JPS6190485A - パルスレ−ザ発振器 - Google Patents
パルスレ−ザ発振器Info
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- JPS6190485A JPS6190485A JP21284284A JP21284284A JPS6190485A JP S6190485 A JPS6190485 A JP S6190485A JP 21284284 A JP21284284 A JP 21284284A JP 21284284 A JP21284284 A JP 21284284A JP S6190485 A JPS6190485 A JP S6190485A
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- Japan
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- laser
- electrode
- capacitor
- main
- laser gas
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
この発明は横方向励起型パルスレーザ発振器の改良に関
するものである。
するものである。
[従来の技術]
第6図は従来この種のものとして代表的な横方向励起型
パルスレーザ発振器で、特にエキシマレーザ(例えばA
rk’、 KrE”、 XeF、 Xecl)、窒累レ
ーザ等で良く使われる装置の1例を示す縦断面図、第7
図は第6図1−■よりみた横断面図である。図において
、(1)は第1の主電極すなわちこの例では陰極、(2
)は陰極基板、(3)は第2の主電極すなわちこの例で
は陽極、(4)は陽極基板、(5a)、(5b)はレー
ザ肋起用主放電回路の伝導路を兼ねる紫外光発光用予備
電離電極対、(6)は主放電を起こすためのピ−キング
コンデンサー、(7)は主放電によってレーザが励起さ
れる放電励起部、(8)は放電励起部(7)を主放電に
先立って予備電離する紫外光、(9)はレーザ発振光軸
、(10)は紫外光(8)を発生する予備電離ギャップ
、(11)はレーザガス流を示す矢印、(12)はレー
ザガスを冷却する熱交換器、(13)はレーザガスを循
環するブロワ−,(14)はレーザガスの循環系を構成
するガスタクト、(15)はレーザガスを封入するレー
ザ筐体、(16)はピーキングコンデンサー(6)にパ
ルス充電するメインコンデンサー、(17)はメインコ
ンデンサー(16)を充電する高圧電源、(18) i
メインコンデンサー(17)の充電路を形成する充電用
インダクタンス、(19)はレーザをスイッチングする
スイッチング素子(例えばギャップスイッチ、サイラト
ロン、半導体素子等)、(2L))はスイッチング素子
(19)に流れるピー、り電流を制限し、かつピーキン
グコンデンサー(6〕に対して均等に電荷を充電するイ
ンダクタンス、(21)は全反射鏡、(22)は部分反
射鏡、 (23)はレーザ光である。
パルスレーザ発振器で、特にエキシマレーザ(例えばA
rk’、 KrE”、 XeF、 Xecl)、窒累レ
ーザ等で良く使われる装置の1例を示す縦断面図、第7
図は第6図1−■よりみた横断面図である。図において
、(1)は第1の主電極すなわちこの例では陰極、(2
)は陰極基板、(3)は第2の主電極すなわちこの例で
は陽極、(4)は陽極基板、(5a)、(5b)はレー
ザ肋起用主放電回路の伝導路を兼ねる紫外光発光用予備
電離電極対、(6)は主放電を起こすためのピ−キング
コンデンサー、(7)は主放電によってレーザが励起さ
れる放電励起部、(8)は放電励起部(7)を主放電に
先立って予備電離する紫外光、(9)はレーザ発振光軸
、(10)は紫外光(8)を発生する予備電離ギャップ
、(11)はレーザガス流を示す矢印、(12)はレー
ザガスを冷却する熱交換器、(13)はレーザガスを循
環するブロワ−,(14)はレーザガスの循環系を構成
するガスタクト、(15)はレーザガスを封入するレー
ザ筐体、(16)はピーキングコンデンサー(6)にパ
ルス充電するメインコンデンサー、(17)はメインコ
ンデンサー(16)を充電する高圧電源、(18) i
メインコンデンサー(17)の充電路を形成する充電用
インダクタンス、(19)はレーザをスイッチングする
スイッチング素子(例えばギャップスイッチ、サイラト
ロン、半導体素子等)、(2L))はスイッチング素子
(19)に流れるピー、り電流を制限し、かつピーキン
グコンデンサー(6〕に対して均等に電荷を充電するイ
ンダクタンス、(21)は全反射鏡、(22)は部分反
射鏡、 (23)はレーザ光である。
次に動作について説明する。1例としてKrFし一デの
場合について説明する。レーザ筐体(15)に封入され
、ガスダクト(14)、プロワ−(13)、4%交i器
(12)からなるガス循環系により、冷却された七とF
2とHe(またはセかNe)からなるレーザガスが陰極
(])と陽極(3)の間に矢印の方向から流し込まれる
。高圧電源(17)により、メインコンデンサー(16
)が所定の電圧で充電される。スイッチング素子(19
)がONされると、メインコンデンサー(16)に蓄え
られた電荷が、インダクタンス(20) 、陰極基板(
2)、予備iim電極対(5a) 、 (5b)陽極基
板(4)を通じて、ピーキングコンデンサー(6)をパ
ルス充電する。その際、予備電離ギャップ(10)はア
ーク放電で接続され、紫外光(8)を発生する。これK
より、陰極(1)の近傍、ならびに放電励起部(7)の
全域に亘り、レーザガス(11)が弱電離状態(電子密
度ne=106〜10’個/cd>となる。ピーキング
コンデンサー(6)の充電によシ、陰極(1)と陽極(
