JPS6190733A - 流体処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、一般にバブラー（あるいはトラップ装置）と
称され、気体を液体中に送り込むことができる構造を有
する流体処理装置に関するものである。

（従来の技術） 一般にバブラー（あるいはトラップ装置）と称される流
体処理装置は、液体の蒸気圧に相当する飽和気体を得る
場合、あるいは、液体に気体の一部または全部を溶解、
若しくは反応させる場合、さらには、気体中にある固体
等を取り除く場合などに広く使用されている。

上記装置の従来の構造を第５図従来装置の構造断面図に
従って説明すれば、装置外部から気体が流入する上流部
（１）、装置内の液体貯留槽（８）中にあって、前記気
体を液体中に送り込む上流部（１）下側の吹出部（３）
、該液体中を通過した気体を装置外部へ排出する下流部
（２）より成り立っている。

（発明が解決しようとする問題点） 上記装置を用いて外部より気体を液体中へ送り込む場合
には、適当量（装置内に液体を収容できる貯留槽（８）
の全容積の例えば％〜％の量）の液体（４）を装置に入
れ、上流部（１）の気体の圧力を下流部（２）よりも高
くして、気体を液体中に送り込む。そのとき、万一下流
部（２）側の圧力が上流部（１）側より部へ液体が流出
する可能性がある。このため、使用者は逆流時１］二の
ために、装置外部に液体流出防止用バルブなどを設けて
、下流部（２）側の圧力が高くならぬよう上流部（１）
と吹出部（３）との間に、かなりの高低差を設けるなど
、その他特別の処置を講じるか、あるいは、逆流しても
外部装置などへ影響を及ぼさぬよう、装置外部に空の容
器を液体溜めとして設けるなどの対策を講じる。然し、
上記の対策は、作業スペースが大きくなり、操作も繁雑
になって、費用もかかる。装置外部に液体溜めを設ける
方法は、外部装置などへの影響を防ぐことはできても、
逆流して外部の液体溜めに入った液体は、下流側の気圧
を下げないかぎりその壕までは元の装置内に戻ることは
なく、その後、例え上流部側の圧力が高くなっても、液
体中に気体を注入することはできない。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、かかる現状の問題点を解決すべく検討を行な
った結果、下流部の圧力が高くなった場合でも、装置外
部に液体が流出することのないようにしたもので、装置
内の上流部に、液体を収容するに十分な容積を有する液
体留めを有することを主たる特徴とするものであり、図
面により本発明の詳細な説明すれば、第１図、装置外部
から気体が流入する上流部（１）と、装置貯留部（８）
内の液体（４）に前記気体を送り込む上流部（１）下側
の吹出部（３）と、該液体中を通過した気体を装置外部
へ排出する下流部（２）とからなる送流管を備えた流体
処理装置において、装置内に貯留される前記液体（４）
の全体積以上の容積を有する液体留め（５）を上流部（
１）に設けたことを特徴とする流体処理装置である。

本発明装置は、さらに、処理液体留め（５）の底部（１
１）が吹出部側に傾斜していることを特徴とするもので
あり、さらに、本発明装置は、他の実施例として、第３
図、液体が入っている装置内貯留部（８）と、上流部（
Ｉ）とが分離可能であることを特徴とするものであり、
さらに本発明装置は、上流部（１）及び下流部（２）の
流出口継手（９）部分が自在に曲げ伸縮可能なことを特
徴とするものである。

本発明を図面に従って具体的に説明すれば、第２図は、
本発明による流体処理装置の構造を示す断面図であり、
気体は上流部（１）から装置内部に入り、液体留め（５
）を通って吹出部（３）から液体（４）中に注入され、
液体（４）中を通過した後、下流部（２）より装置外部
へ排出される。

第３図は、下流部（２）の圧力が高くなり、液体（４）
が逆流した場合の状態の断面で、液体（４）は、液体留
め（５）に収容され、装置外部へは流出しない。然も、
液体留め（５）に入った液体は、上流部側の圧力が高く
なれば、吹出部（３）より流出して装置の底に自然に戻
り、再び液体中へ気体を送り込むことができる。その場
合、液体留″めの底部０１）が吹出部（３）＝５− 側に所望角度で傾斜していると、液体留め（５）の液体
は装置の底に戻り易い。また、第３図に図示するごとく
、液体（４）が入っている部分と上流部（１）に直結す
る液体留め（５）とが分離可能であれば、液体（４）の
交換や装置の洗浄などが容易となる。

本発明による流体処理装置は、加圧に耐え、液体及び気
体を構成する成分による腐蝕に対し、十分耐えるもので
あれば全ての液体、気体に対して使用できる。特に、空
気に直接触れてはならない液体に対しては、安全性の面
から極めて有効である。

