JPS6184505A - 位置検出装置 - Google Patents
位置検出装置Info
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- JPS6184505A JPS6184505A JP59206414A JP20641484A JPS6184505A JP S6184505 A JPS6184505 A JP S6184505A JP 59206414 A JP59206414 A JP 59206414A JP 20641484 A JP20641484 A JP 20641484A JP S6184505 A JPS6184505 A JP S6184505A
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- lens
- light
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0221—Testing optical properties by determining the optical axis or position of lenses
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の利用分野)
本発明は、光線を反射する被検面、例えばレンズ面と本
発明装置との相対的位薗を、光の干渉を利用して検出す
る位置検出装置に関するものである。
発明装置との相対的位薗を、光の干渉を利用して検出す
る位置検出装置に関するものである。
(発明の背景)
従来、レンズ面の位置やレンズの中心厚を測定する装置
として、リニアエンコーダを内蔵した、第74図に示さ
れるような測長機がある。1は被検面であるレンズ面を
有するレンズ、2は垂直に移動可能なスピンドル、3は
スピンドル2に取り付けられた光学的なリニアスケール
、4は架台、5は架台4)こ取り付けられ、リニアスケ
ール3の変位量を読み取るセンナ、6はスピンドル3が
精度よく、且つ滑らかに移動できるように支持するベア
リング、7は載物台面である。なお、リニアスケール3
、センサ5及びセンサ5の出力を処理し、リニアスケー
ル3の変位量を表示する電子回路から成るものをリニア
エンコーダと称している。
として、リニアエンコーダを内蔵した、第74図に示さ
れるような測長機がある。1は被検面であるレンズ面を
有するレンズ、2は垂直に移動可能なスピンドル、3は
スピンドル2に取り付けられた光学的なリニアスケール
、4は架台、5は架台4)こ取り付けられ、リニアスケ
ール3の変位量を読み取るセンナ、6はスピンドル3が
精度よく、且つ滑らかに移動できるように支持するベア
リング、7は載物台面である。なお、リニアスケール3
、センサ5及びセンサ5の出力を処理し、リニアスケー
ル3の変位量を表示する電子回路から成るものをリニア
エンコーダと称している。
レンズ1の上面の位置或いは中心厚を測定する場合、ま
ず載物台面7にレンズlが載っていない状態で、スピン
ドル2を載物台面7まで下げ、その時のリニアエンコー
タの表示値を零にセットする。次にスピンドル2を十分
上に上げ、レンズ1を載物台面7に置き、スピンドル2
をレンズ1の上面まで下げる。その時のリニアエンコー
ダの表示値がレンズ1の上面の位置、即ち第7図のよう
に両凸レンズの場合はレンズ1の中心厚を示す。
ず載物台面7にレンズlが載っていない状態で、スピン
ドル2を載物台面7まで下げ、その時のリニアエンコー
タの表示値を零にセットする。次にスピンドル2を十分
上に上げ、レンズ1を載物台面7に置き、スピンドル2
をレンズ1の上面まで下げる。その時のリニアエンコー
ダの表示値がレンズ1の上面の位置、即ち第7図のよう
に両凸レンズの場合はレンズ1の中心厚を示す。
第7図図示の測長機の問題点は、接触式であるため、被
検面にきすをつけやすいこと、スピンドル2の先端と被
検面又は載物台面7との間に接触圧による弾性変形が生
じ、測定誤差を発生すること、更には、被検物の内面が
測定不可能のため。
検面にきすをつけやすいこと、スピンドル2の先端と被
検面又は載物台面7との間に接触圧による弾性変形が生
じ、測定誤差を発生すること、更には、被検物の内面が
測定不可能のため。
例えば貼り合わせレンズの貼り合わせ面と表面との距離
、又は複数レンズを組み合わせたレンズ系での空気間隔
を測定することができないこと、などである。
