JPS6197854A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPS6197854A
JPS6197854A JP59219207A JP21920784A JPS6197854A JP S6197854 A JPS6197854 A JP S6197854A JP 59219207 A JP59219207 A JP 59219207A JP 21920784 A JP21920784 A JP 21920784A JP S6197854 A JPS6197854 A JP S6197854A
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JP
Japan
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chip
memory cell
arrays
semiconductor device
chips
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庸 小倉
Fumio Horiguchi
文男 堀口
Shigeyoshi Watanabe
重佳 渡辺
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/60Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
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    • H10W70/65Shapes or dispositions of interconnections

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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To contrive to improve the reliability by effective utilization of chips by reducing the area needed to bonding pads by a method wherein those of peripheries along the chip's shorter sides and the chip's longer sides which are larger in distance between arrays and the chip's longer sides are provided with bonding pads. CONSTITUTION:Memory cell arrays 131, 131 and memory cell arrays 132, 132 are arranged with center lines parallel with the longer sides of the chip 11 shifted from each other. Bonding pads 14... are provided in those of peripheries along the shorter sides of the chip 11 and the longer sides which are larger in distance between the longer sides of the chip 11 and the memory cell arrays 131, 131, 132, 132. Then, those regions of peripheries along the longer sides of the chip 11 which are provided with the bonding pads 14... require a width (a) of about 200mum, whereas the width (b) of the regions not provided with the bonding pads 14... can be reduced to about 30mum.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に半導体記憶装置のメモ
リセルアレイの配置に係る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor device, and particularly to the arrangement of a memory cell array in a semiconductor memory device.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

歴史的にダイナミックRAIVIはアドレスマルテプレ
クス方式を採用しておシ、ロウとカラムのアドレスを同
一ピンから入力し1時間をずらしてとフ込む方法を行う
ため、スタチックRAMに比べ、アドレス入力ピンの数
はl/2ですむ。
Historically, dynamic RAIVI has adopted an address multiplexing method, in which row and column addresses are input from the same pin and are stored one hour apart, so compared to static RAM, the number of address input pins is lower. The number is l/2.

このため、16〜256にビットまでのダイナミックR
AMでは16ビン、 300 mil (7,62m)
幅の小さなり I P (Dual  In Line
 )型ノ臂ツケージに収納することが可能となった。し
たがって、多くのICを実装する基板のIC密度が向上
し、高密度実装が可能となってきた。
For this reason, dynamic R up to 16 to 256 bits
AM: 16 bins, 300 mil (7.62m)
Small width line I P (Dual In Line)
) It is now possible to store it in a molded arm cage. Therefore, the IC density of a board on which many ICs are mounted has been improved, and high-density mounting has become possible.

ところで、材質、製造法により分類すると、/IPッケ
ーノの種類にはセラミック型、t−ディップ型、プラス
チック蛮があるが、大量生産に適し、コストの低減を達
成できるのはプラスチック型である。ところが、IC基
板の実装密度を更に向上させる場合、グラスチック型で
300mi1幅のDIPノやツケージにICチップを収
納するのは以下のような理由から困難である。
By the way, when classified according to material and manufacturing method, there are ceramic types, T-dip types, and plastic types, but the plastic type is suitable for mass production and can achieve cost reduction. However, in order to further improve the packaging density of an IC board, it is difficult to house an IC chip in a 300-mil wide DIP or cage using a glass type for the following reasons.

まず、プラスチックパッケージはセラミックパッケージ
よシ機械的強度が弱いため、リードピンを・やツケージ
内に埋め込まなければならない。このため、リードピン
のためのスペースを確保しなければならず、ICチップ
の横幅が制限される。したがって、チップ内のメモリセ
ル及び周辺回路のレイアウトに制限が加わる。これはダ
イナミックRAMの容量が256にビットからIMビッ
ト更に4Mピットへと向上するに従い、微細な加工技術
を使用してもなお増大するチップサイズに上限を与える
ことになる。
First, plastic packages have lower mechanical strength than ceramic packages, so the lead pins must be embedded somewhat inside the cage. Therefore, space must be secured for the lead pins, which limits the width of the IC chip. Therefore, restrictions are placed on the layout of memory cells and peripheral circuits within the chip. This places an upper limit on the chip size, which continues to increase even with the use of fine processing techniques, as the capacity of dynamic RAM increases from 256 bits to IM bits to 4M pits.

