JPS6197014A - ガスを冷却しまたはガスからダストを除去する方法および装置 - Google Patents
ガスを冷却しまたはガスからダストを除去する方法および装置Info
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- JPS6197014A JPS6197014A JP60072858A JP7285885A JPS6197014A JP S6197014 A JPS6197014 A JP S6197014A JP 60072858 A JP60072858 A JP 60072858A JP 7285885 A JP7285885 A JP 7285885A JP S6197014 A JPS6197014 A JP S6197014A
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- B01D47/02—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath
- B01D47/024—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath by impinging the gas to be cleaned essentially in a perpendicular direction onto the liquid surface
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガスを冷却しかつガスからダストを除去する
方法および装置に関するものである。本発明の有利な使
用分野は、再循環により金属酸化物還元などの冶金工業
において使用されているガスおよび／または、かかるプ
ロセスから排出され、多量のダストを含み、かつ水蒸気
もひんばんに含むガスを冷却しかつ浄化する分野である
。通常かかるガスは熱せられて％ｌＡる。
方法および装置に関するものである。本発明の有利な使
用分野は、再循環により金属酸化物還元などの冶金工業
において使用されているガスおよび／または、かかるプ
ロセスから排出され、多量のダストを含み、かつ水蒸気
もひんばんに含むガスを冷却しかつ浄化する分野である
。通常かかるガスは熱せられて％ｌＡる。
ダスト含有ガスが管、ファンおよびその他の装置の詰ま
らせまた摩耗させる問題およびρ）かるガスが浄化裂＠
＋：＞いて凝ｌ／ａすることによっても起こる同様の間
＠を避けるためミニ、η）かるプロセスにおける冷却装
置および冷却手段への要求は高く、公知のようくニプロ
セス工業ρ）ら力）かるガスを大気に放出すること一大
巾の制限を加丁近年の環境規制によりて前記要求も益々
厳しくなっている。
らせまた摩耗させる問題およびρ）かるガスが浄化裂＠
＋：＞いて凝ｌ／ａすることによっても起こる同様の間
＠を避けるためミニ、η）かるプロセスにおける冷却装
置および冷却手段への要求は高く、公知のようくニプロ
セス工業ρ）ら力）かるガスを大気に放出すること一大
巾の制限を加丁近年の環境規制によりて前記要求も益々
厳しくなっている。
従来使用されている浄化方法では、ガス中のダスト含分
と、ガスからダストを除去するために加えられる過剰水
である水と、を混合するように設計されたノズル、その
他の装置ζ：高速がしばしば要求されるのであるが、ダ
ストは通常極めて摩耗性であるために、公知の浄化装置
の部品は甚しくなりまたエネルギ消費も多くなる。さら
に１従来使用されていた方法はガスη）らサブミクロン
（１／ｉｏ００ｍ未満）の粒子ｅ除くの堪−有効でない
０力１力）る微粒子がか力）るガスに存在していること
も公知である。
と、ガスからダストを除去するために加えられる過剰水
である水と、を混合するように設計されたノズル、その
他の装置ζ：高速がしばしば要求されるのであるが、ダ
ストは通常極めて摩耗性であるために、公知の浄化装置
の部品は甚しくなりまたエネルギ消費も多くなる。さら
に１従来使用されていた方法はガスη）らサブミクロン
（１／ｉｏ００ｍ未満）の粒子ｅ除くの堪−有効でない
０力１力）る微粒子がか力）るガスに存在していること
も公知である。
さらに、ガスの浄化と冷却は別段階で行なわれるのが一
般的であり、ガス中のダストとの接触によって汚染され
た多量の水の使用が派生する。このような多量の水によ
って排水の温度も下がるために、熱の回収が一層難しく
なり、またガススクラバ内の水中に集められたダストを
除去する複雑な装置を後工程で使用Ｔる必要も生じる。
般的であり、ガス中のダストとの接触によって汚染され
た多量の水の使用が派生する。このような多量の水によ
って排水の温度も下がるために、熱の回収が一層難しく