例えば、近年、半導体の分野で盛んに使用されている有
機金属（例えば、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルガリウム、トリエチルガリウム、トリイ
ソブチルアルミニウムなど）は、酸素との反応性が非常
に高く、空気に触れただけで発火することがあり、場合
によっては爆発する危険がある。このため、上記の有機
金属のような反応性の高い液体を用いる場合は、処理装
置自体が安全な液体容器を兼ねており、安全性６一 の面かも、例えばステンレス等で作られており、配管も
ステンレス等で行なう。このため、使用者は外部から液
体の逆流を確認できず、また従来の安全容器を兼ねた装
置では、装置を交換するために取り外す場合など、逆流
によって装置外部に液が流出して、発火、爆発する危険
性が極めて高いため前述したごとく、安全性の面から極
めて有効である。

（効　果） 本発明による装置を使用すれば、装置外部に液体が流出
する可能性がないため、極めて安全に作業することがで
きる。捷だ、万一逆流した場合にも、上流側の圧力が再
び高くなれば、液体が自然に戻るため、逆流のたびに装
置を外ずして、液体を元に戻す必要はない。

以上、本発明による流体処理装置を用いて、各種用途に
使用する気体を処理することにより、使用者が特別の処
置を講じなくとも、安全に、能率よく作業できるように
なった。

（実施例１） 第４図に図示するように、装置本体はステンレス製で、
上流部（］）及び下流部（２）にそれぞれパルプ（６）
　（ＮＵＰＲＯ製　５Ｓ−４８に、−５１）を、継手（
９）　（ＣＡＪＯＮ製　５Ｓ−４ＶＣＲ，−２−ＧＲ，
５Ｓ−４ＶＣＲ−３，５Ｓ−４ＶＣＲ−４）を介して取
付けである。洗浄用口（７）は、装置内部を洗浄する場
合の洗浄液の出入口である。

上流部（１）には、容積約３４Ｊの液体留め（５）を備
え底部（Ｉｆ）は、約１５°の傾斜をつけている。ジエ
チル亜鉛の入っている装置の部分は、直径３４ＵＬ；ｌ
。

高さ１８０１１１７１１パルプ（６）を含めた容器全体
の高さは３４０１ＥＩＲに設定して作成した装置を使用
して、装置貯留部（８）内に、処理液としてジエチル亜
鉛２５９を空気に触れないように上流部（１）側より封
入する。

次に気体供給側と上流部（１）を連結して、上流部（１
）よりヘリウムガスを所定圧力で圧送注入することによ
り、ジエチル亜鉛が砲和したヘリウムガスを得ることが
できた。この場合、ジエチル亜鉛２５ｑ゛の容積は約２
５ｍＡ’で、液体留めの容積の方が大きく、従って装置
外部にジエチル亜鉛が流出することばなかった。

（実施例２） 第３図に図示するように、装置全体はガラス製で、上流
部（１）及び約５０ｍ庫体留め（５）、吹出部（３）と
、液体（４）として硫酸の入る容器としての貯留部（８
）及び下流部（２）とは、摺り合わせになっており、装
置全体の大きさは、高さ約１５ｃｍに設定した装置を使
用した。

装置の一ヒ部開ロ部より貯留部（８）内に濃硫酸約３０
ｍ１！を入れた後、上流部（１）より相対湿度３０％の
空気を導入して、濃硫酸液体中に該空気を送り込むこと
により、下流部（２）より相対湿度０．１％以下の空気
を得た。この場合、下流部（２）の圧力が高くなっても
、濃硫酸は、液体留め（５）に入り、装置外部に流出す
ることはなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の流体処理装置の基本的構造を示す断
面図、第２図は、本発明の流体処理装置において液体が
逆流した場合の様子を説明する断面図、第３図、第４図
は、本発明の流体処理装置の実施例を示す要部断面図、
第５図は、従来の流体処理装置の基本的構造を示す断面
図である。 １・・上流部　　　　　２・・下流部 ３・・・吹出部　　　　　４・・液　体５・・液体留め
　　　　６・・・バルブ７・・・洗浄用口　　　　８・
・・貯留部９・・継　手　　　　　ＪＯ・・摺り合せＩ
ｆ・・・液体留め底部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）装置外部から気体が流入する上流部と、装置内の液
   体に前記の気体を送り込む上流部下側の吹出部と、該液
   体中を通過した気体を装置外部へ排出する下流部とから
   なる送流管を備えた流体処理装置において、装置内に貯
   留される前記液体の全体積以上の容積を有する液体留め
   を上流部に設けたことを特徴とする流体処理装置。 ２）液体留めの底部が吹出部側に傾斜していることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の流体処理装置。 ３）液体が入っている装置内貯留部と、上流部とが分離
   可能である特許請求の範囲第１項及び第２項記載の流体
   処理装置。 ４）上流部及び下流部の継手部分が自在に曲げ伸縮可能
   な特許請求の範囲第１項、第２項及び第３項記載の流体
   処理装置。