、又は複数レンズを組み合わせたレンズ系での空気間隔
を測定することができないこと、などである。
一方、非接触方法として、光切断法、三角測量法、被検
面に焦点を結ぶレンズ位置の移動量を測る方法があるが
、これらはすべて、被検物の内面を被検面として測定す
る場合には、常に被検物の表面の形状に依存し、その形
状を正確に知らないと、測定できないという大きな問題
点をもっている。
面に焦点を結ぶレンズ位置の移動量を測る方法があるが
、これらはすべて、被検物の内面を被検面として測定す
る場合には、常に被検物の表面の形状に依存し、その形
状を正確に知らないと、測定できないという大きな問題
点をもっている。
(発明の目的)
本発明の目的は、上述した問題点を解決し、被検面と接
触しない、且つ被検面の表面の形状に本質的に依存しな
い位置検出装置を提供することである。
触しない、且つ被検面の表面の形状に本質的に依存しな
い位置検出装置を提供することである。
(発明の特徴)
上記目的を達成するために、本発明は、マイケルソンの
干渉計の原理を被検面の位置検出に応用し、その応用に
あたって、マイケルソンの干渉計とは逆の発想で、可干
渉距離の短い、即ちスペクトル幅のある程度広い光源を
用いて、干渉縞の可視度曲線が参照光学系の光路長の変
化に敏感であるようにしたこと、分割された一方の平行
光束を被検面上に集光し、被検面からの反射光束を再び
平行光束とするピント調整可能な対物レンズを設けて、
被検面の位置のみにより一方の光路の光路長が変わるよ
うにしたこと、分割された他方の平行光束の光路長を変
化させる参照光学系及び参照光学系の光路長の変化量を
測長する測長手段を設けて、参照光学系の光路長を変化
させながら、可視度の特定点、即ちピーク或いは変曲点
における前記光路長の変化量を測長し、その変化量から
被検面の位置を検出するようにしたことを特徴とする。
干渉計の原理を被検面の位置検出に応用し、その応用に
あたって、マイケルソンの干渉計とは逆の発想で、可干
渉距離の短い、即ちスペクトル幅のある程度広い光源を
用いて、干渉縞の可視度曲線が参照光学系の光路長の変
化に敏感であるようにしたこと、分割された一方の平行
光束を被検面上に集光し、被検面からの反射光束を再び
平行光束とするピント調整可能な対物レンズを設けて、
被検面の位置のみにより一方の光路の光路長が変わるよ
うにしたこと、分割された他方の平行光束の光路長を変
化させる参照光学系及び参照光学系の光路長の変化量を
測長する測長手段を設けて、参照光学系の光路長を変化
させながら、可視度の特定点、即ちピーク或いは変曲点
における前記光路長の変化量を測長し、その変化量から
被検面の位置を検出するようにしたことを特徴とする。
(発明の実施例)
光源の発光スペクトル線の幅の測定方法として、マイケ
ルソンの干渉計により光路差に対する可視度曲線を得、
それから計算により求める方法は、古くから知られてい
る。本発明はこの原理を位置検出に応用できるように工
夫したものである。
ルソンの干渉計により光路差に対する可視度曲線を得、
それから計算により求める方法は、古くから知られてい
る。本発明はこの原理を位置検出に応用できるように工
夫したものである。
第1図は本発明の一実施例の光学系を示す、偏光方向、
移動方向などの説明上、第1図に示した直交座標系を使
用する。即ち、右を2軸、上をy軸、紙面から下へX軸
とする。8は光源、9は熱線吸収フィルタ、10は集光
レンズ、11はピンホール、12はコリメータ、13は
光源8のスペクトル幅、形状を整えるバンドパスフィル
タである。
移動方向などの説明上、第1図に示した直交座標系を使
用する。即ち、右を2軸、上をy軸、紙面から下へX軸
とする。8は光源、9は熱線吸収フィルタ、10は集光
レンズ、11はピンホール、12はコリメータ、13は
光源8のスペクトル幅、形状を整えるバンドパスフィル
タである。
光源8、熱線吸収フィルタ9及びバンドパスフィルタ1
3は、可干渉距離の短い、即ち光束のスペクトル幅のあ
る程度広い光源を構成する。可干渉距離の短い光源とは
レーザとの対比で表現されたもので、レーザの可干渉距
離が通常100mm以上であるのに対し、本発明に用い
られる光源の可干渉距離は例えば1mm程度以下、波長
との比較でいえば1波長の1000倍程度以下である。
3は、可干渉距離の短い、即ち光束のスペクトル幅のあ
る程度広い光源を構成する。可干渉距離の短い光源とは
レーザとの対比で表現されたもので、レーザの可干渉距
