JPS6197831A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6197831A JPS6197831A JP59217309A JP21730984A JPS6197831A JP S6197831 A JPS6197831 A JP S6197831A JP 59217309 A JP59217309 A JP 59217309A JP 21730984 A JP21730984 A JP 21730984A JP S6197831 A JPS6197831 A JP S6197831A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- exposure
- light source
- pulsed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、マスクまたはレチクル等の原板上に形成され
たパターン像をウェハの様な担体上に転写するための露
光装置に関し、特に、エキシマレーザの様なパルス状レ
ーザ光源を用いて露光を行なう装置に関する。
たパターン像をウェハの様な担体上に転写するための露
光装置に関し、特に、エキシマレーザの様なパルス状レ
ーザ光源を用いて露光を行なう装置に関する。
［従来の技術］
近年、Ｉ Ｃ，ＬＳ Ｉ、ＶＬＳ Ｉ等の半導体装置に
おいて、微細パターンを形成する要求が高まり、その為
に波長領ｆｉｉＥ２００〜３３０ ［ｎｍ］＋７）ディ
ープＵＶ領域の光を用いた光学系によるリソグラフィー
が開発されている。その場合、光源としては超高圧水銀
灯またはキセノン水銀ランプが用いられることが多いが
、光源の指向性がないことと、その輝度が必らずしも十
分でないことから、その光源を半導体焼付装置に用いる
と露光時間が長くなり、そのスルーブツトを悪くする傾
向があった。
おいて、微細パターンを形成する要求が高まり、その為
に波長領ｆｉｉＥ２００〜３３０ ［ｎｍ］＋７）ディ
ープＵＶ領域の光を用いた光学系によるリソグラフィー
が開発されている。その場合、光源としては超高圧水銀
灯またはキセノン水銀ランプが用いられることが多いが
、光源の指向性がないことと、その輝度が必らずしも十
分でないことから、その光源を半導体焼付装置に用いる
と露光時間が長くなり、そのスルーブツトを悪くする傾
向があった。
最近では短波長領域のレーザ光を射出するレーザの開発
が進んでおり、上記のようなディープＵＶ領域の波長を
有する高輝度のレーザ光を半導体焼付装置に用いること
が可能になってきている。
が進んでおり、上記のようなディープＵＶ領域の波長を
有する高輝度のレーザ光を半導体焼付装置に用いること
が可能になってきている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかし、エキシマレーザ等のパルス状発振されたレーザ
光を半導体焼付装置に用いた場合、発光がパルス状であ
るために露光量制御が難しいという不都合があった。ま
た、発光がパルス状であるために、ミラープロジェクシ
ョンアライナのようにスキャン露光する装置では露光む
らが出てしまうという欠点があった。
光を半導体焼付装置に用いた場合、発光がパルス状であ
るために露光量制御が難しいという不都合があった。ま
た、発光がパルス状であるために、ミラープロジェクシ
ョンアライナのようにスキャン露光する装置では露光む
らが出てしまうという欠点があった。
本発明は、露光装置において、上述従来例の欠点、即ち
露光用光源がパルス状発振されたレーザである場合、露
光量制御が難しく、かつスキャン露光装置で露光むらが
生じるという欠点を除去するためにパルス光を連続光化
することを目的とする。
露光用光源がパルス状発振されたレーザである場合、露
光量制御が難しく、かつスキャン露光装置で露光むらが
生じるという欠点を除去するためにパルス光を連続光化
することを目的とする。
［問題点を解決するための手段および作用］前記した目
的を達成するために本発明では、複数台のレーザ光源を
用い、各レーザ光源をタイミングをずらして発光させる
とともにこれらのレーザ光源からの光束を重ね合せてい
る。
的を達成するために本発明では、複数台のレーザ光源を
用い、各レーザ光源をタイミングをずらして発光させる
とともにこれらのレーザ光源からの光束を重ね合せてい
る。
第２図は、１台の光源からパルス状に発振されたレーザ
の発光の様子を示した図で、この光源は１秒毎にΔを秒
間だけ強度Ｉの光ａを発する。ここで、発振周期Ｔは光
源たるレーザ発振器の励起タイミングを制御することに
より制御可能である。
の発光の様子を示した図で、この光源は１秒毎にΔを秒
間だけ強度Ｉの光ａを発する。ここで、発振周期Ｔは光
源たるレーザ発振器の励起タイミングを制御することに
より制御可能である。
また、光強度Ｉおよび有効発光時間Δｔは光源を構成す