3)の間の電圧が放電開始電圧に達すると、ピーキング
コンデンサー(6)に蓄えられた電荷は予備電離′電極
対(5a)、(5b)を通じて一気に陰極(1)、陽極
(3)間に流れ、放電励起部(7)にパルス放電が形成
される。これは、あらかじめ放電励起部(ηが紫外光(
8)によって均一な予備電離状J8にされているため、
均一な放電となるものである。
場合について説明する。レーザ筐体(15)に封入され
、ガスダクト(14)、プロワ−(13)、4%交i器
(12)からなるガス循環系により、冷却された七とF
2とHe(またはセかNe)からなるレーザガスが陰極
(])と陽極(3)の間に矢印の方向から流し込まれる
。高圧電源(17)により、メインコンデンサー(16
)が所定の電圧で充電される。スイッチング素子(19
)がONされると、メインコンデンサー(16)に蓄え
られた電荷が、インダクタンス(20) 、陰極基板(
2)、予備iim電極対(5a) 、 (5b)陽極基
板(4)を通じて、ピーキングコンデンサー(6)をパ
ルス充電する。その際、予備電離ギャップ(10)はア
ーク放電で接続され、紫外光(8)を発生する。これK
より、陰極(1)の近傍、ならびに放電励起部(7)の
全域に亘り、レーザガス(11)が弱電離状態(電子密
度ne=106〜10’個/cd>となる。ピーキング
コンデンサー(6)の充電によシ、陰極(1)と陽極(
3)の間の電圧が放電開始電圧に達すると、ピーキング
コンデンサー(6)に蓄えられた電荷は予備電離′電極
対(5a)、(5b)を通じて一気に陰極(1)、陽極
(3)間に流れ、放電励起部(7)にパルス放電が形成
される。これは、あらかじめ放電励起部(ηが紫外光(
8)によって均一な予備電離状J8にされているため、
均一な放電となるものである。
この放電により形成された放電励起8’lS (7)で
は、功起状悪のKrlが生成され、反転分布が形成され
る。放電励起部(7)を挾み対向配置した全反射鏡(2
1)と部分反射a (22)から成る光共振器により、
レーザ発振が生じ、部分反射鏡(22)からレーザビー
ム(23)が出射する。
は、功起状悪のKrlが生成され、反転分布が形成され
る。放電励起部(7)を挾み対向配置した全反射鏡(2
1)と部分反射a (22)から成る光共振器により、
レーザ発振が生じ、部分反射鏡(22)からレーザビー
ム(23)が出射する。
ところで最近、この種の横方向励起型パルスレーザの中
で、紫外頭′H,(15t)〜350sm)において高
出力、高効率な発振が得られるエキシマレーザ、特に希
ガス−ハロゲン系のエキシマレーザカ、ソの応用分野の
広さから注目を集め、実用的な装置の開発が望まれてい
る。実用的な装置の条件として、その用途によりさまざ
まな項目が挙げられるが、概して共通な条件として、 (イ) 高出力、高効率であること、 (ロ) 高速繰り反し発振(数百ppa〜政千ppEl
)が可能であり、なおかつ平均出力が嶋<、出力が安定
していること、 ビ→ ガスの封じ切り寿命が長いこと、に)装置がコン
パクトで、また保守性が良いこと等が裟げられる。
で、紫外頭′H,(15t)〜350sm)において高
出力、高効率な発振が得られるエキシマレーザ、特に希
ガス−ハロゲン系のエキシマレーザカ、ソの応用分野の
広さから注目を集め、実用的な装置の開発が望まれてい
る。実用的な装置の条件として、その用途によりさまざ
まな項目が挙げられるが、概して共通な条件として、 (イ) 高出力、高効率であること、 (ロ) 高速繰り反し発振(数百ppa〜政千ppEl
)が可能であり、なおかつ平均出力が嶋<、出力が安定
していること、 ビ→ ガスの封じ切り寿命が長いこと、に)装置がコン
パクトで、また保守性が良いこと等が裟げられる。
エキシマレーザにおいては、逆転分布を形成するエキシ
マ分子(例えばKrl 、Xecl”)の寿命が故国〜
改十菌と極めて短かい。そのため、(イ)の高出力化、
高効率化を実現するには、極めて立ち上がりが速く(故
na ) 、ピークパワーの高い(故W/7)!!力投
入が必要である。この条件は多分に玉数・1回路°(第
1図の例では、ピーキングコンデンサー(6)、予備電
離電極(5a) 、(5b) 、陰極(1)、陽極(2
)で決まる回路)に浮遊するインダクタンス、すなわち
主放電回路で決まる折面槓で決定されζこれを小さく保
つことが重要である。また、予備電離用の紫外光(8)
の発光位置すなわち予備電離ギャップ(lO)の位置の
最適化を計り、放電の均質化、安定化を行なうことも重
要である。
マ分子(例えばKrl 、Xecl”)の寿命が故国〜
改十菌と極めて短かい。そのため、(イ)の高出力化、
高効率化を実現するには、極めて立ち上がりが速く(故
na ) 、ピークパワーの高い(故W/7)!!力投
入が必要である。この条件は多分に玉数・1回路°(第
1図の例では、ピーキングコンデンサー(6)、予備電
離電極(5a) 、(5b) 、陰極(1)、陽極(2
)で決まる回路)に浮遊するインダクタンス、すなわち
主放電回路で決まる折面槓で決定されζこれを小さく保
つことが重要である。また、予備電離用の紫外光(8)
の発光位置すなわち予備電離ギャップ(lO)の位置の
最適化を計り、放電の均質化、安定化を行なうことも重
要である。
(ロ)の条件に関し、高速繰返し発振を制限する要素と
して、スイッチング素子(19)の仕様と共に、放電励
起部(7)における、主電極(1)、(3)と平行な方
向に流れるレーザガス中流速が重要な意味t−持つ。
して、スイッチング素子(19)の仕様と共に、放電励
起部(7)における、主電極(1)、(3)と平行な方
向に流れるレーザガス中流速が重要な意味t−持つ。
第8図に1つの実験結果としてレーザの繰返し周波数と
平均出力の関係を、放電!Iih起部(7)におけるガ