なり、またガススクラバ内の水中に集められたダストを
除去する複雑な装置を後工程で使用Ｔる必要も生じる。
本発明の目的は、できるだけ少ない量の水を使用しかつ
上記の摩耗およびエネルギ消費、を少なくするために低
速ガスおよび水を利用しつつ複合装置内にて上記のガス
を浄化し且つ冷却をする（とにある。水の消費を少なく
することによって排水中で温度が高まるので、熱の回収
が可能もしくは容易になり、ざらに後工程で水からダス
ト微粒子、Ｔる際に使用する装置が小型化され、したが
って低価格となる。
上記の摩耗およびエネルギ消費、を少なくするために低
速ガスおよび水を利用しつつ複合装置内にて上記のガス
を浄化し且つ冷却をする（とにある。水の消費を少なく
することによって排水中で温度が高まるので、熱の回収
が可能もしくは容易になり、ざらに後工程で水からダス
ト微粒子、Ｔる際に使用する装置が小型化され、したが
って低価格となる。
本発明によると上記目的は、冒頭部で述べた方法におい
て、第１段階では水蒸気で飽和後ガスを加速し、同時（
ニガス中のダスト微粒子じ附加水を加えることく二よっ
て、ダスト微粒子と水滴の間の高い相対速度を達成し力
）つガスの１友よりも水の温度を低下させ、以って水滴
上に凝結せしめられる水蒸気ζ−よってサブミクロン微
粒子の所望の分離を行ない、力）＜シて負荷されたガス
流をしかる後記１の沈降容器内の水の表面上を通過させ
、以って大部分のダスト含分を沈降容器内の溜りに放出
し、し力）る後８ｇ２段階において水との直接接触Ｃ；
よる最終浄化および冷却をガス流に施こし、しかる−力
）クシて利用された水を、場合により第２の沈降室を経
さしめる等によって、全体としてまたは部分的罵二第１
段階に戻すことにより、実質的に達成される。
て、第１段階では水蒸気で飽和後ガスを加速し、同時（
ニガス中のダスト微粒子じ附加水を加えることく二よっ
て、ダスト微粒子と水滴の間の高い相対速度を達成し力
）つガスの１友よりも水の温度を低下させ、以って水滴
上に凝結せしめられる水蒸気ζ−よってサブミクロン微
粒子の所望の分離を行ない、力）＜シて負荷されたガス
流をしかる後記１の沈降容器内の水の表面上を通過させ
、以って大部分のダスト含分を沈降容器内の溜りに放出
し、し力）る後８ｇ２段階において水との直接接触Ｃ；
よる最終浄化および冷却をガス流に施こし、しかる−力
）クシて利用された水を、場合により第２の沈降室を経
さしめる等によって、全体としてまたは部分的罵二第１
段階に戻すことにより、実質的に達成される。
（二達成される。
したがって、本発明の方法では、第１段階（千て水の添
加による熱ガスのｐｌ整が行なわれると、ガスは一般的
喀二約り００℃喀：冷却されまたかくして発生した水蒸
気で飽和している。力）＜シて調整されたガスは好適（
＝はベンチュリ領域で次に加速され、加速中に同時Ｃニ
ガスより低温の水の添加によってガスのダスト含分に関
する負荷が起こる。かかる負荷は、ガス内を軸方向に流
れるダスト微粒子と径方向に噴射される水滴との間の相
対速度が高いためにダスト微粒子と水滴との間での衝突
が起こることによるものと、冷却水滴上でガス内の水蒸
気が凝結し、し力）る後にサブミクロン微粒子が水滴に
引込まれ力）つ吸収されることτ二よるものとがおる。
加による熱ガスのｐｌ整が行なわれると、ガスは一般的
喀二約り００℃喀：冷却されまたかくして発生した水蒸
気で飽和している。力）＜シて調整されたガスは好適（
＝はベンチュリ領域で次に加速され、加速中に同時Ｃニ
ガスより低温の水の添加によってガスのダスト含分に関
する負荷が起こる。かかる負荷は、ガス内を軸方向に流
れるダスト微粒子と径方向に噴射される水滴との間の相
対速度が高いためにダスト微粒子と水滴との間での衝突
が起こることによるものと、冷却水滴上でガス内の水蒸
気が凝結し、し力）る後にサブミクロン微粒子が水滴に
引込まれ力）つ吸収されることτ二よるものとがおる。
したがって、本発明によると、浄化およひ冷却のために
必要な水の量が実質的に減少Ｔるとともに１これまでの
浄化プロセスの場合よりも高い１匿で排水が第１の沈降
容器η）ら取り出される。したがって、熱の回収が可能
になるかあるいは著しく簡単になる。
必要な水の量が実質的に減少Ｔるとともに１これまでの
浄化プロセスの場合よりも高い１匿で排水が第１の沈降
容器η）ら取り出される。したがって、熱の回収が可能
になるかあるいは著しく簡単になる。
η）かる作用は本発明により提案される第２の沈降室か
ら水を再循環するとさら６；高められる。
ら水を再循環するとさら６；高められる。
さら６；高められる。
不発明の好ましい実施Ｍ様じよると、水が径方向に＠射
されるベンチュリスロート（ｔｈｒｏａｔ ） ｆ有す