るレーザチューブの特性、レーザ媒質ガスの特性、回路
定数およびＮ８！電圧等によって定まる。
るレーザチューブの特性、レーザ媒質ガスの特性、回路
定数およびＮ８！電圧等によって定まる。
第３図は、複数台の光源から発振されたパルス状のレー
ザ光を合成して連続光を実現した図である。本発明を第
３図について説明すると、先ず、１台の光源からパルス
状のレーザ光ａを発光させる。次に、他の１台の光源か
らΔを秒だけ遅らせた光すを発振させ、前の光ａと合成
させる。そして更にΔを秒だけ遅らせて別の光源から光
Ｃを発振させて前の光すと合成させる。以下同様にして
一般的にはｎ＝Ｔ／Δｔ（台）のレーザ用光源を順次Δ
を秒ずつ遅らせて発光させることによって強度Ｉをもっ
た連続光ｄを得ることかできる。
ザ光を合成して連続光を実現した図である。本発明を第
３図について説明すると、先ず、１台の光源からパルス
状のレーザ光ａを発光させる。次に、他の１台の光源か
らΔを秒だけ遅らせた光すを発振させ、前の光ａと合成
させる。そして更にΔを秒だけ遅らせて別の光源から光
Ｃを発振させて前の光すと合成させる。以下同様にして
一般的にはｎ＝Ｔ／Δｔ（台）のレーザ用光源を順次Δ
を秒ずつ遅らせて発光させることによって強度Ｉをもっ
た連続光ｄを得ることかできる。
［寅施例］
第１図は、本発明の一実施例に係る半導体焼付装置の概
略の構成を示す。同図の装置は、ミラー光学系またはレ
ンズ光学系からなりマスクまたはレチクル等を具える従
来のものと同様の投影光学系１、パルス状光源としての
レーザ発振器２，３゜４、回転可動のミラー５、レーザ
発振器２，３゜４の発光タイミングを制御するとともに
ミラー５の回転角とレーザ発振器２．３．４の発光タイ
ミングとを同期させるための制御装置６を具備している
。
略の構成を示す。同図の装置は、ミラー光学系またはレ
ンズ光学系からなりマスクまたはレチクル等を具える従
来のものと同様の投影光学系１、パルス状光源としての
レーザ発振器２，３゜４、回転可動のミラー５、レーザ
発振器２，３゜４の発光タイミングを制御するとともに
ミラー５の回転角とレーザ発振器２．３．４の発光タイ
ミングとを同期させるための制御装置６を具備している
。
上記構成において、制御装置６は、レーザ発振器２．３
．４をそれぞれΔを秒ずつずれたタイミングでパルス状
に発振させ、第３図に示す様に、周期が１秒、時間幅が
Δを秒、そして強度が１の光ａ、ｂ、ｃをそれぞれΔを
秒ずつずらして発光させる。制御装置６は、さらに、各
レーザ発振器２．３．４から発せられた光を投影光学系
１に入射させる様に、ミラー５の回転角を各レーザ発振
器２，３．４からの光に同期させる。こうすれば投影光
学系１には、光ａ、ｂ、ｃが合成された第３図のｄの様
な連続光が入射される。投影光学系１においては、この
連続光を従来の超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプから
の連続光と同様に扱い、例えばシャッタ手段等により露
光時間の制御を行ない、あるいは、スキャン露光装置に
おいてはスキャン速度を変化して露光量制御を行なう。
．４をそれぞれΔを秒ずつずれたタイミングでパルス状
に発振させ、第３図に示す様に、周期が１秒、時間幅が
Δを秒、そして強度が１の光ａ、ｂ、ｃをそれぞれΔを
秒ずつずらして発光させる。制御装置６は、さらに、各
レーザ発振器２．３．４から発せられた光を投影光学系
１に入射させる様に、ミラー５の回転角を各レーザ発振
器２，３．４からの光に同期させる。こうすれば投影光
学系１には、光ａ、ｂ、ｃが合成された第３図のｄの様
な連続光が入射される。投影光学系１においては、この
連続光を従来の超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプから
の連続光と同様に扱い、例えばシャッタ手段等により露
光時間の制御を行ない、あるいは、スキャン露光装置に
おいてはスキャン速度を変化して露光量制御を行なう。
［発明の効果コ
以上説明したように本発明によると、露光装置において
、複数台のレーザ発振器を用い、各レーザ発振器を時間
をずらせて発振させて異なるタイミングで発光される複
数のパルス状レーザ光を合成することにより連続光を実
現させるようにしたため、露光光が連続光となり、スキ
ャン露光装置の露光量むらを除去することができる。ま
た、露光光が従来の超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプ
と同じ連続光となるため、露光量制御も現在ある技術に
より容易に行なうことができる。
、複数台のレーザ発振器を用い、各レーザ発振器を時間
をずらせて発振させて異なるタイミングで発光される複
数のパルス状レーザ光を合成することにより連続光を実
現させるようにしたため、露光光が連続光となり、スキ
ャン露光装置の露光量むらを除去することができる。ま
