲット
は常に表面が清浄であり、そのために安定なＸ線を放射
するように考慮したものである。
ットに異物が付着したり、表面状態が変化しても、ター
ゲットに近接してそのターゲット材料と同一の材料を常
にターゲット表面に蒸着して被膜するためにターゲット
は常に表面が清浄であり、そのために安定なＸ線を放射
するように考慮したものである。
第１図は本発明のＸ線発生装置の実施例を説明するため
の模式断面図である。
の模式断面図である。
電子ビームは電子ビーム発生装置１１から発射されてタ
ーゲット１２に投射される。
ーゲット１２に投射される。
ターゲット１２は本体の直径が約４０ｃｍで、熱伝導の
良好な銅が使用されるが、波長が８．３人のＸ線を発生
させるためにターゲットの本体である銅の表面に厚みが
約２〜３０μｍのアルミニウム１９が被模さている。
良好な銅が使用されるが、波長が８．３人のＸ線を発生
させるためにターゲットの本体である銅の表面に厚みが
約２〜３０μｍのアルミニウム１９が被模さている。
ターゲット１２の温度が過熱されないように、回転軸１
３によって、ターゲットは回転され、又回転軸にはター
ゲットを冷却するための水冷パイプ１４が設けられてい
る。
３によって、ターゲットは回転され、又回転軸にはター
ゲットを冷却するための水冷パイプ１４が設けられてい
る。
本発明によるＸ線発生装置では、ターゲット１２に近接
して、ターゲット表面にアルミニウムを蒸着するための
電子ビーム蒸着（ＥＢ蒸着）装置を設けたことにある。
して、ターゲット表面にアルミニウムを蒸着するための
電子ビーム蒸着（ＥＢ蒸着）装置を設けたことにある。
ＥＢ蒸着室１５があり、ターゲットの方向に開口部１６
があって蒸着物が矢印のように、ターゲットに飛来して
くるように配置されている。
があって蒸着物が矢印のように、ターゲットに飛来して
くるように配置されている。
芸着るつぼ１７には蒸着ソースであるアルミニウム２０
が充瞑されており、電子ガン１８からの電子ビームによ
り蒸着レートが数百人／分の割合で蒸着がなされる。
が充瞑されており、電子ガン１８からの電子ビームによ
り蒸着レートが数百人／分の割合で蒸着がなされる。
このような構造であると、電子ビームによりターゲット
１２から常にＸ線を発生させながら、電子ビーム蒸着装
置１５により、ターゲットの表面には新たなアルミニウ
ム膜が形成されているために、正常なＸ線の発生が行わ
れることになる。
１２から常にＸ線を発生させながら、電子ビーム蒸着装
置１５により、ターゲットの表面には新たなアルミニウ
ム膜が形成されているために、正常なＸ線の発生が行わ
れることになる。
この結果、Ｘ線発生のための電子ビームを増大してＸ線
発生量の増加をはかることできるし、又ターゲットの表
面を清浄に保つために可能な限り放熱を行った高速度回
転を減速して数百ｒ、ｐ、ｍ、程度に設定することがで
き、機構部の信頼性が向上することになる。
発生量の増加をはかることできるし、又ターゲットの表
面を清浄に保つために可能な限り放熱を行った高速度回
転を減速して数百ｒ、ｐ、ｍ、程度に設定することがで
き、機構部の信頼性が向上することになる。
以上詳細に説明したように本発明のＸ線発生装置は、正
常な発生機能と信頼性の高い出力特性をを供し得るとい
う妨果大なるものがある。
常な発生機能と信頼性の高い出力特性をを供し得るとい
う妨果大なるものがある。
第１図は本発明のＸ線発生装置のターゲット部を説明す
るための模式断面図、 第２図は従来のＸ線発生装置のターゲット部を説明する
ための模式断面図、 図において、１１は電子ビーム発生装置、１２はターゲ
ット、１３は回転軸、１４は水冷パイプ、１５は電子ビ
ーム蒸着室、１６は開口部、１７は蒸着るつぼ、１８は
電子ガン、１９はアルミニウムの被膜面、２０はアルミ
ニウムの充填物である。 ｆＪＳｌ 図 第２図
るための模式断面図、 第２図は従来のＸ線発生装置のターゲット部を説明する
ための模式断面図、 図において、１１は電子ビーム発生装置、１２はターゲ
ット、１３は回転軸、１４は水冷パイプ、１５は電子ビ
ーム蒸着室、１６は開口部、１７は蒸着るつぼ、１８は
電子ガン、１９はアルミニウムの被膜面、２０はアルミ
ニウムの充填物である。 ｆＪＳｌ 図 第２図
Claims (1)
- 電子ビームが回転するターゲットに投射されて、該ター
ゲットからＸ線が放射されるＸ線発生装置において、上
記ターゲットに近接して金属蒸着装置を設けてＸ線発生
期間の常時又は間欠的に上記ターゲットの電子ビームが
投射される部分に上記ターゲットと同材料の金属が上記
金属蒸着装置から該ターゲット面に蒸着されるように構
成されたことを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20229184A JPS6180742A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20229184A JPS6180742A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180742A true JPS6180742A (ja) | 1986-04-24 |
Family
ID=16455106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20229184A Pending JPS6180742A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180742A (ja) |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP20229184A patent/JPS6180742A/ja active Pending
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