JPS6188510A - 微小スパイラル状素子製作方法 - Google Patents
微小スパイラル状素子製作方法Info
- Publication number
- JPS6188510A JPS6188510A JP20952084A JP20952084A JPS6188510A JP S6188510 A JPS6188510 A JP S6188510A JP 20952084 A JP20952084 A JP 20952084A JP 20952084 A JP20952084 A JP 20952084A JP S6188510 A JPS6188510 A JP S6188510A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- laser beam
- ultra small
- spiral element
- focusing point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
- H01F41/042—Printed circuit coils by thin film techniques
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Lasers (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、レーザ光を使用した微小スパイラル状素子製
作方法に関する。
作方法に関する。
「従来の技術」
コイルやスプリング等スパイラル状の素子を作る時、巻
ぎ枠〈ボビン）に線を巻く方法が一般的である。そして
、小さいスパイラル系子を作るＨｌｌには、小型の巻き
枠を使用している。
ぎ枠〈ボビン）に線を巻く方法が一般的である。そして
、小さいスパイラル系子を作るＨｌｌには、小型の巻き
枠を使用している。
「発明が解決しようとする問題点」
しかし、極めて微小なインダクタンスを右する、 物体
や、超小型装置等に使用する微小バネ等を想定して数１
００ミクロン以下の径のいわゆる微小スパイラル素子を
作ろうとした時、該微小スパイラル素〒の径に略対応し
た大きさの微小な巻き伜を使用する必要があるが、その
様な微小な巻き枠を製作してスパイラル素子を作る事は
極めて困テ銭である。
や、超小型装置等に使用する微小バネ等を想定して数１
００ミクロン以下の径のいわゆる微小スパイラル素子を
作ろうとした時、該微小スパイラル素〒の径に略対応し
た大きさの微小な巻き伜を使用する必要があるが、その
様な微小な巻き枠を製作してスパイラル素子を作る事は
極めて困テ銭である。
本発明はこの様な問題を解決することを目的としたもの
である。
である。
ｒ問題を解決する為の手段」
本発明の微小スパイラル状素子製作方法は、反応性ガス
雰囲気中で、基板上にレーザ光を集束し、該基板又はシ
ー１Ｆ光の集束点を回転及び直線移動させる様にしたし
のである。
雰囲気中で、基板上にレーザ光を集束し、該基板又はシ
ー１Ｆ光の集束点を回転及び直線移動させる様にしたし
のである。
「実施例」
第１図は本発明を実施する為の微小スパイラル素子製作
装置の一例である。
装置の一例である。
図中１はチトンバーで、排気装置２に繋がった排気１］
３、ガス供給装置４に繋がったガス供給口５、チ１シン
バー外に配置されたレーザ光源６からのレーザ光をチャ
ンバー１内に通過させる為のガラス窓７を有する。該チ
ャンバー内には、回転及び直線移動＠８に接続された基
板９が配置されている。該基板としては石英ガラスか金
属等が適当である。該回転及び直線移動軸８はヂ１！ン
バー外の駆動機構１０により、垂直方向、水平方向、及
び軸Ｏの回りに回転可能に成されている。１１は前記レ
ーザ光源６からのレーザ光を前記基板９上に集束させる
為の光学的レンズである。
３、ガス供給装置４に繋がったガス供給口５、チ１シン
バー外に配置されたレーザ光源６からのレーザ光をチャ
ンバー１内に通過させる為のガラス窓７を有する。該チ
ャンバー内には、回転及び直線移動＠８に接続された基
板９が配置されている。該基板としては石英ガラスか金
属等が適当である。該回転及び直線移動軸８はヂ１！ン
バー外の駆動機構１０により、垂直方向、水平方向、及
び軸Ｏの回りに回転可能に成されている。１１は前記レ
ーザ光源６からのレーザ光を前記基板９上に集束させる
為の光学的レンズである。
先ず、排気装置２によりチャンバー内を高真空状態に排
気する。次に、ガス供給装置４から反応性ガス（例、ト
リメチルアルミの如きアルキル金属）をチャンバー内に
供給し、該チャンバー内をガス雰囲気にする。この状態
において、レーザ光源６を作動させ、該光源からのレー
ザ光を光学的レンズ１１により基板９上に数ミクロンに
集束させる。この時、基板９の位置は、駆動機構１０に
より回転及び直線移動軸８を通じてコントロールされる
。該基板上へのレーザ光の集束により、該集束個所にお
いて、レーザ光と反応性ガスが光化学反応を起こしたり
、該反応性ガスがレーザ光により熱分解することにより
、基板のレーザ集束点から金属の成分が発芽する。この
発芽した金属成分は該１ノーＩＪ’光の照射方向に沿っ
て線状に成長づる。従って、この時、前記基板９を水平
面上で適宜な速度で回転させつつ、下方に直線的に移動
させると、第２図に示す様に、スパイラル状物体が生成
される１、但し、該基板を速く回転させ過ぎたり、速く
移動させ過ぎると、スパイラルの先端からの成長が踏切
れてしまうので、この点を考處して該基板の回転及び直
線移動の速さを駆動偲構１０により制御する必要がある
。この場合、生成されるスパイラル状物体のピッチは前
記基板の直線的移動速度によりコントロール出来、速度
が速い程ピッチは大きくなり、遅い程小さくなる。又、
このスパイラル状物体の径は、レーザ光線の集束点が基
板９上の回転半径の小さい個所へ近付く程小さくなり、
遠のく程大ぎくなる。従って例えば、数１００ミクロン
の直径のスパイラル状物体を作成する場合には、基板上
の回転半径５０ミクロン前後の点がレーザ光の集束点に
位置するように前記基板を移動させる。更に、スパイラ
ル状物体自身の線の太さは、レーザ光の強度、集束点へ
の照射時間及び集束具合による。即ち、反応性ガスから
金属の成分が発芽し、成長するに必要なレーザ光の最低
強度があり、この強度を越すと略強度に比例した成長が
あり、該成長に従った太さのスパイラル状物体が生成さ
れる。又、該レーザ光の集束点への照射時間に略比例し
た太さになる。更に、該レーザ光の集束の径に略比例し
た太さになる。
気する。次に、ガス供給装置４から反応性ガス（例、ト
リメチルアルミの如きアルキル金属）をチャンバー内に
供給し、該チャンバー内をガス雰囲気にする。この状態
において、レーザ光源６を作動させ、該光源からのレー
ザ光を光学的レンズ１１により基板９上に数ミクロンに