離が通常100mm以上であるのに対し、本発明に用い
られる光源の可干渉距離は例えば1mm程度以下、波長
との比較でいえば1波長の1000倍程度以下である。
スペクトルがガウス型で、その中心波長を550nmと
した時、可視度が1/2となる光路差を5pmとするた
めには、そのスペクトルの半値幅は27nmとなる。即
ち、ハロゲン電球と干渉フィルタを使えば、適した光源
が簡単に得られる。しかし、光源の1点しか使用しない
ため、輝度が高く、発光効率の高い発光ダイオードを使
うのが好ましい。
した時、可視度が1/2となる光路差を5pmとするた
めには、そのスペクトルの半値幅は27nmとなる。即
ち、ハロゲン電球と干渉フィルタを使えば、適した光源
が簡単に得られる。しかし、光源の1点しか使用しない
ため、輝度が高く、発光効率の高い発光ダイオードを使
うのが好ましい。
14は偏光方位がX軸及びy軸に対して45″である偏
光板、15は光源8の光量変動を監視するために若干反
射させるビームスプリッタ、16はレンズ、17は光電
素子、18は、偏光方位がy軸方向の透過光束と、偏光
方位がX軸方向の反射光束の、二つの平行光束に入射光
束を分割する偏光ビームスプリフタ、19は位相の進む
方位をX軸又はZ軸に対して45°とした1/4波長板
、20は、y軸方向に移動可能に配置され、駆動手段及
びその移動量を測長する測長回路を有するコーナキュー
ブ、21は位相の進む方位をX軸又はy軸に対して45
°とした174波長板、22.23はレンズで、レンズ
1の被検面に平行光束をスポット状に集光する対物レン
ズ24を構成する。レンズ23は単独で2軸方向に、レ
ンズ22とレンズ23は一体となってX軸方向に、それ
ぞれ移動可能になっており、被検面上にピントが合うよ
うに調整される。25は、対物レンズ24により被検面
上に平行光束がスポットとなっているかどうかを監視す
るモニタ光学系に若干の光束を導くビームスプリッタ、
26.27.28は前記モニタ光学系を構成するレンズ
、光束折曲げミラー及び接眼レンズ、29は位相の進む
方位をX軸又はz軸に対して45°とした174波長板
、30は集光レンズ、31はビームスプリッタ、32は
偏光ビームスプリフタ、33.34は光電素子、35は
偏光ビームスプリッタ、36.37は光電素子である。
光板、15は光源8の光量変動を監視するために若干反
射させるビームスプリッタ、16はレンズ、17は光電
素子、18は、偏光方位がy軸方向の透過光束と、偏光
方位がX軸方向の反射光束の、二つの平行光束に入射光
束を分割する偏光ビームスプリフタ、19は位相の進む
方位をX軸又はZ軸に対して45°とした1/4波長板
、20は、y軸方向に移動可能に配置され、駆動手段及
びその移動量を測長する測長回路を有するコーナキュー
ブ、21は位相の進む方位をX軸又はy軸に対して45
°とした174波長板、22.23はレンズで、レンズ
1の被検面に平行光束をスポット状に集光する対物レン
ズ24を構成する。レンズ23は単独で2軸方向に、レ
ンズ22とレンズ23は一体となってX軸方向に、それ
ぞれ移動可能になっており、被検面上にピントが合うよ
うに調整される。25は、対物レンズ24により被検面
上に平行光束がスポットとなっているかどうかを監視す
るモニタ光学系に若干の光束を導くビームスプリッタ、
26.27.28は前記モニタ光学系を構成するレンズ
、光束折曲げミラー及び接眼レンズ、29は位相の進む
方位をX軸又はz軸に対して45°とした174波長板
、30は集光レンズ、31はビームスプリッタ、32は
偏光ビームスプリフタ、33.34は光電素子、35は
偏光ビームスプリッタ、36.37は光電素子である。
偏光ビームスプリッタ32及び光電素子33.34は、
一体となってy軸まわりに回転調整可能になっていて、
1/4波長板19及びコーナキューブ20から成る参照
光学系の光路長と、1/4波長板21、対物レンズ24
及びレンズlの被検面から成る物体光学系の光路長とが
等しい時に光電素子33の出力信号がピークとなるよう
な回転角に調整され、その位置で光電素子33は偏光方
位O0の偏光成分を検出し、光電素子34は偏光方位9
0°の偏光成分を検出する。偏光ビームスプリッタ35
及び光電素子36.37は、一体となって2軸まわりに
回転調整可能になっていて、光電素子36が偏光方位4
5°の偏光成分を検出し、光電素子37が偏光方位13
5’の偏光成分を検出するような回転角に調整される。
一体となってy軸まわりに回転調整可能になっていて、