このことは、単位メモリセルのサイズを小さくしてしま
い、lトランジスタ1キヤパシタ型のメモリセルであれ
ば、情報を貯えるキャパシタ面積の減少を招く。したが
って、ダイナミックRAMのデータ保持特性の劣化及び
ソフトエラー率の増大を引き起し、信頼性が少なく、商
品価値の低いものとなってしまう。
This reduces the size of the unit memory cell, and in the case of an 1-transistor, 1-capacitor type memory cell, the area of the capacitor for storing information decreases. Therefore, the data retention characteristics of the dynamic RAM deteriorate and the soft error rate increases, resulting in low reliability and low commercial value.

また、ゲラステック型のパッケージでは、リードピンと
ICチップのゾンデイングツ?、ドとの間の金属細線に
よるボンディング長を長くすることは、金属細線の1!
、lT線あるいはポンディング部の接続不良を引き起こ
し、好ましくない。
Also, in the Gerastec type package, is there a connection between the lead pin and the IC chip? Increasing the bonding length of the thin metal wire between the wires and the wires is one of the advantages of thin metal wires!
This is undesirable because it causes poor connection of the LT wire or the bonding part.

チップサイズが小さく、チップの周囲に配置されるリー
ドピンとチップ内の♂ンディングノ々ツドとの゛距離を
小さくできる場合には、チップ内のメモリセル及びゾン
デイングツ々ツドのレイアウトは第3図に示すようなも
のである。すなわち、矩形のチップ1内に複数のメモリ
セルアレイ2.・・・が配列して形成され、ビンディン
グパッド3.・・・はチップ1の短辺に沿った周縁部に
のみまとめて形成てれる。この場合1回路動作にとって
は無駄な領域(チップ1の長辺に沿った周縁部)を極力
小さくできることから有利でちる。ところが、メモリ容
量が大きくなり、テ  リッグサイズが増大したりピン
数が増加した場合にはリードピンとビンディングパッド
との距離を短かくするために第4図のようなレイアウト
を採用する。すなわち、矩形のチップ1内においてビン
ディングパッド3.・・・はチップ1の短辺に沿った周
縁部だけでなく、長辺に沿った両側の周縁部にも形成さ
れる。このようなレイアウトにすると、長辺に沿った周
縁部のデンディングノクツドを形成するために要する面
積をメモリセルアレイ及び周辺回路に利用で′@なくな
る。
If the chip size is small and the distance between the lead pins arranged around the chip and the female landing nodes in the chip can be made small, the layout of the memory cells and zoning nodes in the chip is shown in Figure 3. It's something like this. That is, a plurality of memory cell arrays 2. ... are formed in an array, and the binding pads 3. ... are collectively formed only at the peripheral edge along the short side of the chip 1. In this case, it is advantageous for one circuit operation because the wasted area (periphery along the long side of the chip 1) can be made as small as possible. However, when the memory capacity increases, the tag size increases, and the number of pins increases, a layout as shown in Figure 4 is adopted to shorten the distance between the lead pins and the binding pads. That is, within the rectangular chip 1, the binding pads 3. ... are formed not only at the periphery along the short side of the chip 1, but also at the periphery on both sides along the long side. With such a layout, the area required to form the denting nodes at the periphery along the long sides can be used for the memory cell array and peripheral circuits.

例えば、第4図においてはパッド周フの余裕を考慮する
とチップの長辺に沿う周縁部の幅aとして約200μm
づつ必要であり1両側で400μmの幅の領域がポンデ
ィングi4ツドのためだけに無駄に使われる。この結果
、メモリセルアレイの横幅を減少せざるを得なくなシメ
モリセルの面積が減少し、これに工り−製品の信頼性が
著しく低下する。
For example, in Figure 4, considering the margin around the pad, the width a of the periphery along the long side of the chip is approximately 200 μm.
Therefore, a 400 μm wide area on each side is wasted just for the bonding. As a result, the width of the memory cell array must be reduced, and the area of the memory cell is reduced, which significantly reduces the reliability of the manufactured product.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ゾンデ
イングツ臂ツドに要する面積を減少してチップを有効に
利用し、信頼性の向上した半導体装置を提供しようとす
るものでおる。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor device with improved reliability by reducing the area required for the probe arm and making effective use of the chip.