るベンチュリ領域にて第１の浄化段階でのガス加速を達
成する。
されるベンチュリスロート（ｔｈｒｏａｔ ） ｆ有す
るベンチュリ領域にて第１の浄化段階でのガス加速を達
成する。
第１の沈降容器の表面出口を経て取出された水の温度を
第１の沈降容器の水溜を月；配設された温−匿調節器を
介して制御し、前記調整器を第２の沈降按器にて再循環
される水流および第２の沈降容器に外部η）ら供給され
る水流を制御する如く配設することが適切である。
第１の沈降容器の水溜を月；配設された温−匿調節器を
介して制御し、前記調整器を第２の沈降按器にて再循環
される水流および第２の沈降容器に外部η）ら供給され
る水流を制御する如く配設することが適切である。
不発明の他の実施態様く；よると、第１の沈降容器内の
ボのレベル上方に第２の沈降容器の水のレベルを位置さ
せることによって、纂１の沈降容器の溜り内のダスト含
有水を第２の沈降容器の溜り内の清浄水部より分離させ
る。
ボのレベル上方に第２の沈降容器の水のレベルを位置さ
せることによって、纂１の沈降容器の溜り内のダスト含
有水を第２の沈降容器の溜り内の清浄水部より分離させ
る。
本発明によると、第２の沈降室が過充満になることを第
２の沈降容器から第１の沈降容器への流れにより生じる
表面水の部分流により適切Ｃ；防止し、シフ３）る抜水
の表面に浮いている何らかの物質も流出路を介して第１
の沈降容器に移丁こともできる。
２の沈降容器から第１の沈降容器への流れにより生じる
表面水の部分流により適切Ｃ；防止し、シフ３）る抜水
の表面に浮いている何らかの物質も流出路を介して第１
の沈降容器に移丁こともできる。
きる。
好適な実施態様によると、冷却され乃）つ浄化されたガ
スを１！２の沈降容器内（＝配設されたサイクロンを通
丁ことによりて、脱湿し、分離された水を第２の沈降室
の底部のたま１ｎ：直接供給する。
スを１！２の沈降容器内（＝配設されたサイクロンを通
丁ことによりて、脱湿し、分離された水を第２の沈降室
の底部のたま１ｎ：直接供給する。
本発明は、ガスを冷却しまたガスからダストを除去して
本発明方法を実施する装置（＝関するものであり、力）
力）る装置は、ガス入口と、ガス出口と、これらの間の
ガス流空間と、ガス入口の下方（＝配設され、水で部分
的（＝充満された第１の沈降容器と、この第１の沈降容
器力）ら−ガスの流れの方向で見て一距１ｌｌＩを置い
て配設され、水で部分的ζ；充満された第２の沈降容器
と、から構成される実質的ζ：閉じられた、処理ユニッ
トを含むものである。
本発明方法を実施する装置（＝関するものであり、力）
力）る装置は、ガス入口と、ガス出口と、これらの間の
ガス流空間と、ガス入口の下方（＝配設され、水で部分
的（＝充満された第１の沈降容器と、この第１の沈降容
器力）ら−ガスの流れの方向で見て一距１ｌｌＩを置い
て配設され、水で部分的ζ；充満された第２の沈降容器
と、から構成される実質的ζ：閉じられた、処理ユニッ
トを含むものである。
本発明によると、ガス入口は、ガス流を加速するベンチ
ュリ領域と、ベンチエリ領域の断面を横切ってガス流の
中ミニ水滴を径方向に噴射するためにガス入口内に配設
されたオリフィスを有する水供給手段とを備えている。
ュリ領域と、ベンチエリ領域の断面を横切ってガス流の
中ミニ水滴を径方向に噴射するためにガス入口内に配設
されたオリフィスを有する水供給手段とを備えている。
さらに、ベンチュリ領域が詰まることを防止するために
、不発８Ａによれば、実質的に接線的に水を供給する１
個以上の水供給ノズルをペンテ為す入口の内壁に沿って
向けて配設してもよい。
、不発８Ａによれば、実質的に接線的に水を供給する１
個以上の水供給ノズルをペンテ為す入口の内壁に沿って
向けて配設してもよい。
本発明の好ましい実施態様によると、第１および第２の
沈降容器は底部出ロ喀二向７１）って円錐形）；細くな
っている。
沈降容器は底部出ロ喀二向７１）って円錐形）；細くな
っている。
本発明の好適な実施態様電二よると、第２の沈降容器内
の水のレベルは第１の沈降容器内の水のレベルより高い
位置（＝あり、また流出路が第１と第２の沈降容器の間
に位置しているｏ＠、出路は隔壁によってガス流の窒関
内にてガス流７１１）ら隔てられていることが好ましｖ
ｈＯ 本発明によると、第２の浄化段階と関連して、ガス出口
Ｃ；スクラバが配設される。このために使用可能なスＩ
Ｖイ塔は、例えば、ガス流に水を供給する多数のノズル
をＭする乃）、めるいは冷却床を有しており、この冷却
床を第２の沈降容器の爽質的上方堪；配設し、固体の充
填体を冷却床内に倉ましめるとと％Ｃ冷却床上方の水供
給ノズルと冷却床が協働Ｔるように冷却床を配置するこ
とができる。
の水のレベルは第１の沈降容器内の水のレベルより高い
位置（＝あり、また流出路が第１と第２の沈降容器の間