集束させる。この時、基板９の位置は、駆動機構１０に
より回転及び直線移動軸８を通じてコントロールされる
。該基板上へのレーザ光の集束により、該集束個所にお
いて、レーザ光と反応性ガスが光化学反応を起こしたり
、該反応性ガスがレーザ光により熱分解することにより
、基板のレーザ集束点から金属の成分が発芽する。この
発芽した金属成分は該１ノーＩＪ’光の照射方向に沿っ
て線状に成長づる。従って、この時、前記基板９を水平
面上で適宜な速度で回転させつつ、下方に直線的に移動
させると、第２図に示す様に、スパイラル状物体が生成
される１、但し、該基板を速く回転させ過ぎたり、速く
移動させ過ぎると、スパイラルの先端からの成長が踏切
れてしまうので、この点を考處して該基板の回転及び直
線移動の速さを駆動偲構１０により制御する必要がある
。この場合、生成されるスパイラル状物体のピッチは前
記基板の直線的移動速度によりコントロール出来、速度
が速い程ピッチは大きくなり、遅い程小さくなる。又、
このスパイラル状物体の径は、レーザ光線の集束点が基
板９上の回転半径の小さい個所へ近付く程小さくなり、
遠のく程大ぎくなる。従って例えば、数１００ミクロン
の直径のスパイラル状物体を作成する場合には、基板上
の回転半径５０ミクロン前後の点がレーザ光の集束点に
位置するように前記基板を移動させる。更に、スパイラ
ル状物体自身の線の太さは、レーザ光の強度、集束点へ
の照射時間及び集束具合による。即ち、反応性ガスから
金属の成分が発芽し、成長するに必要なレーザ光の最低
強度があり、この強度を越すと略強度に比例した成長が
あり、該成長に従った太さのスパイラル状物体が生成さ
れる。又、該レーザ光の集束点への照射時間に略比例し
た太さになる。更に、該レーザ光の集束の径に略比例し
た太さになる。
「発明の効果」
本発明によれば、故１００ミクロン以下の径のいわゆる
微小スパイラル素子を作成することが出来る。又、反応
ガスの種類を変えることにより種々の性質のスパイラル
素子を作成することが出来る。
微小スパイラル素子を作成することが出来る。又、反応
ガスの種類を変えることにより種々の性質のスパイラル
素子を作成することが出来る。
第１図は本発明を実施する為の装置の一例を示したもの
、第２図はその動作の説明を補足りる為のものである。 １：チレンバー ２：排気装置 ３：排気口 ４：ガス供給装置 ５：ガス供給口 ６ニレーザ光源 ７：ガラス窓 ８：回転及び直線移動軸 ９：基板 １０：駆ｌ１機構 １１：光学的レンズ
、第２図はその動作の説明を補足りる為のものである。 １：チレンバー ２：排気装置 ３：排気口 ４：ガス供給装置 ５：ガス供給口 ６ニレーザ光源 ７：ガラス窓 ８：回転及び直線移動軸 ９：基板 １０：駆ｌ１機構 １１：光学的レンズ
Claims (1)
- 反応性ガス雰囲気中で、基板上にレーザ光を集束し、
該基板又はレーザ光の集束点を回転及び直線移動させる
様にした微小スパイラル状素子製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20952084A JPS6188510A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小スパイラル状素子製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20952084A JPS6188510A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小スパイラル状素子製作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188510A true JPS6188510A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16574149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20952084A Pending JPS6188510A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小スパイラル状素子製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188510A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63234510A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | Murata Mfg Co Ltd | インダクタの製造方法 |
| US5084311A (en) * | 1988-12-28 | 1992-01-28 | General Electric Company | Electromagnetic transducers and method of making them |
| US5167983A (en) * | 1988-12-28 | 1992-12-01 | General Electric Company | Method of forming a conductor pattern on the inside of a hollow tube by reacting a gas or fluid therein with actinic radiation |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP20952084A patent/JPS6188510A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63234510A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | Murata Mfg Co Ltd | インダクタの製造方法 |
| US5084311A (en) * | 1988-12-28 | 1992-01-28 | General Electric Company | Electromagnetic transducers and method of making them |
| US5167983A (en) * | 1988-12-28 | 1992-12-01 | General Electric Company | Method of forming a conductor pattern on the inside of a hollow tube by reacting a gas or fluid therein with actinic radiation |
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