1/4波長板19及びコーナキューブ20から成る参照
光学系の光路長と、1/4波長板21、対物レンズ24
及びレンズlの被検面から成る物体光学系の光路長とが
等しい時に光電素子33の出力信号がピークとなるよう
な回転角に調整され、その位置で光電素子33は偏光方
位O0の偏光成分を検出し、光電素子34は偏光方位9
0°の偏光成分を検出する。偏光ビームスプリッタ35
及び光電素子36.37は、一体となって2軸まわりに
回転調整可能になっていて、光電素子36が偏光方位4
5°の偏光成分を検出し、光電素子37が偏光方位13
5’の偏光成分を検出するような回転角に調整される。
なお、偏光板14の偏光方位について、参照光学系の反
射率と物体光学系の反射率との比が1の場合は、偏光方
位は45°がよいが、1以上又は1以下の場合には、参
照光学系と物体光学系の(入射光量×反射率)が等しく
なるように、偏光方位を回転できることが好ましい。
射率と物体光学系の反射率との比が1の場合は、偏光方
位は45°がよいが、1以上又は1以下の場合には、参
照光学系と物体光学系の(入射光量×反射率)が等しく
なるように、偏光方位を回転できることが好ましい。
光電素子17,33,34,36.37及びコーナキュ
ーブ20の移動量を測長する測長回路38(第2図)か
らそれぞれ出力される信号は、信号処理系により処理さ
れるが、その信号処理系の一例は第2図に示される通り
である。
ーブ20の移動量を測長する測長回路38(第2図)か
らそれぞれ出力される信号は、信号処理系により処理さ
れるが、その信号処理系の一例は第2図に示される通り
である。
測定手順を説明すると、まず、対物レンズ24のピント
がレンズ1の被検面に合うように眼で接眼レンズ28か
ら観測しながら調整する0次にコーナキューブ20を移
動させることにより、参照光学系と物体光学系の光路長
を一致させ、その時のコーナキューブ20の移動量y0
を測長する。
がレンズ1の被検面に合うように眼で接眼レンズ28か
ら観測しながら調整する0次にコーナキューブ20を移
動させることにより、参照光学系と物体光学系の光路長
を一致させ、その時のコーナキューブ20の移動量y0
を測長する。
この移動量yoが被検面の位置を示すものとなる。
次に動作について説明する。
光源8からバンドパスフィルタ13までの構成によって
、可干渉距離の短い平行光束がつくり出される。この平
行光束は偏光板14によりX軸及びy軸に対して45°
の方位をもつ偏光光束となる。偏光ビームスプリッタ1
8で反射された光束はX軸方向に偏光方位をもち、17
4波長板19により円偏光となり、コーナキューブ20
で反射され、再び1/4波長板19を通ることにより再
度直線偏光となるが、その偏光方位はX軸方向となるの
で、偏光ビームスプリッタ18を透過する。他方、偏光
ビームスプリッタ18を透過した光束はy軸方向に偏光
方位をもち、1、/4波長板21により円偏光となり、
対物レンズ24を通り、レンズ1の被検面で反射し、再
びl/4波長板21を通ることにより再度直線偏光とな
るが、その偏光方位はX軸方向となるので、偏光ビーム
スプリッタ18で反射する。
、可干渉距離の短い平行光束がつくり出される。この平
行光束は偏光板14によりX軸及びy軸に対して45°
の方位をもつ偏光光束となる。偏光ビームスプリッタ1
8で反射された光束はX軸方向に偏光方位をもち、17
4波長板19により円偏光となり、コーナキューブ20
で反射され、再び1/4波長板19を通ることにより再
度直線偏光となるが、その偏光方位はX軸方向となるの
で、偏光ビームスプリッタ18を透過する。他方、偏光
ビームスプリッタ18を透過した光束はy軸方向に偏光
方位をもち、1、/4波長板21により円偏光となり、
対物レンズ24を通り、レンズ1の被検面で反射し、再
びl/4波長板21を通ることにより再度直線偏光とな
るが、その偏光方位はX軸方向となるので、偏光ビーム
スプリッタ18で反射する。
偏光ビームスプリッタ18から出射される二つの直交す
る直線偏光の光束は、l/4波長板29に入ると、右回
り及び左回りの二つの円偏光となリ、その合成は単に直
線偏光となり、その方位が参照光学系と物体光学系の光
路差により変化する。そして、全光量に対する直線偏光
の割合(強度)は可視度に比例し、したがって、光路差
により変化する。この直線偏光の強度及び方位は光電素
子33,34,36.37により検出される。
る直線偏光の光束は、l/4波長板29に入ると、右回