に位置しているｏ＠、出路は隔壁によってガス流の窒関
内にてガス流７１１）ら隔てられていることが好ましｖ
ｈＯ 本発明によると、第２の浄化段階と関連して、ガス出口
Ｃ；スクラバが配設される。このために使用可能なスＩ
Ｖイ塔は、例えば、ガス流に水を供給する多数のノズル
をＭする乃）、めるいは冷却床を有しており、この冷却
床を第２の沈降容器の爽質的上方堪；配設し、固体の充
填体を冷却床内に倉ましめるとと％Ｃ冷却床上方の水供
給ノズルと冷却床が協働Ｔるように冷却床を配置するこ
とができる。
本発明によると、ガス流方向で冷却床の後（＝乱流領Ｆ
ｉＡＴｅ配設することができる。
ｉＡＴｅ配設することができる。
第２の沈降容器内の水のレベルの下方にオリフィスを有
する、円錐形に細くなつている延長部≦二ガス出口の下
部を連続させ、冷却水を第２の沈降容器嘔：輸送するこ
とが適切である。この延長部は水門（ｌｏｃｋ）として
も作用しかつ好ましくは円錐形挿入体を備えている。
する、円錐形に細くなつている延長部≦二ガス出口の下
部を連続させ、冷却水を第２の沈降容器嘔：輸送するこ
とが適切である。この延長部は水門（ｌｏｃｋ）として
も作用しかつ好ましくは円錐形挿入体を備えている。
他の特徴は特許請求の範囲より明らかとなる。
以下、歯面に示された本発明の実施態様について説明す
る。
る。
図面に足された装置は、少なくとも２個の実質的喀；垂
直の容器、丁なわち第１の沈降容器１と第２の沈降容器
２を富む実質的に閉じられた処理ユニッ）Ａを原則とし
て含むものでめる０容器１および２はガス流空間３によ
り接続されている０これらの容器はまた水で部分的！＝
充満している０２つの沈降容器１．２の相互の位置は、
第１の沈降容器１内の水の表面が一正常操業中蚤；は１
常に＠２の沈降容器２より下方となり、またガス流空間
３が第２の沈降容器２内の水のレベルの上に位置するよ
うに、定められている。１個以上のノズルがベンチュリ
領域の上方でガス入口４内ζ；水を供給する。この水の
供給は温度調整器７により調整されて−る。
直の容器、丁なわち第１の沈降容器１と第２の沈降容器
２を富む実質的に閉じられた処理ユニッ）Ａを原則とし
て含むものでめる０容器１および２はガス流空間３によ
り接続されている０これらの容器はまた水で部分的！＝
充満している０２つの沈降容器１．２の相互の位置は、
第１の沈降容器１内の水の表面が一正常操業中蚤；は１
常に＠２の沈降容器２より下方となり、またガス流空間
３が第２の沈降容器２内の水のレベルの上に位置するよ
うに、定められている。１個以上のノズルがベンチュリ
領域の上方でガス入口４内ζ；水を供給する。この水の
供給は温度調整器７により調整されて−る。
１個以上のノズル８がベンチュリ領域５内に水滴状水を
供給し、水をベンチエリスロートの断面を横切って径方
向に噴射する。この目的は、軸方向に流れるガス中の微
粒子と径方向に１５を射される水滴との間に可及的堪；
大きな速度差を達成するためである。
供給し、水をベンチエリスロートの断面を横切って径方
向に噴射する。この目的は、軸方向に流れるガス中の微
粒子と径方向に１５を射される水滴との間に可及的堪；
大きな速度差を達成するためである。
この他に、１ｍ以とのノズル９がベンチュリ入口の内壁
に旧って接線的に水を供給する。第１および第２沈降容
器１，２のそれぞれが底部出口１０に向η）って円錐形
に細＜なっている。第１の沈降容器】は流出口（ｓｐｉ
ｌ １ｗａｙ）１１を備えている。
に旧って接線的に水を供給する。第１および第２沈降容
器１，２のそれぞれが底部出口１０に向η）って円錐形
に細＜なっている。第１の沈降容器】は流出口（ｓｐｉ
ｌ １ｗａｙ）１１を備えている。
１１を備えている。
流れ空間の延長部には、すなわち第２の沈降室２の上方
には、ガス出口１８がある。最終的に冷却されかつ浄化
されたカスがガス出口１８（＝到達する前にガスは、固
体が充填されておりまた上方力）ら１個以上のノズル１
４を介して冷却水が供給されている冷却床１２を通過せ
しめられるので、ガスは冷却水と向流で流れる。冷却水
の供給を床１２の下方からノズル１４を介して行なって
もよく、この場合は第２の沈降容器２の底からポンプ１
５＋二よって水を抜き取ることが好ましいであろう。ボ
ンダはレベル調整器１６と協働する。ノズル１３および
１４から供給される水の温度は温度制御手段１７により
調整可能であり、第１の沈降容器の溜りの表面水【：よ
って制御が開始される。
には、ガス出口１８がある。最終的に冷却されかつ浄化
されたカスがガス出口１８（＝到達する前にガスは、固
体が充填されておりまた上方力）ら１個以上のノズル１
４を介して冷却水が供給されている冷却床１２を通過せ
しめられるので、ガスは冷却水と向流で流れる。冷却水
