JPS618167A - 真空下で対象物に含浸させるための含浸容器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は真空下で対象物に含浸させるための含浸容器で
あって、含浸物用の密閉可能な装入口、容器を真空化す
るだめの吸込み口及び含浸剤用の供給装置を備えだ形式
のものに関する。

従来の技術 この種の含浸容器は、液状含浸剤、例えば゛合成樹脂又
は油を含浸対象物中に浸透させるだめに使用される。典
型的な１つの例は、コイルに対する合成樹脂の含浸であ
る。真空含浸の利点は、含浸剤が含浸対象物の孔及び中
空室への浸入前に空気及びその他のガスが圧力低下（真
空化）によりこれらの中空室内から抜取られ、それによ
り含浸剤が中空室内に完全に充満することができること
にある。更に、その際には、含浸剤をなお中空室内に残
留する残留ガスを自体内に吸収できるようなるまでにガ
ス不含にすることができる。

公知の含浸容器においては、含浸剤は容器底又は底近く
から供給される。このような供給過程では、含浸剤のガ
ス抜きを行なうことができない。

発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、容器内への充填中に含浸剤のガス抜き
を有効に行なうことができる含浸容器を提供することで
ある。

問題点を解決するだめの手段 前記課題は、本発明によシ、供給装置が多数の流出口１
９を有し、該流出口が容器の上方部分にその内周にわた
って分配されて容器壁１０近くに配置されており、かつ
含浸剤２０が壁１に沿って導びかれるように配置されて
いることにより解決される。

作用 こうして構成された真空化含浸容器内では、含浸剤は薄
膜の形で容器壁に治って流れかつガス抜きされる。含浸
剤が薄い、ひいては大面積の層に展開することは、ガス
の放出にとって極めて好都合である、従って容器の底に
十分にガス抜きされた含浸剤が集合しかつ容器内に収容
された含浸対象物をおおう。この利点は著しく僅かな構
造費で達成される、専ら供給装置を、含浸剤が容器の周
囲全体にわたって分配されるように構成するだけでよい
。

供給装置は有利には容器内に配置された環状導管を有す
る（特許請求の範囲第２項）。この構成は特に有利であ
る、それというのも容器壁の漏れのない貫流だけが必要
であるにすぎないからである。

本発明の有利な実施態様（特許請求の範囲第６項）によ
れば、容器室内に遮蔽壁が配置されている。この遮蔽壁
は同様に、含浸剤をガス抜きのために面状に展開させる
（特許請求の範囲第４項）ために、有利に利用される。

遮蔽壁によって、有効室が場合によってなおガス抜きさ
れていない含浸剤に対して遮蔽される、従って含浸物は
常法と同じく下から含浸剤流によっておおわれる。遮蔽
壁を有する構造の場合には、遮蔽壁と容器室との間のガ
ス抜き室を上向きに容器室に対して開口させるのが有利
である（特許請求の範囲第４項）。この構成は含浸剤か
ら放出するガスを吸込むために特に好適である。

容器壁は有利には垂直である（特許請求の範囲第６項）
。垂直壁から含浸剤は急速に流出する、従って含浸容器
に急速に充填する際にも含浸剤は薄い層に展開される。

特許請求の範囲第７項によれば、遮蔽壁は格子上に支持
されている、この場合には含浸剤は遮蔽壁と容器壁との
間にあるガス抜き室の下端で格子を貫流しかつ遮蔽壁の
あらゆる側で含浸容器の有効室内を上昇する。

実施例 次に図示の実施例につき本発明の詳細な説明する。

含浸容器は円筒状外壁１を有し、該外壁は下向きにわん
曲した底２にから立上っている。該容器は上方で係脱自
在の蓋２によって閉じられている。蓋２は容器室４をガ
ス抜き室１２も含み周囲対して気密に閉鎖する。蓋内の
吸込み口５に吸込み導管６が接続され、該吸込み導管は
図示されていない真空ポンプに通じている。

底２の最深部に、取出ロアが配置され、該取出口は弁８
によって閉鎖可能である。

容器室４内には格子９が設けられ、該格子は含浸物１０
を装入するだめの底として役立つ。

格子１０によって円筒形遮蔽壁１１も支持され、該遮蔽
壁は外壁１１に対して平行である。壁゛１１及び１０の
間に中間室１２が形成され、該中間室はガス抜き室と称
されるべきである。

遮蔽壁１１の上端には外向きに突出した縁部１３が設け
られているが、該縁部は外壁１まで達していす、従って
縁部゛１３のエツジ１３ａと外壁１との間に貫通部１４
が残り、該貫通部を介してガス抜き室１２は容器室４と
連通している。