た、露光光が従来の超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプ
と同じ連続光となるため、露光量制御も現在ある技術に
より容易に行なうことができる。
第１図は、本発明の一実施例に係る半導体焼付装置の概
略の構成図、 第２図は、１台のパルス状レーザ光源により発振させた
レーザ光の発光特性を示すグラフ、第３図は複数台のパ
ルス状レーザ光源によりタイミングをずらして発振させ
たレーザ光を重ね合せて連続光化したときの発光特性を
示すグラフである。 １：投影光学系、２．３．４：レーザ発振器、５：ミラ
ー、６：制御装置、ａ、ｂ、ｃ：レーザ発振器１台当り
のパルス状レーザ光、ｄ：パルス状レーザ光ａ、ｂ、ｃ
を合成して得られる連続光。
略の構成図、 第２図は、１台のパルス状レーザ光源により発振させた
レーザ光の発光特性を示すグラフ、第３図は複数台のパ
ルス状レーザ光源によりタイミングをずらして発振させ
たレーザ光を重ね合せて連続光化したときの発光特性を
示すグラフである。 １：投影光学系、２．３．４：レーザ発振器、５：ミラ
ー、６：制御装置、ａ、ｂ、ｃ：レーザ発振器１台当り
のパルス状レーザ光、ｄ：パルス状レーザ光ａ、ｂ、ｃ
を合成して得られる連続光。
Claims (1)
- １、パルス状レーザ光源からの照射光により原板上のパ
ターン像を担体上に転写する露光装置であつて、上記パ
ルス状レーザ光源を複数個設けるとともに、各レーザ光
源を時間をずらせて発振させ、これらの各レーザ光源か
らの光束を重ね合せることにより、上記照射光を連続化
することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59217309A JPS6197831A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59217309A JPS6197831A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6197831A true JPS6197831A (ja) | 1986-05-16 |
Family
ID=16702130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59217309A Pending JPS6197831A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6197831A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779558A3 (ja) * | 1995-12-12 | 1997-10-08 | Nippon Kogaku Kk | |
| US7128423B2 (en) | 2002-05-24 | 2006-10-31 | Olympus Corporation | Illumination apparatus, and image capturing apparatus and projector apparatus using this illumination apparatus |
-
1984
- 1984-10-18 JP JP59217309A patent/JPS6197831A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779558A3 (ja) * | 1995-12-12 | 1997-10-08 | Nippon Kogaku Kk | |
| US5880817A (en) * | 1995-12-12 | 1999-03-09 | Nikon Corporation | Projection-exposure apparatus and method exhibiting reduced solarization and radiation compaction |
| US7128423B2 (en) | 2002-05-24 | 2006-10-31 | Olympus Corporation | Illumination apparatus, and image capturing apparatus and projector apparatus using this illumination apparatus |
| US7322705B2 (en) | 2002-05-24 | 2008-01-29 | Olympus Corporation | Illumination apparatus, and image capturing apparatus and projector apparatus using this illumination apparatus |
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