ス流速Vgをパラメータとして表わしたものを示す。理
想的にri1パルス当りのレーザ出力が、繰返し周波数
に依存せず、一定に保たれることが望まれる。この1祭
、平均出力Fi繰返し同波故に比例して増加するが、第
8図に示すごとく、ガス流速が十分で々い時には、ある
同波数以上で、平均出力Fi飽和もしくは減少を始める
。すなわち、ガス流速が繰返し周波数に対して十分でな
い時は、前の放電によって発生した電離ガスが放電励起
部(7)に伐り、次の放電が起こつな時、放軍部でのイ
ンピーダンスがすてに極端に下がった状態にあり、電力
投入が効率的に行なわれない。またガス流速が極端に遅
い時には、伐留曙雌ガスの不均一性が放電に反映され、
集中したアーク放電となり、レーザ発振は厚比する。必
要なガス流速は装置の構造によっても異なるが、200
ppsの繰返しに対して10〜20m/a 程度であ
る。
平均出力の関係を、放電!Iih起部(7)におけるガ
ス流速Vgをパラメータとして表わしたものを示す。理
想的にri1パルス当りのレーザ出力が、繰返し周波数
に依存せず、一定に保たれることが望まれる。この1祭
、平均出力Fi繰返し同波故に比例して増加するが、第
8図に示すごとく、ガス流速が十分で々い時には、ある
同波数以上で、平均出力Fi飽和もしくは減少を始める
。すなわち、ガス流速が繰返し周波数に対して十分でな
い時は、前の放電によって発生した電離ガスが放電励起
部(7)に伐り、次の放電が起こつな時、放軍部でのイ
ンピーダンスがすてに極端に下がった状態にあり、電力
投入が効率的に行なわれない。またガス流速が極端に遅
い時には、伐留曙雌ガスの不均一性が放電に反映され、
集中したアーク放電となり、レーザ発振は厚比する。必
要なガス流速は装置の構造によっても異なるが、200
ppsの繰返しに対して10〜20m/a 程度であ
る。
e9の条件に関し、ガスの封じ切シ寿命を左右するもの
は、1つに予備電離の方式であり、いま1つはレーザを
構成する材料である。特に、希ガス−ハロゲン糸のエキ
シマレーザでは、腐食性の高いガス(F2、Hcl他)
が使われるため、誤った材料を用いると、レーザ媒質が
消費される一方、反応生成物によってレーザ光の吸収や
レーザクインドーへの付着等の問題が起こり、レーザ出
力ri経時的に極端に減少することがある。望ましい構
成材料としては、缶部は科としてニッケル、絶縁物とし
てテフロン、セラミック等が挙げられる。
は、1つに予備電離の方式であり、いま1つはレーザを
構成する材料である。特に、希ガス−ハロゲン糸のエキ
シマレーザでは、腐食性の高いガス(F2、Hcl他)
が使われるため、誤った材料を用いると、レーザ媒質が
消費される一方、反応生成物によってレーザ光の吸収や
レーザクインドーへの付着等の問題が起こり、レーザ出
力ri経時的に極端に減少することがある。望ましい構
成材料としては、缶部は科としてニッケル、絶縁物とし
てテフロン、セラミック等が挙げられる。
ここで実用的な装置という観点から従来の装置を見直す
と、 (i) ピーキングコンデンサー(6)の形状、大き
さKよシ予備電離ギャップ(10)の位置が制限され、
紫外光(8)による予備電離の最適化が計れな匹。
と、 (i) ピーキングコンデンサー(6)の形状、大き
さKよシ予備電離ギャップ(10)の位置が制限され、
紫外光(8)による予備電離の最適化が計れな匹。
α1)ピーキングコンデンサー(6)の外面はエポキシ
系のイ封l盾である場合が多く、レーザガス中に設置す
る構成材料として不適当である。また、ピーキングコン
デンサー(6)の表面を、ハロゲンガスに対して強いテ
フロンで被うことも、wa上Jllaである。
系のイ封l盾である場合が多く、レーザガス中に設置す
る構成材料として不適当である。また、ピーキングコン
デンサー(6)の表面を、ハロゲンガスに対して強いテ
フロンで被うことも、wa上Jllaである。
などの問題点があった。第9図は上記(11)の問題点
を克服するため、ピーキングコンデンサー(6)ヲレー
ザガスから遮蔽され次位置に設置した従来装置の他の1
例を示す縦断面図である。図において(1)〜(20)
は第6図、第7図に示した例と同じものを示す。(24
) iピーキングコンデンサー(6)とレーザガス以外
の雰囲気、例えば大気中に設置するために設けられたレ
ーザ直体側蛍でろる。第9図の例では、第6図の−jと
回路的にも若干異なっているので、次に相異点を中心に
動作を説明する。
を克服するため、ピーキングコンデンサー(6)ヲレー
ザガスから遮蔽され次位置に設置した従来装置の他の1
例を示す縦断面図である。図において(1)〜(20)
は第6図、第7図に示した例と同じものを示す。(24
) iピーキングコンデンサー(6)とレーザガス以外
の雰囲気、例えば大気中に設置するために設けられたレ
ーザ直体側蛍でろる。第9図の例では、第6図の−jと
回路的にも若干異なっているので、次に相異点を中心に
動作を説明する。
スイッチング素子(19)がONされると、メインコン
デンサー(16)にJ見られた電荷が、インダクタンス
(20)、予備電離’、4m対(5a) 、(5b)、
陽極基板(2)、陽極基板(4)を通じて、ピーキング
コンデンサー(6)をパルス充電する。この過程におい
て、予備電離ギャップ(10)からの紫外光(8)Kよ
多陰極(υの表面および放電励起部(7〕に亘り予備電
離が行なわれるのは先の例と同様である。さて、ピーキ
ングコンデンサー(6)のパルス充電により、陰極(1
)と陽極(3)の間の電圧が放電開始電圧に達すると、
ピーキングコンデンサー(6)の電荷は一気に陰1(1
)、陽極(3)間に流れ、放電励起部(7)にパルス放
電が形成される。この際、予備電離電極対(5a) 、
(5b)が伝導路となっていない点が、先の例と異なる