ガス抜き室１２の上端には、容器の周囲全体にわたって
延びる環状導管１５が設けられている。環状導管１５に
は、供給導管１６が開口し、該供給導管は弁１７で閉鎖
可能である。環状導管１５に流出口１８及び１９が設け
られており、これらの流出口は、流出口１８が出る含浸
剤が遮蔽壁１１に対してかつ流出口１９から出る含浸剤
が外壁１に対して導びかれるように配向されている。こ
のことは図面には小さな矢印で示されている。

含浸容器は以下のようにして採作される。蓋３を取外し
た状態で、なお空の容器に含浸物１０を入れる。蓋３で
容器を閉鎖した後、その中に含有された空気を十分に吸
出す、その際含浸物１０内に存在するガス、例えば孔内
に存在する空気も除去される。その後、弁１７を開けて
液状含浸剤を流入させる。液体は壁１及び１１に沿って
導びかれかつ膣壁に沿って薄膜として流下する。含浸剤
２０内に溶解したガスは、気相に移行し、その際まず液
体内に気泡が形成され、次いでそれが破裂する。ガスは
吸込み導管６を介して吸込まれる。含浸剤は下向きに流
下する過程で、そのガス含量を減少する、このことは図
面には上から下に向かって次第に小さくなった気泡によ
って示されている。含浸剤はガス抜き室１２の下端で格
子９を貫通しかつ次いでまず格子９の下の室４ａに達す
る。室４ａに充満した後、含浸剤は格子開口を貫流して
有効室４ｂ内に達し、該室内に含浸物１０が存在する。

含浸物１０が完全におおわれるまで、含浸剤は供給され
る。含浸物１０がおおわれた後、内部の圧力は例えば周
囲圧或はまたそれ以上゛に高められる。この圧力上昇に
伴い、本来の含浸工程が行なわれる、それというのも含
浸物１０の予めガス抜きされた孔及び同種のもの内に含
浸剤は圧入されるからである。含浸物及び含浸剤に左右
される一定の含浸時間後に、過剰の含浸剤は弁８を開く
ことにより抜取られかつ貯蔵容器に供給され、そこから
後続の含浸工程のために再び取出される。

貯蔵容器は任意の位置にあってよい。特に含浸容器の直
ぐ下に配置されていてもよく、この場合には貯蔵容器及
びそれと直接結合されだ含浸容器は１つのユニットを構
成することができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明による含浸容器の略示縦断面図である。 １・・容器壁、２・・・容器底、４・・・容器内部、５
・・吸込み口、９・・・格子、１０・・含浸物、１１・
・・遮蔽壁、１２・・・ガス抜き室、１４・・開口、１
５・・・供給装置、１８．１９・・・流出口、２０・・
含浸剤

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、真空下で対象物に含浸させるための含浸容器であつ
   て、含浸物用の密閉可能な装入口、容器を真空化するた
   めの吸込み口及び含浸剤用の供給装置を備えた形式のも
   のにおいて、供給装置が多数の流出口（１９）を有し、
   該流出口が容器の上方部分にその内周にわたつて分配さ
   れて容器壁（１）の近くに配置されており、かつ含浸剤
   （２０）が壁（１）に沿つて導びかれるように配置され
   ていることを特徴とする、真空下で対象物に含浸させる
   ための含浸容器。 ２、供給装置が環状導管（１５）を有し、該導管が容器
   の上方部分内をその壁（１）に沿つて延びておりかつ該
   導管に流出口（１８、１９）が設けられている、特許請
   求の範囲第１項記載の含浸容器。 ３、容器内部（４）に容器壁（１）から距離をもつて遮
   蔽壁（１１）が配置されておりかつ供給装置（１５）が
   容器壁（１）と遮蔽壁 （１１）との間の中間室（ガス抜き室１２）内に配置さ
   れており、該ガス抜き室（１２）が吸込み口（５）と連
   通されている、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の
   含浸容器。 ４、含浸剤（２０）が遮蔽壁（１１）に沿つて導びかれ
   るように、遮蔽壁（１１）に対して相対的に流出口（１
   ９）が配置されている、特許請求の範囲第３項記載の含
   浸容器。 ５、ガス抜き室（１２）がその上端で容器内部（４）に
   向つて開口している（開口１４）、特許請求の範囲第３
   項又は第４項記載の含浸容器。 ６、壁（１）が垂直であり、該壁の上方部分に供給装置
   （１５）が配置されている、特許請求の範囲第１項から
   第５項までのいずれか１項記載の含浸容器。 ７、容器底（２）の上の容器室（４）内に格子（９）が
   配置されており、かつ該格子（９）の上に遮蔽壁（１１
   ）が載つており、しかもガス抜き室（１２）が格子内の
   貫通口及び格子（９）の下の室（４ａ）を介して含浸物 （１０）を受入れる室（４ｂ）と連通されている、特許
   請求の範囲第３項から第６項までのいずれか１項記載の
   含浸容器。