JPS6182150A - Ｘ線分光分析装置 - Google Patents
Ｘ線分光分析装置Info
- Publication number
- JPS6182150A JPS6182150A JP59205330A JP20533084A JPS6182150A JP S6182150 A JPS6182150 A JP S6182150A JP 59205330 A JP59205330 A JP 59205330A JP 20533084 A JP20533084 A JP 20533084A JP S6182150 A JPS6182150 A JP S6182150A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- spectrometers
- electron beam
- spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
- G01N23/2076—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions for spectrometry, i.e. using an analysing crystal, e.g. for measuring X-ray fluorescence spectrum of a sample with wavelength-dispersion, i.e. WDXFS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ・ 産業上の利用分野
本発明は試料面の微小領域の分析を行うＸ線マイクロア
ナライザに関する。
ナライザに関する。
ロ、従来技術
Ｘ線マイクロアナライザは電子ビームを試料面上に収束
させ試料面の電子ビーム照射点から放射されるＸ線を分
光分析するもので、通常試料の周囲に複数台のＸ線分光
器が配置されているが、一つの元素の分析には一台のＸ
線分光器を使うようになっている。
させ試料面の電子ビーム照射点から放射されるＸ線を分
光分析するもので、通常試料の周囲に複数台のＸ線分光
器が配置されているが、一つの元素の分析には一台のＸ
線分光器を使うようになっている。
ハ・ 発明が解決しようとする問題点
試料面の電子ビーム照射点からは四方にＸ線が出ている
が、一つの分光結晶がＸ線放射点を望む立体角は小さい
から、−元素につき一台のＸ線分光器を用いているだけ
の従来のＸ線マイクロアナライザでは一回の測定に時間
がか＼ると云う問題があった。またＸ線マイクロアナラ
イザでは試料の電子ビーム照射域が小さいので、細い凹
凸のある試料で、電子ビーム照射点が丁度その凸部或は
凹部で分光結晶から見て陰になる部分があると、その部
分から放射されているＸ線は分光器に入射できず、見掛
上その電子ビーム照射点（微小領域）には測定しようと
している元素がないか検出されても実際より量が少ない
ように観測されると云う問題があった。
が、一つの分光結晶がＸ線放射点を望む立体角は小さい
から、−元素につき一台のＸ線分光器を用いているだけ
の従来のＸ線マイクロアナライザでは一回の測定に時間
がか＼ると云う問題があった。またＸ線マイクロアナラ
イザでは試料の電子ビーム照射域が小さいので、細い凹
凸のある試料で、電子ビーム照射点が丁度その凸部或は
凹部で分光結晶から見て陰になる部分があると、その部
分から放射されているＸ線は分光器に入射できず、見掛
上その電子ビーム照射点（微小領域）には測定しようと
している元素がないか検出されても実際より量が少ない
ように観測されると云う問題があった。
本発明はこれら二つの問題を解決しようとするものであ
る。
る。
二・問題解決のだめの手段
本発明は試料周囲の複数のＸ線分光器を同一波長位置に
設定し、−元素につき複数のＸ線分光器で異る方向から
Ｘ線分光分析を行うようにした。
設定し、−元素につき複数のＸ線分光器で異る方向から
Ｘ線分光分析を行うようにした。
ホ・作用
Ｘ線分光分析における検出感度は測定時間の平方根に比
例し、同一波長につきＸ線分光器をｎ台用いると、測定
時間をｎ倍したのと等しいから感度は６倍になり、感度
を同一にすれば測定所要時間が１／ｎに短縮される。ま
た試料の電子ビーム照射点を異る方向から見ているので
、凹凸のある試料でも分光器から見て陰になる部分がな
くなシ、凹凸の影響のない分析結果が得られる。
例し、同一波長につきＸ線分光器をｎ台用いると、測定
時間をｎ倍したのと等しいから感度は６倍になり、感度
を同一にすれば測定所要時間が１／ｎに短縮される。ま
た試料の電子ビーム照射点を異る方向から見ているので
、凹凸のある試料でも分光器から見て陰になる部分がな
くなシ、凹凸の影響のない分析結果が得られる。
へ・実施例
第１図は本発明の一実施例を示す。Ｅは電子ビーム、Ｓ
は試料である。Ｃ１，Ｃ２は分光結晶、ＤＩ、Ｄ２はＸ
線検出器テ、Ｃ１，Ｄ ｌハ−ッ１７）Ｘ線分光器Ｍ１
を構成しておシ、Ｃ２，Ｄ２はＭｌと同じ仕様のもう一
つのＸ線分光器Ｍ２を構成している。これら二台のＸ線
分光器は試料Ｓの周囲に１８０ 距て＼配置されており
、共に試料上の電子ビーム照射点を望んでいる。分光結
晶ｃ１、Ｃ２は夫々送りねじＴｌ、Ｔ２によって夫々矢
印方向に駆動され、矢印方向に沿う線上の位置によって
設定波長が決まる。Ｘ線検出器ＤＩ、Ｄ２は夫々分光結
晶Ｃ１，Ｃ２と機構的に連結されており、Ｃ１，Ｃ２の
移動に伴って動く。各送りねじＴｌ、Ｔ２は夫々ステッ
ピングモータＰＩ、Ｐ２によって駆動され、両ステッピ
ングモータは共通の駆動制御回路１によって駆動され、
二つのＸ線分光器Ｍｌ、Ｍ２は連動的に同じ波長位置に
設定される。Ｘ線検出器ＤＩ、Ｄ２の出方はパルスアン
プ２１．２２で増幅された後、加算回路３で合算され、
記録計或はＣＲＴ等の表示装置４によって表示される。
は試料である。Ｃ１，Ｃ２は分光結晶、ＤＩ、Ｄ２はＸ
線検出器テ、Ｃ１，Ｄ ｌハ−ッ１７）Ｘ線分光器Ｍ１
を構成しておシ、Ｃ２，Ｄ２はＭｌと同じ仕様のもう一
つのＸ線分光器Ｍ２を構成している。これら二台のＸ線
分光器は試料Ｓの周囲に１８０ 距て＼配置されており
、共に試料上の電子ビーム照射点を望んでいる。分光結
晶ｃ１、Ｃ２は夫々送りねじＴｌ、Ｔ２によって夫々矢
印方向に駆動され、矢印方向に沿う線上の位置によって
設定波長が決まる。Ｘ線検出器ＤＩ、Ｄ２は夫々分光結
晶Ｃ１，Ｃ２と機構的に連結されており、Ｃ１，Ｃ２の
移動に伴って動く。各送りねじＴｌ、Ｔ２は夫々ステッ
ピングモータＰＩ、Ｐ２によって駆動され、両ステッピ
ングモータは共通の駆動制御回路１によって駆動され、
二つのＸ線分光器Ｍｌ、Ｍ２は連動的に同じ波長位置に