点である。
デンサー(16)にJ見られた電荷が、インダクタンス
(20)、予備電離’、4m対(5a) 、(5b)、
陽極基板(2)、陽極基板(4)を通じて、ピーキング
コンデンサー(6)をパルス充電する。この過程におい
て、予備電離ギャップ(10)からの紫外光(8)Kよ
多陰極(υの表面および放電励起部(7〕に亘り予備電
離が行なわれるのは先の例と同様である。さて、ピーキ
ングコンデンサー(6)のパルス充電により、陰極(1
)と陽極(3)の間の電圧が放電開始電圧に達すると、
ピーキングコンデンサー(6)の電荷は一気に陰1(1
)、陽極(3)間に流れ、放電励起部(7)にパルス放
電が形成される。この際、予備電離電極対(5a) 、
(5b)が伝導路となっていない点が、先の例と異なる
点である。
さて、第10図の例では、ピーキングコンデンサー(6
)がし〜ザガス雰囲気外に設置されたため、ピーキング
コンデンサー(6)の構成材料に起因するガス封じ切り
寿命の問題は低減されている。
)がし〜ザガス雰囲気外に設置されたため、ピーキング
コンデンサー(6)の構成材料に起因するガス封じ切り
寿命の問題は低減されている。
しかしながら、このような装置構成では、高出力、高効
率化のために主放電回路の浮遊のインダクタンスを低減
することと、高速繰返しのために、放電励起部(7)に
おいて十分なガス流速を確保することとは、相反する問
題となる。すなわち、ある高速繰返し周波数(例えば2
00pp8)を設定して、それに必要なガス流速(放電
励起部(7)にh・いて例えばlO〜2(1m/s)を
出そうとすると、現実的には放電励起部(7)前後に十
分なガス流路が確保されることが必要である。
率化のために主放電回路の浮遊のインダクタンスを低減
することと、高速繰返しのために、放電励起部(7)に
おいて十分なガス流速を確保することとは、相反する問
題となる。すなわち、ある高速繰返し周波数(例えば2
00pp8)を設定して、それに必要なガス流速(放電
励起部(7)にh・いて例えばlO〜2(1m/s)を
出そうとすると、現実的には放電励起部(7)前後に十
分なガス流路が確保されることが必要である。
ここで、ガス流速Vgを決める要因について説明する。
ガス流速は、ガス循環系におけるガス流量をQ [rr
I/m1nl、ガス流路における流れ方向の断面積をA
[、t ]とすれば、 Vg=Q/(60・A)[m/s] で与えられる。ここで、ガス流ftQはプロワ−(13
)固有の性能曲線(ガス流量Q−静圧H8特性)とガス
循環系の圧力損失特性(ガス流量Q−圧力損失ΔPt特
性)の交点から求まる。系全体の圧力損失Δptは、ガ
ス流路各部での圧力損失の和となり、また各部の圧力損
失は、そこでのガス流速VgV、の2乗に比例する。す
なわち、 Σ αi Δpt=ΣαiVgv2=□・Q” [mmAqli
(60・、^コ、〕2 である。ここでα1はガス流路各部にふ・ける比例定数
、Aiは流れ方向のkfriO積である。
I/m1nl、ガス流路における流れ方向の断面積をA
[、t ]とすれば、 Vg=Q/(60・A)[m/s] で与えられる。ここで、ガス流ftQはプロワ−(13
)固有の性能曲線(ガス流量Q−静圧H8特性)とガス
循環系の圧力損失特性(ガス流量Q−圧力損失ΔPt特
性)の交点から求まる。系全体の圧力損失Δptは、ガ
ス流路各部での圧力損失の和となり、また各部の圧力損
失は、そこでのガス流速VgV、の2乗に比例する。す
なわち、 Σ αi Δpt=ΣαiVgv2=□・Q” [mmAqli
(60・、^コ、〕2 である。ここでα1はガス流路各部にふ・ける比例定数
、Aiは流れ方向のkfriO積である。
市カスーハロゲン系のエキシマレーザでは、ハロゲンガ
スという非常に腐食性の強いガス分使う関係から、その
プロワ−として、一般にライン70−ファンが使われて
いる。このプロワ−は、例、jld’3atmのエキシ
マレーザ媒質中(はとんどの場合Haガスが大部分と占
めている)では、10ゴ/minの流量を得ようとすれ
ば、例えばl OmmAq程度に系全体の圧力損失を押
さえねばならない。すなわち、ライン70−ファンでは
高い静圧を得ることは期待できないわけである。ガス循
環系の中で圧力損失が大きいのは、管路が急故に拡大す
る部分(例えば放電部(7)の出口)、管路が急激に曲
がる部分(例えば小さな半径で90°方回が変わる管路
)、細い流路、熱交換器部(12)である。
スという非常に腐食性の強いガス分使う関係から、その
プロワ−として、一般にライン70−ファンが使われて
いる。このプロワ−は、例、jld’3atmのエキシ
マレーザ媒質中(はとんどの場合Haガスが大部分と占
めている)では、10ゴ/minの流量を得ようとすれ
ば、例えばl OmmAq程度に系全体の圧力損失を押
さえねばならない。すなわち、ライン70−ファンでは
高い静圧を得ることは期待できないわけである。ガス循
環系の中で圧力損失が大きいのは、管路が急故に拡大す
る部分(例えば放電部(7)の出口)、管路が急激に曲
がる部分(例えば小さな半径で90°方回が変わる管路
)、細い流路、熱交換器部(12)である。
ここで、第9図の従来例において、回路系の浮遊のイン
ダクタンスと必要最低限にしつつ、なおかつ10〜20
m/s 程度のガス流速(最大200pps対応)が得
られるガス流路を考える。第9図では、放電励起部(7
)@後において、ガス流路が細い管路でほぼ直角に曲げ
られておシ、これらの個所での圧力損失は非常に大であ
る。そこで、第1θ図に示すように、放電励起部(7)
の前後に、外壁曲率半径R1、内壁曲率半径R2,中心
半径Rの長方形断面090°ベンドを付けることが考え
られる。
ダクタンスと必要最低限にしつつ、なおかつ10〜20