〔発明の概女〕[The Princess of Invention]

本発明の半導体装置は、チップ長辺に沿って隣接するア
レイのチップ長辺に平行な中心線を互いにずらした状態
で複数列のアレイを配列し、チップの短辺に沿う周縁部
及びチップの長辺に沿う周縁部のうちアレイとチップ長
辺との間の距離が大きい方の周縁部にゾンデイングツや
ラドを設けたことを%徴とするものである。
In the semiconductor device of the present invention, a plurality of arrays are arranged in such a manner that the center lines parallel to the long sides of the chips of adjacent arrays are shifted from each other along the long sides of the chips. This is characterized by the provision of probes or rads on the peripheral edge along the longer sides, where the distance between the array and the longer side of the chip is greater.

このような半導体装置によれは、実質的にチップの長辺
に沿う周縁部では片側にのみビンディングパッドを配置
したことになるので、ポンプイングツ47ドによシ無駄
にされる領域を減少してチップを有効に利用することが
でき5g!品の信頼性を向上することができる。
The problem with such a semiconductor device is that the binding pad is arranged only on one side of the periphery along the long side of the chip, which reduces the area wasted by pumping pads and improves the chip. You can effectively use 5g! Product reliability can be improved.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下1本発明の実施例を第1図を参照して説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

第1図において、矩形のチップ11の中央部にはデコー
ダ12.12が形成されている。デコーダ12.12で
分割された2つの領域にはそれぞれメモリセルアレイ1
3..13.とメモリセルアレイ13..13.がチッ
プ11の短辺に沿って2列づつ配列されている。メそリ
セルアレイ131.13.  とメモリセルアレイ13
! 、13.とはチップ11の長辺に沿う中心線を互い
にずらした状態で配列されている。
In FIG. 1, a decoder 12.12 is formed in the center of a rectangular chip 11. Each of the two areas divided by the decoders 12 and 12 has a memory cell array 1.
3. .. 13. and memory cell array 13. .. 13. are arranged in two rows along the short side of the chip 11. Mesori cell array 131.13. and memory cell array 13
! , 13. and are arranged with their center lines along the long sides of the chips 11 shifted from each other.

ポンディングパッド14.・・・はチップ11の短辺に
沿う周縁部と、長辺に沿う周縁部のうちチップ11長辺
とメモリセルアレイ13□ 。
Ponding pad 14. . . . are the peripheral edge along the short side of the chip 11, and the long side of the chip 11 and the memory cell array 13□ among the peripheral edge along the long side.

131 、l 3! 、J 3!との距離が大きい方に
設けられている。
131, l 3! , J 3! It is located on the side where the distance is greater.

しかして上記半導体装置によれは、チップJノの長辺に
沿う周縁部のうち?ンディングパッド14.・・・が形
成される領域は幅aとして約200μmi要するが、ゴ
ンディングノぐラド14、・・・が形Fy、−gれない
領域の幅すは約30μmまで狭くすることができる。そ
して、実質的にはチップ11の長辺に沿う周縁部のうち
片側のみがポンディングパッドに使用されるので、チッ
プ1ノの面積をメモリセルアレイとして有効に利用する
ことができ、メモリセルのセルサイズを大きくすること
ができる。なお、メモリセルアレイをずらすことにより
アレイを接続する配線を斜めにすることになるが、この
配線に必要な面積の増大はわずかである。
However, in the semiconductor device described above, the distortion occurs in the periphery along the long side of the chip J? landing pad 14. The width a of the region in which the shapes Fy, -g are formed can be reduced to about 30 μm. Since only one side of the periphery along the long side of the chip 11 is substantially used as a bonding pad, the area of the chip 1 can be effectively used as a memory cell array, and the memory cell The size can be increased. Note that by shifting the memory cell arrays, the wiring connecting the arrays is made oblique, but the area required for this wiring increases only slightly.

以上のようなことから蓄積容量を増大でき。The storage capacity can be increased due to the above reasons.

センスアンプに入力される入力信号量を増大させて感度
のよい増幅作用を行なわせることが可能となるのでプロ
セスのバラツキによる特性のバラツキを減少させること
ができる。また。
Since it is possible to increase the amount of input signals input to the sense amplifier to perform a highly sensitive amplification operation, it is possible to reduce variations in characteristics due to process variations. Also.

300m目の幅狭なゲラステックパッケージにも対応で
き、リードピンとIンディングノ4.ドとの配線長を短
くすることが可能であシ、アセンブリ後の配線の断線あ
るいは接続不良の問題を減少させることができる。した
がって、信頼性の高い高集積メモIJIcを実現できる
It can also accommodate the narrow 300m wide Gerastec package, with lead pins and I-indentation holes 4. It is possible to shorten the length of the wiring with the board, and it is possible to reduce the problem of wiring breakage or poor connection after assembly. Therefore, a highly reliable highly integrated memory IJIc can be realized.