設定される。Ｘ線検出器ＤＩ、Ｄ２の出方はパルスアン
プ２１．２２で増幅された後、加算回路３で合算され、
記録計或はＣＲＴ等の表示装置４によって表示される。
試料の周囲に配置するＸ線分光器は試料を中心としてな
るべく対称的に配置するのが望ましい。
るべく対称的に配置するのが望ましい。
これはＸ線分光器の配置が偏っていると、凹凸のある試
料において凹凸の影響が対称でなくなシ凹凸の影響を完
全には打消せなくなるからである。
料において凹凸の影響が対称でなくなシ凹凸の影響を完
全には打消せなくなるからである。
第２図は試料Ｓの周囲に１２０°間隔で同一仕様のＸ線
分光器Ｍｌ、Ｍ２．Ｍ３を配置したものである。
分光器Ｍｌ、Ｍ２．Ｍ３を配置したものである。
ト８効果
本発明によれば一個の分光器で測定するよシも、試料か
ら放射されるＸ線を多く測定に利用しているので、従来
と同一時間をかけると検出感度が向上し、分析精度が向
上し、同じ感度精度を得る場合、分析所要時間が短縮さ
れる。また第３図Ａに示すような凸部を有する試料をＸ
方向に動かしながら試料面上のＸ方向の線に沿う分析を
行う場合、試料面のＢの範囲は分光結晶Ｃから見ると陰
になっておシ、凸部の側面ＦではＧの範囲からの反射電
子及びＸ線による励起でＸ線が放射されており、これが
Ｇの範囲の走査中に検出されるのでＸ線の検出強度のＸ
方向分布は第３図Ｂのようになるが、分光結晶Ｃ′によ
るＸ線強度のＸ方向分布は第３図Ｃのようになって第３
図Ｂと丁度反対の形になるので、両方の測定結果の合算
にょシ凹凸の影響が消去され、凹凸のある試料に対して
も正確な分析ができる。
ら放射されるＸ線を多く測定に利用しているので、従来
と同一時間をかけると検出感度が向上し、分析精度が向
上し、同じ感度精度を得る場合、分析所要時間が短縮さ
れる。また第３図Ａに示すような凸部を有する試料をＸ
方向に動かしながら試料面上のＸ方向の線に沿う分析を
行う場合、試料面のＢの範囲は分光結晶Ｃから見ると陰
になっておシ、凸部の側面ＦではＧの範囲からの反射電
子及びＸ線による励起でＸ線が放射されており、これが
Ｇの範囲の走査中に検出されるのでＸ線の検出強度のＸ
方向分布は第３図Ｂのようになるが、分光結晶Ｃ′によ
るＸ線強度のＸ方向分布は第３図Ｃのようになって第３
図Ｂと丁度反対の形になるので、両方の測定結果の合算
にょシ凹凸の影響が消去され、凹凸のある試料に対して
も正確な分析ができる。
第１図は本発明の一実施例の構成を示すブロック図、第
２図は他の実施例の平面図、第３図は本発明の詳細な説
明する図である。
２図は他の実施例の平面図、第３図は本発明の詳細な説
明する図である。
Claims (1)
- 試料の電子ビーム照射点を中心に略対称的に複数台のＸ
線分光器を配置し、これらのＸ線分光器の波長駆動機構
を共通の駆動制御回路で駆動して上記各Ｘ線分光器を同
一波長に設定するようにし、上記各Ｘ線分光器のＸ線検
出器の出力を合算して表示或は記録するようにしたこと
を特徴とするＸ線分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59205330A JPS6182150A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Ｘ線分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59205330A JPS6182150A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Ｘ線分光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6182150A true JPS6182150A (ja) | 1986-04-25 |
Family
ID=16505135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59205330A Pending JPS6182150A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | Ｘ線分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6182150A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0167548U (ja) * | 1987-10-23 | 1989-05-01 | ||
| JP2012026827A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-02-09 | Jeol Ltd | Ｘ線検出装置 |
| JP2012242392A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Fei Co | 閉塞検出を行う荷電粒子顕微鏡 |
| JP2014153342A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-25 | Jeol Ltd | 試料分析方法および試料分析装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912553A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP59205330A patent/JPS6182150A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912553A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0167548U (ja) * | 1987-10-23 | 1989-05-01 | ||
| JP2012026827A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-02-09 | Jeol Ltd | Ｘ線検出装置 |
| JP2012242392A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Fei Co | 閉塞検出を行う荷電粒子顕微鏡 |
| JP2014153342A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-25 | Jeol Ltd | 試料分析方法および試料分析装置 |
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