m/s 程度のガス流速(最大200pps対応)が得
られるガス流路を考える。第9図では、放電励起部(7
)@後において、ガス流路が細い管路でほぼ直角に曲げ
られておシ、これらの個所での圧力損失は非常に大であ
る。そこで、第1θ図に示すように、放電励起部(7)
の前後に、外壁曲率半径R1、内壁曲率半径R2,中心
半径Rの長方形断面090°ベンドを付けることが考え
られる。
このようなガス流路は最小の圧力損失を実現するもので
はないが、先の構造に比べればはるかに小さく、また、
光軸(9)とピーキングコンデンサー(6)との距離も
必要最低限とし、回路系の浮遊のインダクタンスを押さ
えようとした構造といえる。
はないが、先の構造に比べればはるかに小さく、また、
光軸(9)とピーキングコンデンサー(6)との距離も
必要最低限とし、回路系の浮遊のインダクタンスを押さ
えようとした構造といえる。
ここで、長方形断面の短辺の長さをb (=R1−R2
)、主電極(1)、(3)部でのギャップ長をa、主電
極(1)、(3)の幅をW、レーザ筺体(24)の厚み
をCとする。
)、主電極(1)、(3)部でのギャップ長をa、主電
極(1)、(3)の幅をW、レーザ筺体(24)の厚み
をCとする。
現実的なレーザ装置を想定して
a=0.02m 、 b==0.06m 、 R/b=
=1 、w:=0.04m%c=0.02mR】=0.
07m 1R2=0.03m光軸(9)方向のダクト長
(長方形断面の長辺)0.6mとする。また、循環され
ているガスはHe 3atm(はぼエキシマレーザガス
3atm相当)とする。
=1 、w:=0.04m%c=0.02mR】=0.
07m 1R2=0.03m光軸(9)方向のダクト長
(長方形断面の長辺)0.6mとする。また、循環され
ているガスはHe 3atm(はぼエキシマレーザガス
3atm相当)とする。
この時、第10図の領域における圧力損失ΔPは、ΔP
〜0.05Q [mmAq ]で与えられる。
〜0.05Q [mmAq ]で与えられる。
一方、熱交換器(12)、その他の領域を含めた系全体
の圧力損失は、設計次第では1.4〜2.0倍に押さえ
られ、 ノPt=0.07〜0.1OQ2 [mmAq]であ
る。
の圧力損失は、設計次第では1.4〜2.0倍に押さえ
られ、 ノPt=0.07〜0.1OQ2 [mmAq]であ
る。
第11図に市販されているライン70−ファンの、He
ガス3atm(エキシマレーザガス3atm相当)にお
けるQ−動特性、および前記のQ−JPt 特性を示す
。第11図における二つの特性曲線の交点から、前記ラ
イン70−ファンを用いた場合、Q= l O〜l l
[mI/min ]のガス流量が得られること
がわかる。ここで、放電励起部(7)における流路の断
面A=0.012[*] より、ガス流速Vgは、 Vg=14〜15 [m/s ]であり、最大2
00ppsの条件が得られる。
ガス3atm(エキシマレーザガス3atm相当)にお
けるQ−動特性、および前記のQ−JPt 特性を示す
。第11図における二つの特性曲線の交点から、前記ラ
イン70−ファンを用いた場合、Q= l O〜l l
[mI/min ]のガス流量が得られること
がわかる。ここで、放電励起部(7)における流路の断
面A=0.012[*] より、ガス流速Vgは、 Vg=14〜15 [m/s ]であり、最大2
00ppsの条件が得られる。
しかしながら、第10図のガス流路系では、ガス流路確
保のために浮遊のインダクタンスと大きくしていること
は事実であり、レーザの高出力化、高効率化の観点から
好ましくない。また、同一ブロワ−(13)でさらに高
いガス流速を得ようとして、理想的なガス流路に近づけ
ようとすると、浮遊のインダクタンスは単調に増化し、
現実的でなくなる。さらに、第10図の構成では、浮遊
のインダクタンスと押える観点から、ピーキングコンデ
ンサー(6)の形状、特に直径に制限を受け、このこと
はピーキングコンデンサー(6)の容量を最適化できな
いという問題点につながる。
保のために浮遊のインダクタンスと大きくしていること
は事実であり、レーザの高出力化、高効率化の観点から
好ましくない。また、同一ブロワ−(13)でさらに高
いガス流速を得ようとして、理想的なガス流路に近づけ
ようとすると、浮遊のインダクタンスは単調に増化し、
現実的でなくなる。さらに、第10図の構成では、浮遊
のインダクタンスと押える観点から、ピーキングコンデ
ンサー(6)の形状、特に直径に制限を受け、このこと
はピーキングコンデンサー(6)の容量を最適化できな
いという問題点につながる。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、高出力、高効率で高速繰返し特性も優れた実
用的なパルスレーザ発振器を得ることを目的としている
。
たもので、高出力、高効率で高速繰返し特性も優れた実
用的なパルスレーザ発振器を得ることを目的としている
。
この発明に係るパルスレーザ発振器は、第1の圧電極の
背面に、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲気外とを分
離する絶縁性電極基板を備え、この絶縁性電極基板を介
して第1の主電極と反対側で第1の主電極の近くにコン
デンサーを配設したものである。
背面に、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲気外とを分
離する絶縁性電極基板を備え、この絶縁性電極基板を介
して第1の主電極と反対側で第1の主電極の近くにコン
デンサーを配設したものである。
この発明におけるコンデンサーは、レーザガス雰囲気外
で第1の主電極の近くに配設されているので、上記レー
ザガスによる上記コンデンサーの劣化が防止できる。ま
た、主放電回路の断面積を小さくできると共に主電極近
傍のレーザガス流路を確保できるので、高出力、高効率
で高速1繰返し特性にも優れた実用的なパルスレーザ発
振器を実現できる。
で第1の主電極の近くに配設されているので、上記レー
ザガスによる上記コンデンサーの劣化が防止できる。ま
た、主放電回路の断面積を小さくできると共に主電極近
傍のレーザガス流路を確保できるので、高出力、高効率
で高速1繰返し特性にも優れた実用的なパルスレーザ発
振器を実現できる。
以下、この発明の一実施例について図をもとに説明する
。第1図において、(25)は第1の圧電極(1)に接
続された導電板、(26)は第1の主電極(1)の背面
に設けられ、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲外とを
分離する絶縁性電極基板である。コンデンサー(6)は
絶縁性電極基板(26) を介して第1の主電極(1)
と反対則すなわちレーザガス雰囲気外で、第1の主電極
(1)の近くに配置されている。コンデンサー(6)の
一端は予備電離電極(5a)に、他端は導電板(25)
を介して第1の圧電極(1)に電気的に接続されている
。
。第1図において、(25)は第1の圧電極(1)に接
続された導電板、(26)は第1の主電極(1)の背面
に設けられ、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲外とを
分離する絶縁性電極基板である。コンデンサー(6)は
絶縁性電極基板(26) を介して第1の主電極(1)
と反対則すなわちレーザガス雰囲気外で、第1の主電極
(1)の近くに配置されている。コンデンサー(6)の
一端は予備電離電極(5a)に、他端は導電板(25)
を介して第1の圧電極(1)に電気的に接続されている
。
上記の実施例において、レーザ発振器としての基本的な
動作は、第6図に示した従来例と同一である。しかしな
がら、ピーキングコンデンサー(6)をレーザガス雰囲
気外に設置することにより、ピーキングコンデンサー(
6)の表面材質による、レーザガスの劣化の間粗は無く
なる。また、同様の理由でレーザ筐体(1へ構造が簡略
化され、保守性の面からも、ピーキングコンデンサー(
6)の交換は容易になる。
動作は、第6図に示した従来例と同一である。しかしな
がら、ピーキングコンデンサー(6)をレーザガス雰囲
気外に設置することにより、ピーキングコンデンサー(
6)の表面材質による、レーザガスの劣化の間粗は無く
なる。また、同様の理由でレーザ筐体(1へ構造が簡略
化され、保守性の面からも、ピーキングコンデンサー(
6)の交換は容易になる。
一方、主放電回路の断面は、ピーキングコンデンサー(
6)を・絶縁性電極基板(26)を介して、第1の主電
極(1)の背後に密着するように配置したため、200
pps以上の高速繰返し動作を必要とする時は、第9図
に示した従来の構造よりも本発明の方が、主放電回路に
浮遊するインダクタンスは小さくすることができる。
6)を・絶縁性電極基板(26)を介して、第1の主電
極(1)の背後に密着するように配置したため、200
pps以上の高速繰返し動作を必要とする時は、第9図
に示した従来の構造よりも本発明の方が、主放電回路に
浮遊するインダクタンスは小さくすることができる。
例えば、第11図に示した特性のライン70−ファンを
、第10図に示すガス流路系に適用して、200pp・
sの高速繰返しが可能な14〜15m/sのガス流速が
得られているとする。
、第10図に示すガス流路系に適用して、200pp・
sの高速繰返しが可能な14〜15m/sのガス流速が
得られているとする。
この際の第9図に示す従来例と第1図に示す本発明の一
実施例との浮遊のインダクタンスの比較と行なう。第2
図は第9図に相当する従来例と、本発明の例を、第10
図に示したガス流路系に適用した例で、A−A側が従来
例を、B−B側が本発明を示す。
実施例との浮遊のインダクタンスの比較と行なう。第2
図は第9図に相当する従来例と、本発明の例を、第10
図に示したガス流路系に適用した例で、A−A側が従来
例を、B−B側が本発明を示す。
従来例では、光軸(9)とピーキングコンデンサー(6
)の距離Uと、陰極基板(2)と陽極基板(4)の距離
yとの積が、主放電回路の断面積Slを表わす。一方、
本発明では、光軸(9)から予備電離電極対(5a)、
(5b)の中心軸までの距離Xと、陽極基板(4)から
導電板(25)までの距離yの積が、主放電回路の#T
面積S2を表わす。先に第10図で仮定した寸法を適用
すると、 である。但し、ピーキングコンデンサー(6)の寸法は
、高さ0.03m、直径0.03 mと仮定する。ここ
でSl、82は浮遊のインダクタンスにほぼ比例する量
であり、すなわち、従来のものと本発明を、ある程度高
速繰返が可能な同一ガス流路系において比較すると、 81/82 =1.4 の逮いがあることがわかる。さらに同一プロツーを用い
てガス流速を上プる必要が生じた時、本発明の構造では
主放電回路の浮遊のインダクタンスを増やすことなくガ
ス流路系の最適設計が可能である。従来例ではガス流路
系と最適化しようとするほど、浮遊のインダクタンスを
増加させることになる。
)の距離Uと、陰極基板(2)と陽極基板(4)の距離
yとの積が、主放電回路の断面積Slを表わす。一方、
本発明では、光軸(9)から予備電離電極対(5a)、
(5b)の中心軸までの距離Xと、陽極基板(4)から
導電板(25)までの距離yの積が、主放電回路の#T
面積S2を表わす。先に第10図で仮定した寸法を適用
すると、 である。但し、ピーキングコンデンサー(6)の寸法は
、高さ0.03m、直径0.03 mと仮定する。ここ
でSl、82は浮遊のインダクタンスにほぼ比例する量