の供給を床１２の下方からノズル１４を介して行なって
もよく、この場合は第２の沈降容器２の底からポンプ１
５＋二よって水を抜き取ることが好ましいであろう。ボ
ンダはレベル調整器１６と協働する。ノズル１３および
１４から供給される水の温度は温度制御手段１７により
調整可能であり、第１の沈降容器の溜りの表面水【：よ
って制御が開始される。
冷却され乃）つ浄化されたガスを最終的堪；脱湿するた
めｔ：、サイクロンをガス出口１８堪二接続して設けて
いる。ここでガスは傾斜翼１９によって回転せしめられ
る０ここで集められた水は、円錐形で細くなって、第２
の沈降容器２内の水の表面内に延長されている延長部２
０を経て、該容器２Ｃ適切に戻される。水滴の分離をさ
らに改善するためにはこの延長部に挿入体２２を設ける
ことができる。この延長部２０はガス又は水門を構成Ｔ
る〇さら）二、第２の沈降容器２カ）らその下方に位置
する第１の沈降容器１へのオーバフローが不所望の影響
をしないように、流出路に保獲金属板２１を設けてもよ
い。
めｔ：、サイクロンをガス出口１８堪二接続して設けて
いる。ここでガスは傾斜翼１９によって回転せしめられ
る０ここで集められた水は、円錐形で細くなって、第２
の沈降容器２内の水の表面内に延長されている延長部２
０を経て、該容器２Ｃ適切に戻される。水滴の分離をさ
らに改善するためにはこの延長部に挿入体２２を設ける
ことができる。この延長部２０はガス又は水門を構成Ｔ
る〇さら）二、第２の沈降容器２カ）らその下方に位置
する第１の沈降容器１へのオーバフローが不所望の影響
をしないように、流出路に保獲金属板２１を設けてもよ
い。
図ｒｉＪ−ニボされた装置は原則として次のように機能
する。
する。
浄化でれかつ冷却されるべき熱いガスはガス人口４から
矢印の方向に入る。熱いガスの流れにノズル６を通して
水が供給され、しっ）る後熱せられたガスとの接触によ
りて若干の水は蒸発するので、ガスは所望の温度、通常
は１００℃未満で、水蒸気で飽和する０ノズル６を通し
て供給される水の址は温度調整器７により制御される。
矢印の方向に入る。熱いガスの流れにノズル６を通して
水が供給され、しっ）る後熱せられたガスとの接触によ
りて若干の水は蒸発するので、ガスは所望の温度、通常
は１００℃未満で、水蒸気で飽和する０ノズル６を通し
て供給される水の址は温度調整器７により制御される。
また＠２の沈降容器２の底部力Ｓら抜き出された水をこ
の水供給【−便用することが適切である。かくして水蒸
気で飽和した水は次Ｃニベンテユリ領域５を通ってηＬ
れ、ここで１個以上のノズル８を通してより多くの水が
添加される。ここで供給される水はペンテ−リスロート
のｖｆｒ面を横切る水滴状でおりて、軸方向に元れるガ
ス中ダスト微粒手と放射方向に噴射される水滴との間に
最大の速度差を生じせしめる０またここでは沈降容器２
の下部力）ら抜き出される水も使用されるク ベンチュリ領域が詰まるのを防止するため１二、１個以
上のノズル９３通してベンチュリ入口の内壁に沿う水の
供給も行なわれる。これらのノズルの水は同様に、第２
の沈降容器２の底部から供給してもよい０ 水がベンチュリ領域５の出またカス流空間３１；入ると
、ガスは、第１の沈降Ｈ−ｉの溜り水の表面にてそらせ
られそして上向１ニー矢印Ｃ参照−第１の沈降容器ｌの
壁面に沿りて流れそして流れ空間３を通って出口１８嘔
二向かりて叱れる０ダスト微粒子はベンチエリ領域内の
水との接触によって、質量がてらに大きくなり、重くな
っている０力）乃）るダスト微粒子は第１の沈降容器１
内で氷表面と接触し、そして大部分が溜りの底部に沈降
する。
の水供給【−便用することが適切である。かくして水蒸
気で飽和した水は次Ｃニベンテユリ領域５を通ってηＬ
れ、ここで１個以上のノズル８を通してより多くの水が
添加される。ここで供給される水はペンテ−リスロート
のｖｆｒ面を横切る水滴状でおりて、軸方向に元れるガ
ス中ダスト微粒手と放射方向に噴射される水滴との間に
最大の速度差を生じせしめる０またここでは沈降容器２
の下部力）ら抜き出される水も使用されるク ベンチュリ領域が詰まるのを防止するため１二、１個以
上のノズル９３通してベンチュリ入口の内壁に沿う水の
供給も行なわれる。これらのノズルの水は同様に、第２
の沈降容器２の底部から供給してもよい０ 水がベンチュリ領域５の出またカス流空間３１；入ると
、ガスは、第１の沈降Ｈ−ｉの溜り水の表面にてそらせ
られそして上向１ニー矢印Ｃ参照−第１の沈降容器ｌの
壁面に沿りて流れそして流れ空間３を通って出口１８嘔
二向かりて叱れる０ダスト微粒子はベンチエリ領域内の
水との接触によって、質量がてらに大きくなり、重くな
っている０力）乃）るダスト微粒子は第１の沈降容器１
