JPS6193515A - 碍子の表面処理方法 - Google Patents

碍子の表面処理方法

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Publication number
JPS6193515A
JPS6193515A JP21486884A JP21486884A JPS6193515A JP S6193515 A JPS6193515 A JP S6193515A JP 21486884 A JP21486884 A JP 21486884A JP 21486884 A JP21486884 A JP 21486884A JP S6193515 A JPS6193515 A JP S6193515A
Authority
JP
Japan
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glaze
insulator
fired
laser
glaze layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP21486884A
Other languages
English (en)
Inventor
続 馨
幹雄 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
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Publication of JPS6193515A publication Critical patent/JPS6193515A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 (産業上の利用分野) 本発明は琶1子の表面処理方法に係わり、さらに詳しく
は碍子の表面一部に釉薬を焼付ける方法に関゛するもの
である。
(従来の技術) 磁器製の碍子の表面に釉薬を焼付ける方法としては、焼
成前の碍子本体の表面に釉薬を塗iji したものを炉
の中で焼成して焼付けていた。そして、製品の表面に局
部的に釉薬の施されない部分や若干の異物のために変色
した部分が生ずると、その製品を廃却するか、又は欠陥
部分に釉薬を施して全体に2反目の焼成を行う°必要が
あった。
(発明が解決しようとする問題点) 前述したように製品を2回焼成処理する作業は、非常に
煩わしいばかりでなく、経費も高くなり品のコストダウ
ンを図ることができないという問題がある。本発明は碍
子表面に部分的に釉薬を焼付ける作業を極めて簡単に行
うことを、その解決課題とするものである。
発明の構成 (問題点を解決するための手段) 本発明は前記問題点を解潤するため、碍子表面、焼成釉
薬層の一部を削除して間部を洗浄してから未焼成釉薬を
塗布し、同釉薬にレーザ、高周波等の電磁波を局部的に
照射して前記焼成釉薬層に焼付けるという方法を採って
いる。
(作用) 本発明は上記手段を採用したことにより、局部的に塗布
された未焼成釉薬に電磁波が照射されると、同釉薬は高
温に熱せられて焼成凝固し、焼成釉薬層と未焼成釉薬と
の境界部に電磁波が波及すると、焼成釉薬層も溶解され
、溶融された未焼成釉薬と溶融し合いガラス賀状に凝固
される。本発明は間予表面の一部にレーリ“、高周波等
の電磁波を局部的に照射して釉薬を碍子表面に焼付ける
のて、焼付(プに必要な”Fネルギーが最小限に限定さ
れ、焼例は作業が至極簡単となる。
(実施例) 以下、本発明を具体化した一天施例を図面に従って説明
する。第3図により碍子の表面処理方法に使用されるシ
ー11発生装置について説明すると、密閉容器1内には
前後一対の放電電極2,3が配置され、外部のi流電源
4に接続されている。同密閉容器1の前後両端部には全
反射鏡5及び出力VL6が対向配量され、密閉容器1の
側部にはヒータ7及びガスブロア8が収容され、同容器
1内に封入したC (h、 N2. I」eの混合ガス
を加熱するとともに密閉容器1内で循環させるようにな
っている。このようにして構成されたレーザ発振機の出
力鏡6から出力されたレーザは導波管9内を通って照射
用のノズル10へ導かれ、碍子支持台11上の碍子12
に向かって照射されるようにしている。
次に、前述したレーザ発生装置を使用して、碍子12の
表面に局部的に生じた釉薬欠損部の補修方法を第1図(
a )〜<e >及び第2図に基づいて説明する。
第1図(a )は碍子12の表層部を拡大して示し、磁
器製の碍子本体13の表面には釉薬14が焼成凝固(以
下焼成釉薬層14という)され、両者の間には混合層1