なお、メモリセルアレイトぎンディングノぐラドとの配
置は第1図に示すものに限らず第2図に示すようなもの
でもよい、第2図において。
It should be noted that the arrangement of the memory cell array and the binding node is not limited to that shown in FIG. 1, but may be as shown in FIG. 2.

矩形のチップ11の中央部にはデコーダ12が形成され
、メモリセルアレイ13..134 。
A decoder 12 is formed in the center of the rectangular chip 11, and a memory cell array 13. .. 134.

13、.13.はテラf11の長辺に平行な中心線を又
互にずらした状態で配列されている。
13. 13. are arranged with their center lines parallel to the long sides of the terra f11 being shifted from each other.

デンディング/々ツド14.・・・はチップ11の短辺
に沿う周縁部及び長辺に沿9周縁部のうち長辺とメモリ
セルアレイとの距離が大きい方の周縁部に設けられてい
る。
Dending/Tsudo 14. ... are provided at the peripheral edge along the short side of the chip 11 and the peripheral edge along the long side of the chip 11, whichever has a larger distance from the long side to the memory cell array.

このような配置の半導体装置でも上記実施例と同様な効
果を得ることができる。
Even with a semiconductor device arranged in this manner, the same effects as in the above embodiment can be obtained.

1だ1以上の説明ではアレイ群がメモリセルアレイであ
る場合について述べたが、r−ドアレイ、ロジック回路
などの回路ブロックについても本発明を同様に適用する
ことができる。
Although the above description deals with the case where the array group is a memory cell array, the present invention can be similarly applied to circuit blocks such as r-dore arrays and logic circuits.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述した如く本発明の半導体装置によれば、ゴンデ
ィングノクツドに要する面積を減少してチップを有効に
利用し、信頼性を向上できる等顕著な効果を奏するもの
である。
As described in detail above, the semiconductor device of the present invention has remarkable effects such as reducing the area required for the gonding nozzle, making effective use of the chip, and improving reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例におけるメモリICの配置を示
す平面図、第2図は本発明の他の実施例におけるメモI
JIcの配置を示す平面図、第3図及び第4図は従来の
メモIJIcの配置を示す平面図である。 11・・・チップ、12・・・デコーダh731sJ 
J、  、 l J、  、 I J、・・・メモリセ
ルアレイ、14・・・ポンディングパッド。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第3図 第2図 第4図
FIG. 1 is a plan view showing the arrangement of a memory IC in an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a memo I in another embodiment of the present invention.
FIGS. 3 and 4 are plan views showing the arrangement of a conventional memo IJIc. FIGS. 11... Chip, 12... Decoder h731sJ
J, , l J, , I J, . . . memory cell array, 14 . . . bonding pad. Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 3 Figure 2 Figure 4

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)矩形のチップ内に分割された複数のアレイ群を有
し、該アレイ群を外部回路と接続するためのボンディン
グパッドをアレイ外周のチップ周縁部に設けた半導体装
置において、チップ長辺に沿って隣接するアレイのチッ
プ長辺に平行な中心線を互いにずらした状態で複数列の
アレイを配列し、チップの短辺に沿う周縁部及びチップ
の長辺に沿う周縁部のうちアレイとチップ長辺との間の
距離が大きい方の周縁部にボンディングパッドを設けた
ことを特徴とする半導体装置。
(1) In a semiconductor device that has a plurality of array groups divided into a rectangular chip, and bonding pads for connecting the array groups to external circuits are provided on the chip periphery on the outer periphery of the array, the long side of the chip is Multiple rows of arrays are arranged with the center lines parallel to the long sides of the chips of adjacent arrays shifted from each other, and the arrays and chips are arranged at the periphery along the short side of the chips and between the arrays and the chips A semiconductor device characterized in that a bonding pad is provided on a peripheral edge portion having a larger distance from the long side.
(2)アレイの単位構成要素が記憶素子であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
(2) The semiconductor device according to claim 1, wherein the unit component of the array is a memory element.
JP59219207A 1984-10-18 1984-10-18 Semiconductor device Granted JPS6197854A (en)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5184208A (en) * 1987-06-30 1993-02-02 Hitachi, Ltd. Semiconductor device
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