内で氷表面と接触し、そして大部分が溜りの底部に沈降
する。
したがって、ガス流の中のダストの大部分は少量の水と
ともに容器の底に配設された出口１０を通って第１の沈
降容器を去り、しかして少量のダスト状微粒子を含有す
る大部分の水は流出路１１として役立てられている上部
管１１を経て容器１を去る。容器１内のガス圧が低い場
合は上部管は容器ｌを過圧鳴二対して保護する水門とし
て適し、一方容器１内のガス圧が高い場合は上記保護を
安全弁Ｃ；よりまた注出を例えばレベル！！ｌｌ整ポン
プにより行なう。流出路の場所は水の表面に浮かぶ何ら
７１）の物質が流れるガスによって流出路嘱二運ばれる
ようなところであるのが好ましい。
ともに容器の底に配設された出口１０を通って第１の沈
降容器を去り、しかして少量のダスト状微粒子を含有す
る大部分の水は流出路１１として役立てられている上部
管１１を経て容器１を去る。容器１内のガス圧が低い場
合は上部管は容器ｌを過圧鳴二対して保護する水門とし
て適し、一方容器１内のガス圧が高い場合は上記保護を
安全弁Ｃ；よりまた注出を例えばレベル！！ｌｌ整ポン
プにより行なう。流出路の場所は水の表面に浮かぶ何ら
７１）の物質が流れるガスによって流出路嘱二運ばれる
ようなところであるのが好ましい。
上述のように第１段階で浄化したガスは第２の浄化段階
に流れセしてここで流れ空間を通り固体充填床１２を通
って流れ、固体充填床１２で水との直接接触によりてガ
スの最終冷却および浄化が行なわれる。この冷却水は主
として１個以上のノズル１３を通して上方から冷却床に
供給される０１個以上のノズル１４を通して上方７））
らおよりまたは下方から容器２の底部にある溜りカ）ら
の再循環によって冷却水を供給することも可能である。
に流れセしてここで流れ空間を通り固体充填床１２を通
って流れ、固体充填床１２で水との直接接触によりてガ
スの最終冷却および浄化が行なわれる。この冷却水は主
として１個以上のノズル１３を通して上方から冷却床に
供給される０１個以上のノズル１４を通して上方７））
らおよりまたは下方から容器２の底部にある溜りカ）ら
の再循環によって冷却水を供給することも可能である。
ここで使用されている冷却水は、最終的に冷却され凝結
した水ととモに、容器２の底部での溜りの中に流れ落ち
る。したがって溜りの中に集められた水には少量分のダ
スト微粒子し７１）含まれた−０このために、かつ）ろ
水はポンプ１５によって再循環されそしてプロセス（＝
再使用可能となる。沈降容器内の溜りを一定のレベルに
保ちうるように、ノズル１４および／または６，８．９
と協働Ｔるレベル調整器が配設される。
した水ととモに、容器２の底部での溜りの中に流れ落ち
る。したがって溜りの中に集められた水には少量分のダ
スト微粒子し７１）含まれた−０このために、かつ）ろ
水はポンプ１５によって再循環されそしてプロセス（＝
再使用可能となる。沈降容器内の溜りを一定のレベルに
保ちうるように、ノズル１４および／または６，８．９
と協働Ｔるレベル調整器が配設される。
必要ならば、水を充填床に再循環することζ；よって容
器２内の水温を高めることができる。
器２内の水温を高めることができる。
第１の沈降容器の表面水から熱を回収するため（＝は、
第２の容器での再循環程度を制御する＠度調整計１７−
より排水の温度を制御することが好ましい。温度調整計
１７を第１の容器の溜りＰ′３＋−配置し、ノズル１３
力）ら供給される外部冷却水の過剰添加によって設定水
温超過が起こるのを防ぐことが好筐し一〇 容器２内の溜りの表面水の少量部分は空間３の下限に沿
って容器Ｌ ＜：＠れる。この水流は隔壁２］によって
ガス流力１ら分離されていることが好ましい０このよう
な配置はガススクラバと過充填ρ）ら保護し、そして水
の表面に浮いている何ら力）の微粒子を除去する。続い
て冷却されかつ浄化されたガスは出口１８を通って流出
せしめられる。 −必要ならば、このガスを、出口１８
＋−接続されたサイクロン内での回転により、さらに脱
湿する。 ′ガスは傾斜翼１９により回転せしめられる
０サイクａｙη）らの水のｅｌｌを容易にＴるために、
穿孔もしくはスリットを設けた円錐板２２をサイクロン
の下部に設けてもよい。
第２の容器での再循環程度を制御する＠度調整計１７−
より排水の温度を制御することが好ましい。温度調整計
１７を第１の容器の溜りＰ′３＋−配置し、ノズル１３
力）ら供給される外部冷却水の過剰添加によって設定水
温超過が起こるのを防ぐことが好筐し一〇 容器２内の溜りの表面水の少量部分は空間３の下限に沿
って容器Ｌ ＜：＠れる。この水流は隔壁２］によって
ガス流力１ら分離されていることが好ましい０このよう
な配置はガススクラバと過充填ρ）ら保護し、そして水
の表面に浮いている何ら力）の微粒子を除去する。続い