り及び左回りの二つの円偏光となリ、その合成は単に直
線偏光となり、その方位が参照光学系と物体光学系の光
路差により変化する。そして、全光量に対する直線偏光
の割合(強度)は可視度に比例し、したがって、光路差
により変化する。この直線偏光の強度及び方位は光電素
子33,34,36.37により検出される。
なお、偏光方位0°と180°とは全く同一方向を示す
ため、光電素子33などの出力信号の位相は偏光方位の
2倍となる0例えば、偏光方位180°が信号位相の3
600に対応する。したがって、光電素子33.34の
出力信号の位相差及び光電素子36.37の出力信号の
位相差は180°、光電素子33.36の出力信号の位
相差及び光電素子34.37の出力信号の位相差は90
°である。
ため、光電素子33などの出力信号の位相は偏光方位の
2倍となる0例えば、偏光方位180°が信号位相の3
600に対応する。したがって、光電素子33.34の
出力信号の位相差及び光電素子36.37の出力信号の
位相差は180°、光電素子33.36の出力信号の位
相差及び光電素子34.37の出力信号の位相差は90
°である。
第2図に示される信号処理系において、光電素子17は
光源8の光量変動モニタ信号C″を、光電素子33は0
°相の偏光強度信号A1を、光電素子34は180°相
の偏光強度信号A2を、光電素子36は90°相の偏光
強度信号B1を、光電素子37は270°相の偏光強度
信号B2を、それぞれ出力し、リニアエンコーダなどの
測長回路38はコーナキューブ20の零点からの移動量
yを測長し、出力する。零点とは、本装置の位置検出基
準面39(第1図)と偏光ビームスプリッタ18との間
の光路長に、コーナキューブ20と偏光ビームスプリッ
タ18との間の光路長が等しくなる位置である。
光源8の光量変動モニタ信号C″を、光電素子33は0
°相の偏光強度信号A1を、光電素子34は180°相
の偏光強度信号A2を、光電素子36は90°相の偏光
強度信号B1を、光電素子37は270°相の偏光強度
信号B2を、それぞれ出力し、リニアエンコーダなどの
測長回路38はコーナキューブ20の零点からの移動量
yを測長し、出力する。零点とは、本装置の位置検出基
準面39(第1図)と偏光ビームスプリッタ18との間
の光路長に、コーナキューブ20と偏光ビームスプリッ
タ18との間の光路長が等しくなる位置である。
各信号は増幅器40〜44によりオフセット及びゲイン
調整をされる。その結果、増幅器41により増幅された
偏光強度信号A1の電圧Vを縦軸にとり、コーナキュー
ブ20の移動量y或いはコーナキューブ20を等速度で
移動させた時は時間tを横軸にとると、第3図のように
なる。振幅の一番大きい移動量yoが光路差刃の時で、
可視度のピークに一致する。一方、オシロスコープで横
軸に正弦波、縦軸に余弦波を入れると、その軌跡が第4
図のように円を描くことはよく知られている。正弦波と
余弦波は90°位相がずれたものであるから、偏光強度
信号A1の振幅を求める方法として、偏光強度信号A、
と90°位相のずれた偏光強度信号B1とを使い、それ
ぞれを2乗して加算すれば、振幅の2乗が得られる。
調整をされる。その結果、増幅器41により増幅された
偏光強度信号A1の電圧Vを縦軸にとり、コーナキュー
ブ20の移動量y或いはコーナキューブ20を等速度で
移動させた時は時間tを横軸にとると、第3図のように
なる。振幅の一番大きい移動量yoが光路差刃の時で、
可視度のピークに一致する。一方、オシロスコープで横
軸に正弦波、縦軸に余弦波を入れると、その軌跡が第4
図のように円を描くことはよく知られている。正弦波と
余弦波は90°位相がずれたものであるから、偏光強度
信号A1の振幅を求める方法として、偏光強度信号A、
と90°位相のずれた偏光強度信号B1とを使い、それ
ぞれを2乗して加算すれば、振幅の2乗が得られる。
しかし、第3図から分かるように、偏光強度信号A、及
びB1は振動の中心がOではなく、■。
びB1は振動の中心がOではなく、■。
になっている。光量は負のエネルギをもたないからであ
る。直流分v0を0にする方法として簡単なのが偏光強
度信号A、、B1から一定電圧v。
る。直流分v0を0にする方法として簡単なのが偏光強
度信号A、、B1から一定電圧v。
を引くことであるが、直流分v0は、光源8の光量変動
だけでなしに、対物レンズ24のピント調整や被検面の
反射率等にも依存するため、この方法は賢明ではない、