5が形成され、碍子本体13に焼成釉薬層14が強固に
溶融焼成結合されている。16は焼成釉薬層14に局部
的に生じた欠損部を示す。この欠損部16の補修方法に
ついて述べると、グラインダ等により前記欠損部16の
内面を研削して第1図(b ’)に示すように整形し、
該欠損部16をトリクロルエタンあるいはベンジン等の
溶剤により洗浄する。その後第1図(C)に示り−よう
に欠損部16内に未焼成の釉薬17を補1a L、た後
、同図(d )に示すようにノズル10からレーザRを
照射し、溶融状態の釉薬17を焼成釉薬層14に焼付は
凝固させる。この時、焼成釉薬層14と溶融状態の釉薬
17との境界部は高温に熱せられて焼成釉薬層14の表
面すなわち欠損部16の内面も溶融されて未焼成釉薬1
7と一体に焼付凝固され、第1図(e )に示すように
焼成釉薬層14の欠損部16が完全に補修される。
なお、レーザRは未焼成釉薬17を一度に焼成すること
はでさないので、ノズル10又は支持台11を左右に移
動させて表面全体に均一に照射する。
第2図は横軸にレー1fRの出力(ワット/cm”)を
どり、縦軸に照射時間(秒)をとり、碍子の表面処理を
複数同行なった実験結果を示したものである。これによ
れば、○印で示す正常に表面処理のできた場合と、X印
で示Jように亀裂の入った場合との2つの領域に区分さ
れるので、これを区分する境界線りよりも下側の領域内
の条件でレーザRを照射すればよいことになる。
なお、本発明は次のような実施例で具体化することもで
きる。
(1)前記実施例ではCOxレーザを使用したが、これ
以外に次表に示すようにHe−Neレーザ、Arイオン
・レーザあるいは金属蒸気レーザ等を使用したり、固体
レーザあるいは半導体レーザ等表 レーザの種類 (2)レーザ以外に焼成釉薬層14に釉薩17を焼成結
合し得る凸周波等の電磁波を使用すること。
なお、本発明の応用分野として、非常に細かい小さな部
品の場合には、−々炉に入れるまでもな(、レーザで焼
成することも考えられる。この場合、まず素焼品を作り
、その必要な部分に釉薬を塗り、この部分のみにレーザ
を照射して焼成覆る。
こうして得られた磁器製品は、炉内で焼成づる方法と比
較して焼成釉薬層の厚さを位胃に応じて任意に変えるこ
とができる。
発明の効果 以上詳述したように、本発明は碍子に部分的に釉薬を焼
(=lけるので、必要なエネルギーを最小限に限定する
ことができるとともに、焼付作業を簡単かつ迅速に行う
ことができ、製品のコストダウンを図ることができる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a )〜(e)はそれぞれ碍子表面の一部に生
じた欠損部の補修方法を説明するための断面図、第2図
は実験結果を示すグラフ、第3図はレーザ発生装置を示
づ路体正面図である。 10・・・ノズル、11・・・支持台、12・・・碍子
、13・・・碍子器本体、14・・・焼成釉薬層、16
・・・欠損部、17・・・未焼成釉薬、R・・・レーザ
。 特 許 出 願 人  日本碍子株式会社代 理 人 
   弁理士  恩1)博宣第1図 と ぐ (e)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、碍子表面の焼成釉薬層の一部を削除して同部を洗浄
    してから未焼成釉薬を塗布し、同釉薬にレーザ、高周波
    等の電磁波を局部的に照射して前記焼成釉薬層に焼付け
    ることを特徴とする碍子の表面処理方法。 2、碍子又は電磁波の照射用ノズルを移動することによ
    り、釉薬全体に電磁波を均等に照射する特許請求の範囲
    第1項記載の碍子の表面処理方法。
JP21486884A 1984-10-13 1984-10-13 碍子の表面処理方法 Pending JPS6193515A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0610556A1 (en) * 1993-02-09 1994-08-17 Rutgers, The State University Localized surface glazing of ceramic articles

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4943252A (ja) * 1972-09-01 1974-04-23

Patent Citations (1)

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