て冷却されかつ浄化されたガスは出口１８を通って流出
せしめられる。 −必要ならば、このガスを、出口１８
＋−接続されたサイクロン内での回転により、さらに脱
湿する。 ′ガスは傾斜翼１９により回転せしめられる
０サイクａｙη）らの水のｅｌｌを容易にＴるために、
穿孔もしくはスリットを設けた円錐板２２をサイクロン
の下部に設けてもよい。
必要ならば、ノズル１３を通して噴射される水の温度を
制御することによりて装置を放れる浄化ガスの露点を一
般ｔ；は１０−５０℃に制御する。
制御することによりて装置を放れる浄化ガスの露点を一
般ｔ；は１０−５０℃に制御する。
本発明は図示された実施態様に限定されず、特許請求の
範囲の記載内で変更されるものである。
範囲の記載内で変更されるものである。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガスを冷却しまたガスからダストを除去すに際に、
第１段階では、水蒸気で飽和後ガスを加速し、同時にガ
ス中のダスト微粒子に附加水を加えることによって、ダ
スト微粒子と水滴の間の高い相対速度を達成しかつガス
の温度よりも水の温度を低下させ、以って水滴上凝結せ
しめられる水蒸気によってサブミクロン微粒子の所望の
分離を行ない、かくして負荷されたガス流をしかる後第
１の沈降容器内の水の表面上を通過させ、以って大部分
のダスト含分を沈降容器内の溜りに放出し、しかる後第
２段階において水との直接接触による最終浄化および冷
却を気流に施こし、しかる後、かくして利用された水を
、全体としてまたは部分的に第１段階に戻すガスを冷却
しまたガスからダストを除去する方法。 ２、第２段階で使用された水を第２の沈降容器を介して
第１の沈降容器に戻す特許請求の範囲第１項記載の方法
。 ３、水が径方向に噴射されるベンテュリスロート（ｔｈ
ｒｏａｔ）を有するベンチュリ領域にて第１の浄化段階
でのガス加速を行なう特許請求の範囲第１項または第２
項記載の方法。 ４、第１の沈降容器の表面出口を経て取出された水の温
度を第１の沈降容器の水溜りに配設された温度調節器を
介して制御し、前記調節器を第２の沈降容器にて再循環
される水流および第２の沈降容器に外部から供給される
水流を制御する如く配設する特許請求の範囲第１〜３項
のいずれかに記載の方法。 ５、第１の沈降容器内の水のレベル上方に第２の沈降容
器の水のレベルを位置させ、およ び、第１の沈降容器の溜り内のダスト含有水を第２の沈
降容器の溜り内の清浄水部より分離させる特許請求の範
囲第１〜４項のいずれかに記載の方法。 ６、第２の沈降容器が過充満になることを第２の沈降容
器から第１の沈降容器への流れにより生じる表面水の部
分流により防止する特許請求の範囲第１〜５項のいずれ
かに記載の方法。 ７、第１沈降室内の水の表面に浮いている何らかの物質
をガスによって表面出口に向かって流さしめる特許請求
の範囲第１〜６項のいずれかに記載の方法。 ８、冷却されかつ浄化されたガスを第２の沈降容器内に
配設されたサイクロンを通すことによって、脱湿し、分
離された水を第２の沈降室の底部のたまりに直接供給す
る特許請求の範囲第１〜７項のいずれかに記載の方法。 ９、ガスを冷却しまたガスからダストを除去する際に、
第１段階では、水蒸気で飽和後ガスを加速し、同時にガ
ス中のダスト微粒子に附加水を加えることによって、ダ
スト微粒子と水滴の間の高い相対速度を達成しかつガス
の温度よりも水の温度を低下させ、以って水滴上に凝結
せしめられる水蒸気によってサブミクロン微粒子の所望
の分離を行ない、かくして負荷されたガス気流をしかる
後第１の沈降容器内の水の表面上を通過させ、以って大
部分のダスト含分を沈降容器内の溜りに放出し、しかる
後第２段階において水との直接接触による最終浄化およ
び冷却を気流に施こし、しかる後かくして利用された水
を全体としてまたは部分的に第１段階に戻すガスを冷却
しまたガスからダストを除去する方法を実施するために
、ガス入口と、ガス出口と、これらの間のガス流空間と
、ガス入口の下方に配設され、水で部分的に充満された
第１の沈降容器と、この第１の沈降容器からガスの流れ
の方向で見て下流に配設され、水で部分的に充満された
第２の沈降容器と、から構成される実質的に閉じられた
、処理ユニットを含む装置。 １０、ガス入口が、ガス流を加速するベンチュリ領域を
含む特許請求の範囲第９項記載の装置。 １１、水供給手段のオリフィスがガス入口内にある特許
請求の範囲第９項または１０項記載の装置。 １２、ベンテュリスロートの断面を横切ってガス流の中
に水滴を径方向に噴射するためにガス入口内に配設され
たオリフィスを水供給手段が有する特許請求の範囲第９
〜１１項のいずれかに記載の装置。 １３、ベンチュリ入口の内壁に沿って向け実質的に接線