そこで、第2図では、偏光強度信号Alから1800位
相のずれた偏光強度信号A2を減算回路45により減算
する。同様に、偏光強度信号B1から1800位相のず
れた偏光強度信号B2を減算回路46により減算する。
だけでなしに、対物レンズ24のピント調整や被検面の
反射率等にも依存するため、この方法は賢明ではない、
そこで、第2図では、偏光強度信号Alから1800位
相のずれた偏光強度信号A2を減算回路45により減算
する。同様に、偏光強度信号B1から1800位相のず
れた偏光強度信号B2を減算回路46により減算する。
次に、割算回路47.48により(A+ −A2 )。
(B1−82 )をそれぞれ光量変動モニタ信号Cで割
算し、光量変動を補正する0割算回路47゜48の出力
信号をA、Bとする。信号A、Bをそれぞれ乗算回路4
9.50により2乗してから加算回路51により加える
と、第5図に示されるように、光路差が零となる移動量
yoのところにピークをもつ山型の曲線が得られる。こ
れが可視度曲線を2乗したものに対応する。
算し、光量変動を補正する0割算回路47゜48の出力
信号をA、Bとする。信号A、Bをそれぞれ乗算回路4
9.50により2乗してから加算回路51により加える
と、第5図に示されるように、光路差が零となる移動量
yoのところにピークをもつ山型の曲線が得られる。こ
れが可視度曲線を2乗したものに対応する。
信号(A 2 +332 )はノイズ除去のためのフィ
ルタ52を通った後、微分回路S3により第6図(A)
のような波形に微分される。toは移動量yoに相当す
る時間であり、ゼロクロス点である。パルス発生回路5
4は時間t0で第6図(B)に示されるパルスPOを発
生する。一方、波形整形回路55は信号(A 2 十B
2 )のレベルがしきい値Lt以上の時にハイレベルの
信号をゲート56に送り、これを開く。これにより、パ
ルスPoはゲート56を通る。
ルタ52を通った後、微分回路S3により第6図(A)
のような波形に微分される。toは移動量yoに相当す
る時間であり、ゼロクロス点である。パルス発生回路5
4は時間t0で第6図(B)に示されるパルスPOを発
生する。一方、波形整形回路55は信号(A 2 十B
2 )のレベルがしきい値Lt以上の時にハイレベルの
信号をゲート56に送り、これを開く。これにより、パ
ルスPoはゲート56を通る。
検出動作中、コーナキューブ20は参照光学系と物体光
学系の光路差を零にする方向に移動され、その移動量y
が測長回路38によって測長されて、出力されているが
1通常はゲート57が閉じているので、メモリ58には
入力されない。参照光学系と物体光学系の光路差が零に
なると、パルスPOが発生し、このパルスPOがゲート
57を開くので、その時の移動量y0がメモリ58に入
力し、被検面の位置として記憶される。
学系の光路差を零にする方向に移動され、その移動量y
が測長回路38によって測長されて、出力されているが
1通常はゲート57が閉じているので、メモリ58には
入力されない。参照光学系と物体光学系の光路差が零に
なると、パルスPOが発生し、このパルスPOがゲート
57を開くので、その時の移動量y0がメモリ58に入
力し、被検面の位置として記憶される。
レンズ1の中心厚を測定する場合には、その次にレンズ
1の後のレンズ面上に対物レンズ24のピントを合わせ
、前述と同様の動作により移動量y1を測定して、メモ
リ58に記憶させる。レンズlの屈折率をnとすれば、
中心厚dは計算回路59により下記の計算式から求めら
れる。
1の後のレンズ面上に対物レンズ24のピントを合わせ
、前述と同様の動作により移動量y1を測定して、メモ
リ58に記憶させる。レンズlの屈折率をnとすれば、
中心厚dは計算回路59により下記の計算式から求めら
れる。
d= (y+ −yo )/n
以上説明したのは、可視度のピークを検出した時の移動
量yoを測定するものであるが、可視度曲線の変曲点を
利用して移動量Voを測定することもできる。第55!
Jに示される可視度の2乗曲線を2回微分すると、第6
図(C)に示される曲線となり、可視度の2乗曲線の二
つの変曲点でゼロクロスする。このゼロクロス点LO1
+t02でパルスP 01 + P 02を発生させ、
それぞれの時点での移動量yor + ’! 02を記
憶し、 yo = (Vot+Yoz)/2を計算す
れば、移動量’loが得られる。
量yoを測定するものであるが、可視度曲線の変曲点を
利用して移動量Voを測定することもできる。第55!
Jに示される可視度の2乗曲線を2回微分すると、第6
図(C)に示される曲線となり、可視度の2乗曲線の二
つの変曲点でゼロクロスする。このゼロクロス点LO1
+t02でパルスP 01 + P 02を発生させ、
それぞれの時点での移動量yor + ’! 02を記
憶し、 yo = (Vot+Yoz)/2を計算す
れば、移動量’loが得られる。
本実施例によれば、被検面にスポット光を当てる非接触
式であるから、被検面にきすをつけたり、弾性変形を生
じさせたりすることを防ぐことができる。また、貼り合
わせレンズの貼り合わせ面の位置や複数レンズの空気間
隔を測定することができる。更に、被検面がレンズの内
面のような場合でも、物体光学系の光路長はレンズ表面
の曲率半径により影響を受けることはないので、測定を
簡単にすることができる。
式であるから、被検面にきすをつけたり、弾性変形を生
じさせたりすることを防ぐことができる。また、貼り合
わせレンズの貼り合わせ面の位置や複数レンズの空気間
隔を測定することができる。更に、被検面がレンズの内
面のような場合でも、物体光学系の光路長はレンズ表面
の曲率半径により影響を受けることはないので、測定を
簡単にすることができる。
(発明と実施例の対応)
光源8、熱線吸収フィルタ9及びバンドパスフィルタ1
3が本発明の可干渉距離の短い光源に相当し、集光レン
ズ10、ピンホール11及びコリメータ13がコリメー
ト光学系に相当し、偏光ビームスプリ゛ツタ18が光束
分割手段及び光束合成手段に相当し、1/4波長板29
からゲート56まで(測長回路38及び位置検出基準面
39を除く)が干渉縞読取り手段に相当する。
3が本発明の可干渉距離の短い光源に相当し、集光レン
ズ10、ピンホール11及びコリメータ13がコリメー
ト光学系に相当し、偏光ビームスプリ゛ツタ18が光束
分割手段及び光束合成手段に相当し、1/4波長板29
からゲート56まで(測長回路38及び位置検出基準面
39を除く)が干渉縞読取り手段に相当する。
(変形例)
干渉縞読取り手段としては1図示実施例のものに限定さ
れるものではなく、公知の種々の手段に代えることがで
きる。勿論、偏光を用いない手段をとってもよい。
れるものではなく、公知の種々の手段に代えることがで
きる。勿論、偏光を用いない手段をとってもよい。
また、可視度のピークを見い出すのは人間の眼で行うよ
うにしてもよい。その場合、光電素子33の代わりに人
間の眼を置き、コーナキューブ20をy方向に移動させ
ながら一番可視度がよくなった時の測長回路38の測長
値を読み取る。精度向上、自動化に対しては得策ではな
いが、簡単で、安価な装置となる利点がある。
うにしてもよい。その場合、光電素子33の代わりに人
間の眼を置き、コーナキューブ20をy方向に移動させ
ながら一番可視度がよくなった時の測長回路38の測長
値を読み取る。精度向上、自動化に対しては得策ではな
いが、簡単で、安価な装置となる利点がある。
図示実施例では、光の波長があるスペクトル幅をもった
一つのみであるホモダイン干渉式となっているが、参照
光学系と物体光学系とで若干波長を変化させるヘテロゲ
イン干渉式にすることができる。
一つのみであるホモダイン干渉式となっているが、参照
光学系と物体光学系とで若干波長を変化させるヘテロゲ
イン干渉式にすることができる。
参照光学系にコーナキューブ20を用いているが、レン
ズと凹面又は凸面から構成されるキャッツアイなどに代
えることができる。
ズと凹面又は凸面から構成されるキャッツアイなどに代
えることができる。
参照光学系の光路長を変化させるために、光路中の媒質
の屈折率を変えるようにしてもよい、特に、ガラス厚を
測定する場合、標準の厚みのガラスをそのまま入れるこ
とにより、光路長を機械的に変化させる量を減らすこと
ができる。
の屈折率を変えるようにしてもよい、特に、ガラス厚を
測定する場合、標準の厚みのガラスをそのまま入れるこ
とにより、光路長を機械的に変化させる量を減らすこと
ができる。
偏光ど−ムスブリッタ18が光束分割手段と光束合成手
段を兼用しているが、別々の手段を用いることがゼきる
。
段を兼用しているが、別々の手段を用いることがゼきる
。
図示実施例では、ピント調整可能な対物レンズ24を光
軸方向にのみ移動させて被検面に集光させることによっ
て、装置側の物体光学系の光路長を変化させないように
しているが、光路長の既知な他の対物レンズに交換し、
それによる光路長の変化を計算により補正するようにし
てもよい、また、対物レンズ24に自動焦点機構を備え
ることが可能である。
軸方向にのみ移動させて被検面に集光させることによっ
て、装置側の物体光学系の光路長を変化させないように
しているが、光路長の既知な他の対物レンズに交換し、
それによる光路長の変化を計算により補正するようにし
てもよい、また、対物レンズ24に自動焦点機構を備え
ることが可能である。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、可干渉距離の短
い、即ちスペクトル幅のある程度広い光源を用いて、干
渉縞の可視度曲線が参照光学系の光路長の変化に敏感で
あるようにしたこと、分割された一方の平行光束を被検
面上に集光し、被検面からの反射光束を再び平行光束と
するピント調整可能な対物レンズを設けて、被検面の位
置のみにより一方の光路の光路長が変わるようにしたこ
と、分割された他方の平行光束の光路長を変化させる参
照光学系及び参照光学系の光路長の変化量を測長する測
長手段を設けて、参照光学系の光路長を変化させながら
、可視度の特定点における前記光路長の変化量を測長し
、その変化量から被検面の位置を検出するようにしたこ
とによって、被検面と接触せずに、且つ被検面の表面の
形状に本質的に依存せずに、被検面の位置を検出するこ
とができる。
い、即ちスペクトル幅のある程度広い光源を用いて、干
渉縞の可視度曲線が参照光学系の光路長の変化に敏感で
あるようにしたこと、分割された一方の平行光束を被検
面上に集光し、被検面からの反射光束を再び平行光束と
するピント調整可能な対物レンズを設けて、被検面の位
置のみにより一方の光路の光路長が変わるようにしたこ
と、分割された他方の平行光束の光路長を変化させる参
照光学系及び参照光学系の光路長の変化量を測長する測
長手段を設けて、参照光学系の光路長を変化させながら
、可視度の特定点における前記光路長の変化量を測長し
、その変化量から被検面の位置を検出するようにしたこ
とによって、被検面と接触せずに、且つ被検面の表面の
形状に本質的に依存せずに、被検面の位置を検出するこ
とができる。
第1図は本発明の一実施例の光学系を示す配置図、第2
図は本発明の一実施例の信号処理系を示すブロック図、
第3図は偏光強度信号の波形を示す図、第4図は偏光強
度信号の振幅を示す図、第5図は可視度の2乗曲線を示
す図、第6図は信号処理中の波形を示す図、第7図は従
来の測長機を示す図である。 1・・・・・・レンズ、8・・・・・・光源、9・・・
・・・熱線吸収フィルタ、10・・・・・・集光レンズ
、11・・・・・・ピンホール、12・・・・・・コリ
メータ、13・・・・・・バンドパスフィルタ、14・
・・・・・偏光板、17,33,34.36.37・・
・・・・光電素子、18,32.35・・・・・・偏光
ビームスプリッタ、19,21.29・・・・・・1/
4波長板、20・・・・・・コーナキューブ、24・・
・・・・対物レンズ、38・・・・・・測長回路。
図は本発明の一実施例の信号処理系を示すブロック図、
第3図は偏光強度信号の波形を示す図、第4図は偏光強
度信号の振幅を示す図、第5図は可視度の2乗曲線を示
す図、第6図は信号処理中の波形を示す図、第7図は従
来の測長機を示す図である。 1・・・・・・レンズ、8・・・・・・光源、9・・・
・・・熱線吸収フィルタ、10・・・・・・集光レンズ
、11・・・・・・ピンホール、12・・・・・・コリ
メータ、13・・・・・・バンドパスフィルタ、14・
・・・・・偏光板、17,33,34.36.37・・
・・・・光電素子、18,32.35・・・・・・偏光
ビームスプリッタ、19,21.29・・・・・・1/
4波長板、20・・・・・・コーナキューブ、24・・
・・・・対物レンズ、38・・・・・・測長回路。
Claims (1)
- 1、可干渉距離の短い光源と、該光源の光束を平行光束
とするコリメート光学系と、該コリメート光学系の平行
光束を二つに分割する光束分割手段と、分割された一方
の平行光束を被検面上に集光し、被検面からの反射光束
を再び平行光束とするピント調整可能な対物レンズと、
分割された他方の平行光束の光路長を変化させる参照光
学系と、該参照光学系の光路長の変化量を測長する測長
手段と、前記対物レンズと前記参照光学系をそれぞれ通
った平行光束を再び重ね合わせる光束合成手段と、重な
り合った平行光束の干渉縞の可視度の特定点を見い出す
ための干渉縞読取り手段とを備えた位置検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206414A JPS6184505A (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | 位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206414A JPS6184505A (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | 位置検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6184505A true JPS6184505A (ja) | 1986-04-30 |
| JPH0453241B2 JPH0453241B2 (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=16522970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59206414A Granted JPS6184505A (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 | 位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6184505A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5183549A (ja) * | 1974-12-04 | 1976-07-22 | Krautkraemer Gmbh | |
| US4336997A (en) * | 1979-03-06 | 1982-06-29 | Erwin Sick Gmbh Optik-Electronik | Change of distance measuring apparatus |
| JPS59114404A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-02 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドの形状および取付姿勢測定方法 |
-
1984
- 1984-10-03 JP JP59206414A patent/JPS6184505A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5183549A (ja) * | 1974-12-04 | 1976-07-22 | Krautkraemer Gmbh | |
| US4336997A (en) * | 1979-03-06 | 1982-06-29 | Erwin Sick Gmbh Optik-Electronik | Change of distance measuring apparatus |
| JPS59114404A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-02 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドの形状および取付姿勢測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0453241B2 (ja) | 1992-08-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |