JPS6190220A - バツチ式反応槽の温度制御方法 - Google Patents
バツチ式反応槽の温度制御方法Info
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- JPS6190220A JPS6190220A JP59210457A JP21045784A JPS6190220A JP S6190220 A JPS6190220 A JP S6190220A JP 59210457 A JP59210457 A JP 59210457A JP 21045784 A JP21045784 A JP 21045784A JP S6190220 A JPS6190220 A JP S6190220A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/20—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/1919—Control of temperature characterised by the use of electric means characterised by the type of controller
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕゛一
本発明は、バッチ式反応槽の内部温度を目標温度に制御
する温・度制御方法に関するものである。
する温・度制御方法に関するものである。
バッチ式反応槽の内部温度を、熱媒の温度制御によって
目標温度にする場合、生産性向上のためには昇温時間は
できるだけ短い方がよい。
目標温度にする場合、生産性向上のためには昇温時間は
できるだけ短い方がよい。
この昇温時の立ち上がり時間を短縮するため、温度勾配
の設定を急にすると、内部温度が目標温度になったとき
オーバシュートしてしまい、反応物質の品質を悪くして
しまうという問題がある。また、逆に温度勾配が緩やか
であると、立ち上がり時間が長くなり、生産性を低下さ
せてしまう。
の設定を急にすると、内部温度が目標温度になったとき
オーバシュートしてしまい、反応物質の品質を悪くして
しまうという問題がある。また、逆に温度勾配が緩やか
であると、立ち上がり時間が長くなり、生産性を低下さ
せてしまう。
このような問題を解決するため、反応槽の内部温度と熱
媒温度との偏差を比例・積分・微分演算することにより
、昇温初期には熱媒温度を急勾配で昇温するが、上記オ
ーバシュートを緩和するため、内部温度が目標温度にな
る手前で、熱媒温度の設定値を一定時間切り換えるとい
うものが提案されている。しかし、この従来の方法は、
制御のために、温度のみならず、時間或いは品種、生産
量等に対応する多数の他のパラメータを選定する必要が
あり、そのため制御を複雑にし、かつ管理が非常に面倒
であるという難点がある。
媒温度との偏差を比例・積分・微分演算することにより
、昇温初期には熱媒温度を急勾配で昇温するが、上記オ
ーバシュートを緩和するため、内部温度が目標温度にな
る手前で、熱媒温度の設定値を一定時間切り換えるとい
うものが提案されている。しかし、この従来の方法は、
制御のために、温度のみならず、時間或いは品種、生産
量等に対応する多数の他のパラメータを選定する必要が
あり、そのため制御を複雑にし、かつ管理が非常に面倒
であるという難点がある。
また、１バツチ中に何回も昇温と冷却とを繰り返すよう
な反応の場合には、設定値を別々に設ける必要があるた
め、さらに繁雑になるという問題がある。
な反応の場合には、設定値を別々に設ける必要があるた
め、さらに繁雑になるという問題がある。
本発明の目的は、上述のような従来の問題を解消し、パ
ラメータとして温度を設定するだけの簡単な熱媒温度制
御によって、無駄時間の短縮や熱ロスの低減を可能にす
るバ・／チ式反応槽の温度制御方法を提供することにあ
る。
ラメータとして温度を設定するだけの簡単な熱媒温度制
御によって、無駄時間の短縮や熱ロスの低減を可能にす
るバ・／チ式反応槽の温度制御方法を提供することにあ
る。
上記目的を達成するための本発明は、反応槽の加熱ジャ
ケットに熱媒を供給し、その熱媒温度の制御により、前
記反応槽の内部温度を目標温度に制御する方法において
、前記内部温度Ｔｉと熱媒温度Ｔｏ＋との温度差定数と
して、第１の定数ΔＴ１と、この第１の定数へＴ１の５
〜１５倍の第２の定数ΔＴ２とをそれぞれ設定すると共
に、前記目標温度ＴＯに対して、前記ΔＴ１の１／１０
〜１／２倍の温度差ΔＴ３を有する上限温度Ｔｕと下限
温度ＴＳ、並びに前記ΔＴ＋の１〜３倍の温度差ΔＴ４
を有する上上限温度Ｔｕｕと下下限温度Ｔｓｓをそれぞ
れ設定し、前記熱媒温度Ｔｍを、内部温度Ｔｉの変化に
応じて、 上上限温度Ｔｕｕ≦内部温度Ｔｉのとき；熱媒温度Ｔｏ
＋ ＝内部温度Ｔｉ −ΔＴ２上限温度Ｔｕ≦内部温度
Ｔｉ＜上上限温度Ｔｕｕのとき； 熱媒温度Ｔ個＝内部温度Ｔｉ −ΔＴ１下限温度Ｔｓ≦
内部温度Ｔｉ＜上限温度Ｔｕのとき； 熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度Ｔｉ 下下限温度Ｔｓｓ≦内部温度Ｔｉ ＜下限温度Ｔｓのと
き； 熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度Ｔｉ ＋ΔＴｌ内部温度Ｔｉ
＜下下限温度Ｔｓｓのとき；熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度
Ｔｉ ＋ΔＴ２に設定して温度制御することを特徴とす
るものである。
ケットに熱媒を供給し、その熱媒温度の制御により、前
記反応槽の内部温度を目標温度に制御する方法において
、前記内部温度Ｔｉと熱媒温度Ｔｏ＋との温度差定数と
して、第１の定数ΔＴ１と、この第１の定数へＴ１の５
〜１５倍の第２の定数ΔＴ２とをそれぞれ設定すると共
に、前記目標温度ＴＯに対して、前記ΔＴ１の１／１０
〜１／２倍の温度差ΔＴ３を有する上限温度Ｔｕと下限
温度ＴＳ、並びに前記ΔＴ＋の１〜３倍の温度差ΔＴ４
を有する上上限温度Ｔｕｕと下下限温度Ｔｓｓをそれぞ
れ設定し、前記熱媒温度Ｔｍを、内部温度Ｔｉの変化に
応じて、 上上限温度Ｔｕｕ≦内部温度Ｔｉのとき；熱媒温度Ｔｏ
＋ ＝内部温度Ｔｉ −ΔＴ２上限温度Ｔｕ≦内部温度
Ｔｉ＜上上限温度Ｔｕｕのとき； 熱媒温度Ｔ個＝内部温度Ｔｉ −ΔＴ１下限温度Ｔｓ≦
内部温度Ｔｉ＜上限温度Ｔｕのとき； 熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度Ｔｉ 下下限温度Ｔｓｓ≦内部温度Ｔｉ ＜下限温度Ｔｓのと
き； 熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度Ｔｉ ＋ΔＴｌ内部温度Ｔｉ
＜下下限温度Ｔｓｓのとき；熱媒温度Ｔｍ ＝内部温度
Ｔｉ ＋ΔＴ２に設定して温度制御することを特徴とす
るものである。
熱媒温度Ｔｍと内部温度Ｔｉとの温度差として設定する
上記第２の定数ΔＴ２を、第１の定数ΔＴ、の５倍より
小さくすると、昇温又は冷却の速度が遅くなり、生産性
向上のためにはマイナスになる。また、反対に、ΔＴ２
をΔＴ１の１５倍よりも大きくすると、昇温又は冷却時
のオーバシュートを大きくしてしまい、好ましくない。
上記第２の定数ΔＴ２を、第１の定数ΔＴ、の５倍より
小さくすると、昇温又は冷却の速度が遅くなり、生産性
向上のためにはマイナスになる。また、反対に、ΔＴ２
をΔＴ１の１５倍よりも大きくすると、昇温又は冷却時
のオーバシュートを大きくしてしまい、好ましくない。
目標温度Ｔｏに対する上限温度Ｔｕ、下限温度Ｔｓを設
定する上記温度差ΔＴ３を、上記ΔＴ１のｌ／１０倍よ
り小きくすると、制御すべき内部温度Ｔｉが目標温度Ｔ
Ｏ近辺に安定せず、ハンチングしやすくなる。また、Δ
Ｔ３を上記ΔＴ１の１／２倍より大きくすると、内部温
度Ｔｉの目標温度ＴＯからのズレが大きくなってしまっ
て、好ましくない。
定する上記温度差ΔＴ３を、上記ΔＴ１のｌ／１０倍よ
り小きくすると、制御すべき内部温度Ｔｉが目標温度Ｔ
Ｏ近辺に安定せず、ハンチングしやすくなる。また、Δ
Ｔ３を上記ΔＴ１の１／２倍より大きくすると、内部温
度Ｔｉの目標温度ＴＯからのズレが大きくなってしまっ
て、好ましくない。
また、目標温度ＴＯに対する上上限温度Ｔｕｕ＋下下限
温度Ｔｓｓを設定する。温度差ΔＴ４を、上記ΔＴ１の
１倍より小さくすると、昇温又は冷却時のオーバシュー
トを大きくしてしまう。また、上記ΔＴ４をΔＴ、の３
倍より大きくすると、目標温度Ｔｏに近づいてから、そ
の目標温度Ｔｏに到達するまでの時間が長くなり、生産
性向上の上から好ましくない。
温度Ｔｓｓを設定する。温度差ΔＴ４を、上記ΔＴ１の
１倍より小さくすると、昇温又は冷却時のオーバシュー
トを大きくしてしまう。また、上記ΔＴ４をΔＴ、の３
倍より大きくすると、目標温度Ｔｏに近づいてから、そ
の目標温度Ｔｏに到達するまでの時間が長くなり、生産
性向上の上から好ましくない。
以下、図を参照しながら本発明を具体的に説明する。
第１図は、本発明の温度制御方法を実施する装置の説明
図である。■は反応槽であって、外周に加熱ジャケット
２を設けている。内部には攪拌器３が設けられ、モータ
４によって回転駆動されるようになっている。また、温
度計５が設けられ、反応槽重の内部温度Ｔｉ（反応液の
温度）を検出するようになっている。、６は図示しない
ボイラーに接続された熱媒の供給管である。供給管６に
供給された熱媒は、バルブ７を介して、上記加熱ジャケ
ット２に対する熱媒循環系８に供給される。熱媒循環系
８の熱媒は、ポンプ９によって圧送され、分岐管８ａ及
び／又は８ｂを経由して加熱ジャケットた熱媒は、上方
の排出管８ｃから排出され、一部が再びポンプ９へ還流
するが、残りは還流管１０から上記ボイラーへ還流する
。
図である。■は反応槽であって、外周に加熱ジャケット
２を設けている。内部には攪拌器３が設けられ、モータ
４によって回転駆動されるようになっている。また、温
度計５が設けられ、反応槽重の内部温度Ｔｉ（反応液の
温度）を検出するようになっている。、６は図示しない
ボイラーに接続された熱媒の供給管である。供給管６に
供給された熱媒は、バルブ７を介して、上記加熱ジャケ
ット２に対する熱媒循環系８に供給される。熱媒循環系
８の熱媒は、ポンプ９によって圧送され、分岐管８ａ及
び／又は８ｂを経由して加熱ジャケットた熱媒は、上方
の排出管８ｃから排出され、一部が再びポンプ９へ還流
するが、残りは還流管１０から上記ボイラーへ還流する
。
上記分岐管１３ａ、ｇｂのうち、一方の分岐管８ｂには
冷却器１２が設けられ、そこを通過する熱媒を冷却する
ようになっている。また、分岐管８ａ、８ｂの入口には
、それぞれバルブｌｌａ、ｌｌｂが設けられ、これらの
絞り度を調節し、分岐管８ａをそのまま通過する熱媒の
量と、分岐管８ｂを冷却器１２により冷却されながら通
過する熱媒の量とを調節するようになっている。これら
の絞り量の調節と、上記バルブ７による熱媒循環系８に
対する全体流量の調節とにより、合流後に加熱ジャケッ
ト２へ供給される熱媒の温度Ｔｍが調節されるようにな
っている。合流後の熱媒の温度Ｔｌ１１は、温度計１３
によって検出される。
冷却器１２が設けられ、そこを通過する熱媒を冷却する
ようになっている。また、分岐管８ａ、８ｂの入口には
、それぞれバルブｌｌａ、ｌｌｂが設けられ、これらの
絞り度を調節し、分岐管８ａをそのまま通過する熱媒の
量と、分岐管８ｂを冷却器１２により冷却されながら通
過する熱媒の量とを調節するようになっている。これら
の絞り量の調節と、上記バルブ７による熱媒循環系８に
対する全体流量の調節とにより、合流後に加熱ジャケッ
ト２へ供給される熱媒の温度Ｔｍが調節されるようにな
っている。合流後の熱媒の温度Ｔｌ１１は、温度計１３
によって検出される。
上述したバルブ７、ｌｌａ、ｌｌｂの絞り度は、制御装
置３０によって制御される。この制御装置３０は、以下
に説明するような定数発生Ｗ１４ａ、１４ｂ、１４Ｃ，
１４ｄ、１４ｅ、切換スイッチ１５、制御器１６、加算
器１７、調節計１８、変換器１９．２０．２１等から構
成され、第２図に示す制御フローチャートのような制御
を行う。
置３０によって制御される。この制御装置３０は、以下
に説明するような定数発生Ｗ１４ａ、１４ｂ、１４Ｃ，
１４ｄ、１４ｅ、切換スイッチ１５、制御器１６、加算
器１７、調節計１８、変換器１９．２０．２１等から構
成され、第２図に示す制御フローチャートのような制御
を行う。
上記５個の定数発生器は、反応槽１の内部温度（反応液
の温度）Ｔｉと熱媒塩度Ｔｍとの温度差定数として、±
ΔＴｌｌ ±ΔＴｚ、０を、それぞれ発生するようにな
っている。温度差定数ΔＴ２は、温度差定数ΔＴ１の５
〜１５倍の範囲に設定されている。５個の定数発生器の
うち、定数発／４：器１４ａは設定値−ΔＴ２を、１４
ｂは−ΔＴ１を、１４ｃは０を、１４ｃはΔＴ１を、１
４ｅはΔＴ２を、それぞれ発生するものである。これら
の定数値は、制御器１６の信号により、切換スイッチ１
５が切換えられることによって、いずれか一つが選択さ
れるようになっている。
の温度）Ｔｉと熱媒塩度Ｔｍとの温度差定数として、±
ΔＴｌｌ ±ΔＴｚ、０を、それぞれ発生するようにな
っている。温度差定数ΔＴ２は、温度差定数ΔＴ１の５
〜１５倍の範囲に設定されている。５個の定数発生器の
うち、定数発／４：器１４ａは設定値−ΔＴ２を、１４
ｂは−ΔＴ１を、１４ｃは０を、１４ｃはΔＴ１を、１
４ｅはΔＴ２を、それぞれ発生するものである。これら
の定数値は、制御器１６の信号により、切換スイッチ１
５が切換えられることによって、いずれか一つが選択さ
れるようになっている。
制御器１６は、温度計５が検出した反応槽１の内部温度
Ｔｉの信号を久方し、この内部温度Ｔｉを、目的とする
目標温度Ｔｏに対し、上記ΔＴ、の１／１０〜１／２倍
の大きさの温度差ΔＴ３を有する上限温度Ｔｕと下限温
度Ｔｓ、及び前記ΔＴ１の１〜３倍の大きさの温度差Δ
Ｔ４を有する上上限温度Ｔｕｕと下下限温度Ｔｓｓと、
それぞれ比較し、その出力により、上記切換スイッチ１
５を下記するように駆動する。
Ｔｉの信号を久方し、この内部温度Ｔｉを、目的とする
目標温度Ｔｏに対し、上記ΔＴ、の１／１０〜１／２倍
の大きさの温度差ΔＴ３を有する上限温度Ｔｕと下限温
度Ｔｓ、及び前記ΔＴ１の１〜３倍の大きさの温度差Δ
Ｔ４を有する上上限温度Ｔｕｕと下下限温度Ｔｓｓと、
それぞれ比較し、その出力により、上記切換スイッチ１
５を下記するように駆動する。
すなわち、制御器１６は、上上限温度Ｔｕｕ≦内部温度
Ｔｉのとき、切換スイッチ１５を定数発生器１４ａに接
続し、温度差定数−ΔＴ２を加算１１７へ出力するする
ようにする。同様にして、上限温度Ｔｕ≦内部温度Ｔｉ
＜上上限温度Ｔｕｕのとき、切換スイッチ１５を定数発
生器１４ｂに接続して温度差定数−ΔＴ１を加算器１７
へ出力し、下限温度Ｔｓ≦内部温度Ｔｉ＜下限温度Ｔｕ
のとき、定数発生器１４ｃに接続して温度差定数０を加
算器１７へ出力し、下下限温度Ｔｓｓ≦内部温度Ｔｉ
＜下限温度Ｔｓの“とき、定数発生器１４ｄに接続して
温度差定数ΔＴ□を加算器１７へ出力し、また内部温度
Ｔｉく下下限温度Ｔｓｓのとき、定数発生器Ｌ４ｅに接
続して温度差定数ΔＴ２を加算器１７へ出力するように
なっている。
Ｔｉのとき、切換スイッチ１５を定数発生器１４ａに接
続し、温度差定数−ΔＴ２を加算１１７へ出力するする
ようにする。同様にして、上限温度Ｔｕ≦内部温度Ｔｉ
＜上上限温度Ｔｕｕのとき、切換スイッチ１５を定数発
生器１４ｂに接続して温度差定数−ΔＴ１を加算器１７
へ出力し、下限温度Ｔｓ≦内部温度Ｔｉ＜下限温度Ｔｕ
のとき、定数発生器１４ｃに接続して温度差定数０を加
算器１７へ出力し、下下限温度Ｔｓｓ≦内部温度Ｔｉ
＜下限温度Ｔｓの“とき、定数発生器１４ｄに接続して
温度差定数ΔＴ□を加算器１７へ出力し、また内部温度
Ｔｉく下下限温度Ｔｓｓのとき、定数発生器Ｌ４ｅに接
続して温度差定数ΔＴ２を加算器１７へ出力するように
なっている。
加算器１７では、上記定数発生器１４ａ、１４ｂ、１４
ｃ、１４ｄ、１４ｅから選択された信号と、温度計５が
検出した内部温度Ｔｉの信号とを加算して、それを加熱
ジャケット２へ供給すべき熱媒の温度Ｔ１１として設定
する。加算器１７で設定された出力は、調節計１８へ入
力され、調節計１８は、温度計１３が検出した熱媒温度
Ｔｍを参照しながら、加熱ジャケット２へ供給する熱媒
を、上記加算器１７で設定された温度にするようにバル
ブ７、ｌｌａ、ｌｌｂの絞り量を設定する。調節計１８
は、上述のように設定した出力を、変換器１９，２０．
２１に入力し、バルブ７、ｌｌａ、ｌｌｂを駆動する。
ｃ、１４ｄ、１４ｅから選択された信号と、温度計５が
検出した内部温度Ｔｉの信号とを加算して、それを加熱
ジャケット２へ供給すべき熱媒の温度Ｔ１１として設定
する。加算器１７で設定された出力は、調節計１８へ入
力され、調節計１８は、温度計１３が検出した熱媒温度
Ｔｍを参照しながら、加熱ジャケット２へ供給する熱媒
を、上記加算器１７で設定された温度にするようにバル
ブ７、ｌｌａ、ｌｌｂの絞り量を設定する。調節計１８
は、上述のように設定した出力を、変換器１９，２０．
２１に入力し、バルブ７、ｌｌａ、ｌｌｂを駆動する。
この駆動により、バルブ７、ｌｌａ、１１ｂの絞り量が
調整され、加熱ジャケット２に供給される熱媒の温度Ｔ
ｍが、上記設定の通りになる。
調整され、加熱ジャケット２に供給される熱媒の温度Ｔ
ｍが、上記設定の通りになる。
第３図は、上述した本発明による温度制御を、前半に高
い目標温度Ｔｏ（１）に設定し、後半に低い目標温度Ｔ
ｏ（２１に設定するバッチ反応に対して適用した温度チ
中−トの一例を示している。
い目標温度Ｔｏ（１）に設定し、後半に低い目標温度Ｔ
ｏ（２１に設定するバッチ反応に対して適用した温度チ
中−トの一例を示している。
図に示されるように、温度だけをパラメータとして設定
する簡単な制御により、内部温度Ｔｉは短時間に目標温
度に到達し、かつその目標温度到達時に、大幅にオーバ
シュートすることがない。
する簡単な制御により、内部温度Ｔｉは短時間に目標温
度に到達し、かつその目標温度到達時に、大幅にオーバ
シュートすることがない。
本発明は、上述のように温度をパラメータとして設定す
るだけで、バッチ式反応槽の内部温度を調節するもので
あるため、多数のパラメータを必要とする従来の制御方
法に比べて著しく簡単な制御となり、しかも、このよう
に簡単でありながら、目標温度に達するまでの無駄時間
を短縮し、かつ熱ロスの低減を図ることができる。
るだけで、バッチ式反応槽の内部温度を調節するもので
あるため、多数のパラメータを必要とする従来の制御方
法に比べて著しく簡単な制御となり、しかも、このよう
に簡単でありながら、目標温度に達するまでの無駄時間
を短縮し、かつ熱ロスの低減を図ることができる。
また、本発明は、温度だけをパラメータとするため、１
バツチの反応中に何回も昇温と冷却とを繰り返すな反応
の場合であっても、簡単に制御を行うことができ、多数
のパラメータ設定値を種々変える必要のある従来制御法
のような繁雑さはない。
バツチの反応中に何回も昇温と冷却とを繰り返すな反応
の場合であっても、簡単に制御を行うことができ、多数
のパラメータ設定値を種々変える必要のある従来制御法
のような繁雑さはない。
第１図は、本発明の温度制御方法を実施する装置の概略
図、第２図は同温度制御方法のフローチャート図、第３
図は本発明の温度制御方法による温度チャートの一例を
示す図である。 １・・・反応槽、 ２・・・加熱ジャケット、 ５゜１
３・・・温度針、 ８・・・熱媒循環系、 ８ａ、８ｂ
・・・分岐管、 ８Ｃ・・・排出管、 １２・・・冷却
器、？、ｌｌａ、ｌｌｂ・・・バルブ、 １４ａ、１４
ｂ、１４Ｃ１１４ｄｌ １４８・・・定数発生器、１
５・・・切換スイッチ、 １６・・・制御器、 １
７・・・加算器、 １８・・・調節計、 ３０・・・制
御装置。
図、第２図は同温度制御方法のフローチャート図、第３
図は本発明の温度制御方法による温度チャートの一例を
示す図である。 １・・・反応槽、 ２・・・加熱ジャケット、 ５゜１
３・・・温度針、 ８・・・熱媒循環系、 ８ａ、８ｂ
・・・分岐管、 ８Ｃ・・・排出管、 １２・・・冷却
器、？、ｌｌａ、ｌｌｂ・・・バルブ、 １４ａ、１４
ｂ、１４Ｃ１１４ｄｌ １４８・・・定数発生器、１
５・・・切換スイッチ、 １６・・・制御器、 １
７・・・加算器、 １８・・・調節計、 ３０・・・制
御装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 反応槽の加熱ジャケットに熱媒を供給し、その熱媒温度
の制御により、前記反応槽の内部温度を目標温度に制御
する方法において、前記内部温度Ｔｉと熱媒温度Ｔｍと
の温度差定数として、第１の定数ΔＴ＿１と、この第１
の定数ΔＴ＿１の５〜１５倍の第２の定数ΔＴ＿２とを
それぞれ設定すると共に、前記目標温度Ｔ＿０に対して
、前記ΔＴ＿１の１／１０〜１／２倍の温度差ΔＴ＿３
を有する上限温度Ｔｕと下限温度Ｔｓ、並びに前記ΔＴ
＿１の１〜３倍の温度差ΔＴ＿４を有する上上限温度Ｔ
ｕｕと下下限温度Ｔｓｓをそれぞれ設定し、前記熱媒温
度Ｔｍを、内部温度Ｔｉの変化に応じて、 上上限温度Ｔｕｕ≦内部温度Ｔｉのとき； 熱媒温度Ｔｍ＝内部温度Ｔｉ−ΔＴ＿２ 上限温度Ｔｕ≦内部温度Ｔｉ＜上上限温度Ｔｕｕのとき
； 熱媒温度Ｔｍ＝内部温度Ｔｉ−ΔＴ＿１ 下限温度Ｔｓ≦内部温度Ｔｉ＜上限温度Ｔｕのとき； 熱媒温度Ｔｍ＝内部温度Ｔｉ 下下限温度Ｔｓｓ≦内部温度Ｔｉ＜下限温度Ｔｓのとき
； 熱媒温度Ｔｍ＝内部温度Ｔｉ＋ΔＴ＿１ 内部温度Ｔｉ＜下下限温度Ｔｓｓのとき； 熱媒温度Ｔｍ＝内部温度Ｔｉ＋ΔＴ＿２ に設定して温度制御することを特徴とするバッチ式反応
槽の温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210457A JPS6190220A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | バツチ式反応槽の温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210457A JPS6190220A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | バツチ式反応槽の温度制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190220A true JPS6190220A (ja) | 1986-05-08 |
Family
ID=16589649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59210457A Pending JPS6190220A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | バツチ式反応槽の温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6190220A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140210A (ja) * | 1987-11-26 | 1989-06-01 | Tokyo Rika Kikai Kk | 恒温槽及びその試料温度の制御方法 |
| JPH0487737U (ja) * | 1990-12-14 | 1992-07-30 | ||
| JPH0487736U (ja) * | 1990-12-14 | 1992-07-30 | ||
| JP2018080890A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | 株式会社テイエルブイ | 加熱冷却装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56101218A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-13 | Toshiba Electric Appliance Co Ltd | Temperature controller |
| JPS5872218A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Hitachi Ltd | 空気調和機の制御装置 |
| JPS58104465A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-21 | 松下電器産業株式会社 | 冷凍サイクル制御装置 |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP59210457A patent/JPS6190220A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56101218A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-13 | Toshiba Electric Appliance Co Ltd | Temperature controller |
| JPS5872218A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Hitachi Ltd | 空気調和機の制御装置 |
| JPS58104465A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-21 | 松下電器産業株式会社 | 冷凍サイクル制御装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01140210A (ja) * | 1987-11-26 | 1989-06-01 | Tokyo Rika Kikai Kk | 恒温槽及びその試料温度の制御方法 |
| JPH0487737U (ja) * | 1990-12-14 | 1992-07-30 | ||
| JPH0487736U (ja) * | 1990-12-14 | 1992-07-30 | ||
| JP2018080890A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | 株式会社テイエルブイ | 加熱冷却装置 |
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