的に水を供給するように配設された１個以上の水供給ノ
ズルを含む特許請求の範囲第９〜１２項のいずれかに記
載の装置。 １４、第１および第２の沈降容器が底部出口に向かって
円錐形に細くなっている容器からなる特許請求の範囲第
９〜１３項のいずれかに記載の装置。 １５、第２の沈降容器内の水のレベルは第１の沈降容器
内の水のレベルより高い位置にあり、また流出路が第１
と第２の沈降容器の間に位置している特許請求の範囲第
９〜１４項のいずれかに記載の装置。 １６、流出路が隔壁よってガス流の空間内にてガス流か
ら隔てられている特許請求の範囲第１５項記載の装置。 １７、ガス出口にスクラバが配設される特許請求の範囲
第９〜１６項のいずれかに記載の装置。 １８、ガススクラバがガス流に水を供給する多数のノズ
ルを有する特許請求の範囲第１７項記載の装置。 １９、第２の沈降容器の実質的上方に配設された冷却床
を含む特許請求の範囲第９〜１８項のいずれかに記載の
装置。 ２０、固体の充填体を冷却床内に含ましめるとともに、
冷却床上方にオリフィスを有する水供給ノズルと冷却床
が協働するように冷却床を配置する特許請求の範囲第１
９項記載の装置。 ２１、ガス流方向で冷却床の後に乱流領域を配設する特
許請求の範囲第１９項または２０項記載の装置。 ２２、第２の沈降容器内の水のレベルの下方にオリフィ
スを有し、円錐形に細くなっている延長部に、ガス出口
の下部を連続させ、冷却水を第２の沈降容器に輸送する
特許請求の範囲第９〜２１項のいずれかに記載の装置。 ２３、前記延長部を水門としても作用させかつ該延長部
に円錐形挿入体を備えた特許請求の範囲第２２項記載の
装置。 ２４、第１および第２の沈降容器内に集められた水を浄
化段階のそれぞれ第１段階および第２段階に戻すための
制御および調整手段を備えた特許請求の範囲第９〜２３
項のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8405185A SE454327B (sv) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | Sett och anleggning for kylning och rening av gaser fran stoft |
| SE8405185-3 | 1984-10-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6197014A true JPS6197014A (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=20357383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60072858A Pending JPS6197014A (ja) | 1984-10-17 | 1985-04-08 | ガスを冷却しまたはガスからダストを除去する方法および装置 |
Country Status (23)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS6197014A (ja) |
| KR (1) | KR860003049A (ja) |
| AR (1) | AR240658A1 (ja) |
| AT (1) | ATA111985A (ja) |
| AU (1) | AU572977B2 (ja) |
| BE (1) | BE902212A (ja) |
| BR (1) | BR8501363A (ja) |
| CA (1) | CA1250803A (ja) |
| CH (1) | CH668196A5 (ja) |
| DD (1) | DD236751A5 (ja) |
| DE (1) | DE3511234C2 (ja) |
| ES (1) | ES8706469A1 (ja) |
| FI (1) | FI851063A7 (ja) |
| FR (1) | FR2571630B1 (ja) |
| GB (1) | GB2165466B (ja) |
| IT (1) | IT1200437B (ja) |
| NO (1) | NO160243C (ja) |
| NZ (1) | NZ211584A (ja) |
| PL (1) | PL149355B1 (ja) |
| SE (1) | SE454327B (ja) |
| YU (1) | YU45709B (ja) |
| ZA (1) | ZA852113B (ja) |
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