であり、すなわち、従来のものと本発明を、ある程度高
速繰返が可能な同一ガス流路系において比較すると、 81/82 =1.4 の逮いがあることがわかる。さらに同一プロツーを用い
てガス流速を上プる必要が生じた時、本発明の構造では
主放電回路の浮遊のインダクタンスを増やすことなくガ
ス流路系の最適設計が可能である。従来例ではガス流路
系と最適化しようとするほど、浮遊のインダクタンスを
増加させることになる。
第3図はこの発明の他の実施例で、レーザの放電部向辺
のみを縦断面図で示している。この例ではピーキングコ
ンデンサー(6)は、絶縁性電極基板(26)に対して
垂直で、なおかつ第1の主電極(1)に直接設置されて
いるが、ピーキングコンデンサー(6)の形状、大きさ
によっては主放電回路の浮遊のインダクタンスをさらに
小さくすることができる。
のみを縦断面図で示している。この例ではピーキングコ
ンデンサー(6)は、絶縁性電極基板(26)に対して
垂直で、なおかつ第1の主電極(1)に直接設置されて
いるが、ピーキングコンデンサー(6)の形状、大きさ
によっては主放電回路の浮遊のインダクタンスをさらに
小さくすることができる。
第4図は、第9図において示した従来例と同様の回路を
、本発明に適用した場合を示す縦断面図で、予備電離系
の回路構成が異なった場合でも同様の効果を得ることが
できる。
、本発明に適用した場合を示す縦断面図で、予備電離系
の回路構成が異なった場合でも同様の効果を得ることが
できる。
第5図は、更に他の実施例を示した縦断面図であり、図
において、(27)は主電極(1)、(3)の上流部す
なわち放電励起部(7)のガス流入口に設置された漸次
細小路、(28)は主電極(1)、(3)の下流部すな
わち放電励起部(7)のガス流出口に設置された斯次拡
大路である。このように放電!Iih起部(7)の前後
に漸次細小、拡大路(27) 、(28) の両方ま
たは一方を設けることにより、この領域での圧力損失分
さらに低減でき、同一のプロワ−(13)でさらに高い
高速繰返しを実現できる。
において、(27)は主電極(1)、(3)の上流部す
なわち放電励起部(7)のガス流入口に設置された漸次
細小路、(28)は主電極(1)、(3)の下流部すな
わち放電励起部(7)のガス流出口に設置された斯次拡
大路である。このように放電!Iih起部(7)の前後
に漸次細小、拡大路(27) 、(28) の両方ま
たは一方を設けることにより、この領域での圧力損失分
さらに低減でき、同一のプロワ−(13)でさらに高い
高速繰返しを実現できる。
なお、上記各実施例では主にエキシマレーザ媒質を封入
した場合について説明したが、F2レーザ、窒素レーザ
、H1i″レーザ、CO2レーザなど、他のレーザ媒質
に適用しても同様の効果が得られるのはいうまでもない
。
した場合について説明したが、F2レーザ、窒素レーザ
、H1i″レーザ、CO2レーザなど、他のレーザ媒質
に適用しても同様の効果が得られるのはいうまでもない
。
以上のように、この発明によれば、第1の主電極の背面
に、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲気外とを分離す
る絶縁性電極基板を備え、この絶縁性電極基板を介して
第1の主電極と反対側で第1の主電極の近くコンデンサ
ーを配設したので、高出力、高効率で高速繰返し特性も
優れた実用的なパルスレーザ発振器が得られる効果がめ
る。
に、レーザガス雰囲気とレーザガス雰囲気外とを分離す
る絶縁性電極基板を備え、この絶縁性電極基板を介して
第1の主電極と反対側で第1の主電極の近くコンデンサ
ーを配設したので、高出力、高効率で高速繰返し特性も
優れた実用的なパルスレーザ発振器が得られる効果がめ
る。
第1図はこの発明の一実施例によるパルスレーザ発振器
を示す縦断面図、第2図は従来の装置とこの発明の一実
施例による装置の主放電回路における浮遊のインダクタ
ンスを比較して示す説明図、第3図〜第5図はこの発明
の他の実施例によるパルスレーザ発振器の要部を示す縦
断面図、第6図は従来のパルスレーザ発振器の一例を示
す縦断面図、第7図は第6図のVl−■線横断囲図、第
8図は繰返し同波数とレーザ出力の関係を示す特性図、
第9図は従来のパルスレーザ発振器の他の一例を示す縦
断面図、第1θ図は第9図に示す従来例を改良したもの
における主電極近傍を拡大して示す断面図、第11図は
プロワ−の特性および圧力損失の特性を示す特性図であ
る。 図において、(1)は第1の主電極、(3)は第2の主
電極、(5a) 、(5b)は予備電離電極、(6)は
コンデンサー、(7)は放電励起部、(8)は紫外光、
(9)はレーザ発振光軸、(26)は絶縁性電極基板、
(27)は漸次細小路、(28)は両次拡大路である。 なお、各図中四−符号は同一または相当部分を示すもの
とする。
を示す縦断面図、第2図は従来の装置とこの発明の一実
施例による装置の主放電回路における浮遊のインダクタ
ンスを比較して示す説明図、第3図〜第5図はこの発明
の他の実施例によるパルスレーザ発振器の要部を示す縦
断面図、第6図は従来のパルスレーザ発振器の一例を示
す縦断面図、第7図は第6図のVl−■線横断囲図、第
8図は繰返し同波数とレーザ出力の関係を示す特性図、
第9図は従来のパルスレーザ発振器の他の一例を示す縦
断面図、第1θ図は第9図に示す従来例を改良したもの
における主電極近傍を拡大して示す断面図、第11図は
プロワ−の特性および圧力損失の特性を示す特性図であ
る。 図において、(1)は第1の主電極、(3)は第2の主
電極、(5a) 、(5b)は予備電離電極、(6)は
コンデンサー、(7)は放電励起部、(8)は紫外光、
(9)はレーザ発振光軸、(26)は絶縁性電極基板、
(27)は漸次細小路、(28)は両次拡大路である。 なお、各図中四−符号は同一または相当部分を示すもの
とする。
Claims (3)
- (1)レーザガス中に対向して配設された第1および第
2の主電極と、上記主電極に並列に接続されたコンデン
サーと、上記コンデンサーに電圧をパルス的に充電する
回路と、上記主電極の近くに配設された予備電離電極と
を備え、上記コンデンサーに充電された電荷の放出によ
り上記主電極間にパルス状の放電を生成し、光共振器か
らレーザ光を出射させるように構成するパルスレーザ発
振器において、第1の主電極の背面に、上記レーザガス
雰囲気とレーザガス雰囲気外とを分離する絶縁性電極基
板を備え、この絶縁性電極基板を介して第1の主電極と
反対側で第1の主電極の近くに上記コンデンサーを配設
したことを特徴とするパルスレーザ発振器。 - (2)レーザガスが主電極間に流入するように構成され
、上記主電極の上流部に漸次縮小路を備えた特許請求の
範囲第1項記載のパルスレーザ発振器。 - (3)レーザガスが主電極間に流入するように構成され
、上記主電極の下流部に漸次拡大路を備えた特許請求の
範囲第1項または第2項記載のパルスレーザ発振器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21284284A JPS6190485A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | パルスレ−ザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21284284A JPS6190485A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | パルスレ−ザ発振器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190485A true JPS6190485A (ja) | 1986-05-08 |
| JPH0237707B2 JPH0237707B2 (ja) | 1990-08-27 |
Family
ID=16629240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21284284A Granted JPS6190485A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | パルスレ−ザ発振器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6190485A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988000403A1 (fr) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser a gaz |
| JPS6377179A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-07 | Horiba Ltd | N↓2レ−ザ |
| JPS6367275U (ja) * | 1986-10-21 | 1988-05-06 | ||
| JPH0467693A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | 放電励起レーザ装置 |
| JPH04221869A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレーザ装置 |
| KR20210060342A (ko) * | 2019-11-18 | 2021-05-26 | 셈블렉스 코포레이션 | 고강도 스틸용 패스너 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60192467U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-20 | 日本電気株式会社 | パルスガスレ−ザ装置 |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP21284284A patent/JPS6190485A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60192467U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-20 | 日本電気株式会社 | パルスガスレ−ザ装置 |
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|---|---|---|---|---|
| WO1988000403A1 (fr) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser a gaz |
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| JPH04221869A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレーザ装置 |
| KR20210060342A (ko) * | 2019-11-18 | 2021-05-26 | 셈블렉스 코포레이션 | 고강도 스틸용 패스너 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0237707B2 (ja) | 1990-08-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |