JPS6199345A - Wafer position detector - Google Patents
Wafer position detectorInfo
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- JPS6199345A JPS6199345A JP59220985A JP22098584A JPS6199345A JP S6199345 A JPS6199345 A JP S6199345A JP 59220985 A JP59220985 A JP 59220985A JP 22098584 A JP22098584 A JP 22098584A JP S6199345 A JPS6199345 A JP S6199345A
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- handler
- arm
- hand
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/06—Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
- H10P72/0606—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H10P72/0608—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明にウェハ位置検出装置に関し、特にウェハ搬送装
置に都合良く使用されるウェハ位置検出装置に1列する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a wafer position detecting device, and particularly to a wafer position detecting device conveniently used in a wafer transport device.
一股にウェハに対して加工又は測定をおこなう装置本体
にはウェハを複数枚収納可能なキャリヤが設置されてい
る。ウェハは中ヤリャから装置本体に供給され、ここで
加工又は測定を終了しt後再びキャリヤに収納され、キ
ャリヤごと次の工程にまわされる。A carrier capable of storing a plurality of wafers is installed in the main body of the apparatus which processes or measures wafers at once. The wafer is supplied from the intermediate carrier to the main body of the apparatus, where processing or measurement is completed, and after t, the wafer is stored in the carrier again and sent to the next process together with the carrier.
従来キャリヤからウェハを搬出又は搬入するためにベル
トコンベア式の搬送装置およびハンド式の搬送装置が利
用されている。適1図は今までに知られているパンタグ
ラフ式のハンドラーを概略的に示した図である。このハ
ンドラーは、一端に設けられた軸3を中心として回動自
在なハントアーム1と、ハンドアーム1の他端に@4を
介して同じく回動自在に一端を連結されたハンドアーム
2と、ハンドアーム2の他端に同じく枢動自在に連結さ
れ元ウェハー支持用フィンガー5とから構成されている
。なおハンドラーは、ハンドアーム1およびハンドアー
ム2をそれぞれ対をkすように2本ずつ有している。Conventionally, belt conveyor-type conveyance devices and hand-type conveyance devices have been used to carry wafers in and out of carriers. Figure 1 schematically shows a known pantograph handler. This handler includes a hunt arm 1 which is rotatable around a shaft 3 provided at one end, a hand arm 2 whose one end is also rotatably connected to the other end of the hand arm 1 via @4, The other end of the hand arm 2 is also pivotably connected to a finger 5 for supporting the original wafer. Note that the handler has two hand arms 1 and two hand arms 2, each having k pairs.
第1図は、ハンドアーム1およびハントアーム2を一直
線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収納されtウェ
ハ7の裏側にフィンガー5を位置させ元状態で示しtも
のである。これに対しvg2図は軸3の位置を固定点と
して軸3に向ってフィンガー5を引込め、ウエハーカセ
ットロからウェハー7を取り出し元状態で示した図であ
る。ここでハンドアーム2は、軸5を中心としtアーム
10回転に従って@4を中心として折れ曲がるように回
転し、一方このときハンドアーム2の他端も同じく軸8
を中心としてフィンガー5に対して回転する。最終的に
ハンドアーム1とハンドアーム2とが電な9合い、対を
なすアーム同士が直線状に向かい合うような位置まで移
動する。In FIG. 1, the hand arm 1 and the hunt arm 2 are extended in a straight line, and the hand arm 1 and the hunt arm 2 are housed in a wafer cassette 6, with the finger 5 positioned on the back side of the wafer 7, and shown in its original state. On the other hand, Figure vg2 is a diagram showing the original state in which the finger 5 is retracted toward the shaft 3 with the position of the shaft 3 as a fixed point, and the wafer 7 is taken out from the wafer cassette drawer. Here, the hand arm 2 rotates so as to bend around @4 as the t-arm rotates 10 times around the axis 5, while the other end of the hand arm 2 also rotates around the axis 5.
The finger 5 rotates around the finger 5. Finally, hand arm 1 and hand arm 2 are moved to a position where the arms 1 and 2 are aligned and the paired arms face each other in a straight line.
上述しtハンドラーの構成に依れば、ハンドアームはウ
ェハーの所定の移動距離の半分の長さを有する必要があ
る。更【キャリヤから取り出しtウェハを装置本体へ送
り込む等の理由によりウェハを回転させる場合、ノーン
ドアーム1とハンドアーム2とが重なり合い、対をなす
アーム同士が【直線状に向かい合つt状態で回転し、フ
ィンガー面上に載置されたウニノーの位置を変える必要
がある。この究めハンドラーの作動に必要とされる占有
面積が広くなってしまう。According to the configuration of the t-handler described above, the hand arm needs to have a length that is half the predetermined travel distance of the wafer. Furthermore, when the wafer is rotated for reasons such as removing it from the carrier and feeding it into the main body of the apparatus, the exposed arm 1 and hand arm 2 overlap, and the paired arms rotate in a state where they face each other in a straight line. , it is necessary to change the position of the Uni-No placed on the finger surface. The occupied area required for the operation of this master handler becomes large.
これに加えて従来のハンドラーにおいてはハンドアーム
1およびハンドアーム2がフィンガーに対して同じ角度
で傾斜するような機構を備えていなければならない。In addition, the conventional handler must be equipped with a mechanism that allows the hand arms 1 and 2 to tilt at the same angle with respect to the fingers.
更に通常キャリヤ内には複数枚のウェハが収納されてい
るが、フィンガーを搬出すべき所望のウェハと14接す
るウェハとの間に挿入するtめに1ウエハの位置を正確
に検知する必要がある。そこでウェハハンドラーにウェ
ハRfjt検知機構を組み込んで使用するのが好ましい
。Furthermore, although a plurality of wafers are usually stored in the carrier, it is necessary to accurately detect the position of one wafer in order to insert the finger between the desired wafer to be carried out and the adjacent wafer. . Therefore, it is preferable to incorporate a wafer Rfjt detection mechanism into the wafer handler.
それ数本発明の目的は、ウェハ搬送装置に都合良く使用
されるウニへ位]l倹知機構を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a position sensing mechanism that can be conveniently used in a wafer transfer device.
本発明のクエへ位置偵出装置が都合良く組み込まれるウ
ェハ搬送装置の・ハンドラーは、一端に設けられt軸9
を中心として回動自在なハンドアーム10と、ハンドア
ーム10の他端に軸11を介して同じく回動自在に一端
を連結され 1几ハンドアーム12と、ハンドアー
ム12の他端に同じく枢動自在に連結されたウェハー支
持用フィンガー5とから構成されている。なおハンドラ
ーは、ハンドアーム10およびハンドアーム12をそれ
ぞれ対をがすように2本ずつ有している。The handler of the wafer transfer device in which the position detection device is conveniently incorporated into the handler of the present invention is provided at one end of the t-axis 9.
A hand arm 10 which is rotatable about the center, one end of which is rotatably connected to the other end of the hand arm 10 via a shaft 11, and a hand arm 12 which is rotatably connected to the other end of the hand arm 12. It is composed of wafer supporting fingers 5 which are freely connected. The handler has two hand arms 10 and two hand arms 12 separated from each other in pairs.
第3囚は、ハンドアーム10およびハンドアーム12を
一直線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収容され九
ウェハ7の裏側にフィンガー5を位置させた状態で示し
苑ものである。これに対し第4南はI11]9の位置を
固定点として軸9に向かってフィンガー5を引込め、ウ
ェハーカセット6からウェハー7を取や出した状態で示
した(2)である。ここでハンドアーム12は、軸9を
中心としたアーム10の回転に従って軸11を中心とし
て折れ曲がるように回転し、一方このときハンドアーム
12の他端も同じく軸13を中心としてフィンガー5に
対して回転する。途中アーム10とアーム12とが重な
り合い、対をなすアーム同士が直線状に向かい合うよう
な位置(第2図参照)まで移動する。The third case is shown with the hand arm 10 and the hand arm 12 extending in a straight line, housed in the wafer cassette 6, and with the fingers 5 positioned on the back side of the nine wafers 7. On the other hand, in the fourth south, the finger 5 is retracted toward the axis 9 with the position of I11]9 as a fixed point, and the wafer 7 is taken out from the wafer cassette 6 (2). Here, the hand arm 12 rotates so as to bend around the shaft 11 in accordance with the rotation of the arm 10 around the shaft 9, and at this time, the other end of the hand arm 12 also rotates around the shaft 13 with respect to the finger 5. Rotate. On the way, the arms 10 and 12 overlap and move to a position where the paired arms face each other in a straight line (see FIG. 2).
このウェハ搬送装置のハンドラーにおいては、ハンドア
ーム12は第2図に示されるよう々位置からウェハカセ
ット6と竺れる方向へ@11を中心として回3ノアする
。最終的にハンドアーム10とハンドアーム12は第3
図の状態と逆の方向に−KIR状に延び、フィンガー5
はハンドアーム10および12の上方に重なり合うよう
に位置する。従ってこのハンドラーの場合、第1図に示
されt従来のハンドラーと比べてハンドアームの長さは
ウェハの所定の移動距離の4分の1で良く極めてコンパ
クトなものとなる。In the handler of this wafer transfer device, the hand arm 12 moves three times around @11 from the position shown in FIG. 2 in a direction that intersects with the wafer cassette 6. Finally, hand arm 10 and hand arm 12 are
Finger 5 extends in a -KIR shape in the opposite direction to the state shown in the figure.
are located above hand arms 10 and 12 so as to overlap. Therefore, in the case of this handler, compared to the conventional handler shown in FIG. 1, the length of the hand arm is only one quarter of the predetermined travel distance of the wafer, making it extremely compact.
又第4図に示されるようにアーム1oおよび12はその
大部分がフィンガー5面上に載置されtウェハ7の真下
に位置するため、ウェハ7を所望の方向に移動させるた
めハンドラーを回転させるとき必要とされる占有iW+
ntは極めて少なく々る。Further, as shown in FIG. 4, most of the arms 1o and 12 are placed on the surface of the finger 5 and are located directly below the wafer 7, so the handler is rotated in order to move the wafer 7 in a desired direction. Occupancy iW+ required when
nt is extremely small.
ここで上述したようなハンドアーム1oおよび12の作
動を可能とする機構について第5図を参照して説明する
。A mechanism that enables the operation of the hand arms 1o and 12 as described above will now be described with reference to FIG. 5.
軸9はアーム10と一体的に構成され、@9の内部には
プーリー14が規み込オれている。−方軸11はアーム
12と一体であるプーリーから構成され、プーリー14
とプーリー11との間にはタイミングベルト15が掛は
痩されている。従ってプーリー14を回転[?#させる
とタイミングベルト15を介してプーリー11に駆動力
が伝達される。The shaft 9 is constructed integrally with the arm 10, and a pulley 14 is fitted inside the shaft 9. - the horizontal axis 11 consists of a pulley which is integral with the arm 12, and the pulley 14
A timing belt 15 is installed between the pulley 11 and the timing belt 15. Therefore, rotate the pulley 14 [? When # is set, the driving force is transmitted to the pulley 11 via the timing belt 15.
ここでフィンガー5を軸9に向かう方向へ引き寄せる際
直線的に移動させる九めには、アーム10の傾斜角度と
アーム10とアーム12とのなる開き角度とが1:2の
関係を常に維持するようにプーリー14の駆動力を定め
なければならない。Here, when the finger 5 is pulled in the direction toward the axis 9 and moved linearly, the inclination angle of the arm 10 and the opening angle of the arm 10 and the arm 12 always maintain a 1:2 relationship. The driving force of the pulley 14 must be determined accordingly.
第6■および第70はそれぞれ、本発明のウェハハンド
ラーにウニへ位f1m知機構を組み込んだ実施例の側面
図および平面口である。前述のとおりカセット6内には
複数枚のウェハ7が収納されているが、フィンガー5を
搬出すべき所望のウェハ7と隣接するウェハ7との間(
挿入するためには、ウェハの位置を正確に愼知する必要
がある。そこでウェハハンドラーにウェハ位置検知機構
を組み込んで使用するのが好ましい。本発明のウェハ立
置挾知機梯の基本的な構成は、レーザーrP、16と、
カセット60毫側に配、aされ几ガラスロッド18と、
レーザー源16から出tレーザー20をガラスロッド1
8に向けて射出る、ミラー17と、ガラスロットに入射
し几レーザーを検出する几めのホトセンサ19、及び1
9′を有している。ガラスマッド18は円柱形のガラス
の一部を荒摺りしtものである。南示しtものは上部が
ガラス往と直角に切断しであるが、その部分に反射膜を
コーティングしt方が望しい。更にロフト全体を反射ミ
ラーをコーディングし、入射部分のみスリット状に切り
かいても良い。フィンガー5とレーザー光路とのレベル
の差による立鷺補正の必要をなぐす友めに、フィンガー
5とレーザー光路とのレベルを極めて近接させるのが好
ましい。 !なお、光源として、レーザーを用い
る理由はレーザーは直進性がすぐれているため直線形状
の物体の位置検知に適している湊らである。以上の構成
でウェハハンド8が仮に上方から下方に移動する時、ウ
ェハがその間に存在すればレーザ元20はウェハでさえ
ぎられるのでロッド18に入射せずホトセンサ19は光
を検出しない。Nos. 6 and 70 are a side view and a plan view, respectively, of an embodiment in which a wafer handler of the present invention incorporates a sea urchin position f1m detection mechanism. As mentioned above, a plurality of wafers 7 are stored in the cassette 6, and the finger 5 is placed between the desired wafer 7 to be carried out and the adjacent wafer 7 (
In order to insert the wafer, it is necessary to know the exact position of the wafer. Therefore, it is preferable to use a wafer position detection mechanism built into the wafer handler. The basic configuration of the wafer vertical clamping machine ladder of the present invention includes a laser rP, 16,
A glass rod 18 disposed on the side of the cassette 60,
A laser 20 emitted from a laser source 16 is connected to a glass rod 1.
8, a mirror 17, a narrow photo sensor 19 that detects the laser beam incident on the glass slot, and 1.
9'. The glass mud 18 is made by roughening a part of a cylindrical glass. The upper part of the one facing south is cut at right angles to the glass, but it is preferable to coat that part with a reflective film. Furthermore, the entire loft may be coated with a reflecting mirror, and only the incident portion may be cut into a slit shape. In order to eliminate the need for vertical correction due to the difference in level between the finger 5 and the laser optical path, it is preferable to make the levels of the finger 5 and the laser optical path very close to each other. ! Note that the reason for using a laser as a light source is that lasers have excellent straightness and are suitable for detecting the position of linear objects, according to Minato et al. With the above configuration, when the wafer hand 8 moves from above to below, if a wafer exists between them, the laser source 20 will be blocked by the wafer and will not enter the rod 18 and the photosensor 19 will not detect the light.
ウェハが存在しなければホトセンサ19はロッド1Bに
入射し九九を検出す。従って検知光の最も少い位置がウ
ニへの中心位置となる。この関係?第8図に示す。If there is no wafer, the photo sensor 19 enters the rod 1B and detects the multiplication table. Therefore, the position where the least amount of detected light is detected becomes the central position to the sea urchin. This relationship? It is shown in FIG.
第8図はガラスロッド18の一端に設けられたホトセン
サ19の検出光強度とハンドラの高さ方向の関係を示し
ている。ハンドラの高さが変9、レーザ元20の入射位
置がホトセンサから離れて遠くなると、センナへ到達す
る光が弱くなり、振巾が少くなって来ることが判る。従
ってもしホトセンサがガラスロットの上端部のみに設け
であると、第8図のような出力関係になり、ハンドラが
下方に来九時、ウェハ位置検知が困難になることが想像
される。本発明はこれを解決するためになされtもので
、ホトセンサをガラスロットの両端に設け、かつそれぞ
れの光検出信号を加え合せ九合成信号を用いることによ
り、クエへ位置を検知しよ艷というものである。即ち、
一端のホトセンサ出力が弱くなれば、反対側のセンサ出
力が強まるので、それらの加え合せてやれば、一定の変
化が得られる正確なり工へ位置を検出が可能にkる。第
9−に信号の合成回路を示す、(9)中AI、AI’は
ホトセンサ19.19’の充電流を電圧に変換する電流
電圧変換回路、A2#iそれらを加算する加算回路であ
る。光源としてレーザー以外の例えばI、KD等を用い
た場合には光源からの光はある程度の広がりをもつため
、この広がった光で位置を検知したい所望のウェハが光
路を遮断することを検出することは極めて困難である。FIG. 8 shows the relationship between the intensity of light detected by the photosensor 19 provided at one end of the glass rod 18 and the height direction of the handler. It can be seen that as the height of the handler changes 9 and the incident position of the laser source 20 becomes farther away from the photo sensor, the light reaching the senna becomes weaker and its amplitude becomes smaller. Therefore, if the photo sensor is provided only at the upper end of the glass slot, the output relationship will be as shown in FIG. 8, and it can be imagined that it will be difficult to detect the wafer position when the handler comes downward. The present invention was made to solve this problem, and it detects the position of the glass rod by installing photo sensors at both ends of the glass rod and adding the respective photo detection signals and using a composite signal. It is. That is,
If the photo sensor output on one end becomes weak, the sensor output on the opposite side becomes strong, so by adding them together, it becomes possible to detect the position accurately with constant changes. No. 9- shows a signal synthesis circuit, in (9) AI and AI' are current-voltage conversion circuits that convert the charging current of the photosensor 19, 19' into voltage, and A2#i is an addition circuit that adds them. When a light source other than a laser, such as I or KD, is used as a light source, the light from the light source spreads to some extent, so it is necessary to use this spread light to detect that the desired wafer whose position is to be detected blocks the optical path. is extremely difficult.
これ以外にTV左カメラでウニへの断面をみる方法本考
えられるが、TV左カメラ用いる場合はカメラレンズの
焦点合わせが必要となる。There are other ways to view the cross section of the sea urchin using the TV left camera, but if you use the TV left camera, you will need to focus the camera lens.
ところがカセット内に収容されtウニノーはウェハの出
し入れ方向においてかなり位置の′バラツキが大きいt
め正しい無点合わせができず、精密な位置検知には適さ
ない。加つるにTVカメラは高価で大きく複雑である。However, when the wafer is stored in a cassette, the position of the wafer varies considerably in the loading/unloading direction.
This makes it impossible to perform accurate pointless alignment, making it unsuitable for precise position detection. Additionally, TV cameras are expensive, large and complex.
要するにレーザーを用いたウェハの位置検知法は、光路
が@線的であるために上下の隣接するウェハによる影響
がないばかりか、焦点合わせも不要であるため収容され
たウェハの出し入れ方向に沿つt位置のバラツキ(よる
検知精度の低下もない。更に本位置検出法は、レーザ光
の平行直進性を利用している為く、ウェハの大口径化(
も適している。更に本位置検出法の秀れている点は透過
するレーザ光の強度を検出する究めに光学系のアライメ
ントが極めて容易であることである。In short, the wafer position detection method using a laser not only has an @-linear optical path, so there is no influence from adjacent wafers above and below, but also does not require focusing, so it can detect the position of wafers along the direction in which the stored wafers are taken in and out. There is no decrease in detection accuracy due to variations in the t position.Furthermore, since this position detection method utilizes the parallel and straight traveling property of the laser beam, it is possible to increase the diameter of the wafer (
is also suitable. A further advantage of this position detection method is that alignment of the optical system for detecting the intensity of the transmitted laser light is extremely easy.
ここで参照番号21は、フィンガー5をカセット6から
抜き出すためにハンドアーム10および12を折り曲げ
るためのハンドアーム伸縮用駆動部である。参照番号2
2はフィンガー5面上に裁置さrL几ラウェハフ向きを
変えるためにハンドラーを回転させるとき使用されるハ
ンドラー回転用モータである。Here, reference numeral 21 is a hand arm extension/contraction drive section for bending the hand arms 10 and 12 in order to extract the finger 5 from the cassette 6. Reference number 2
Reference numeral 2 denotes a handler rotation motor used to rotate the handler in order to change the direction of the rL wafer placed on the surface of the finger 5.
更に参照番号25はハンドラー昇降機構であり、カセッ
ト6内に収容された任意の位置のウェハ7を取抄出すた
めにフィンガー5の高さを所望のレベルに変えることが
できる。Furthermore, reference numeral 25 is a handler elevating mechanism, which can change the height of the fingers 5 to a desired level in order to remove the wafer 7 housed in the cassette 6 at any position.
第1図は従来のハンドラーを延ばした状態で示した図、
第2図は第1−のハ/ドラ−を折り曲げた状(11で示
した図、
箒3図は搬送装置のハンドラーを運ばしt状態で示し九
因、
第4図は第3図のハンドラーを折り曲げた状態で示しt
図、
第5(9)はWc3図く示されtハンドラーのアームの
枢動機構を示しt園、
第6図および第7・(9)はそれぞれ、ハンドラーに本
発明のウニ八位置検知機構を組み込んだ実 ′1
施例の側面□□□および平面図1
、X 81/は、ウェハの位置とホトセンサの検出元強
麿との1係を示し九因、
第9(2)は温帯の合成回路を示しt園である、5・・
・・フィンガー
9・・・・軸
10.12・・・・ハンドアーム
11.14・・・・プーリー
15・・・・タイミングベルトFigure 1 shows a conventional handler in an extended state, Figure 2 shows a folded state of the first handler (indicated by 11), and Figure 3 shows a handler of a conveying device in an extended state. Figure 4 shows the handler in Figure 3 in a folded state.
Figure 5 (9) shows the pivot mechanism of the arm of the handler as shown in the Wc3 diagram. Incorporated fruit '1
Side view □□□ of the example and top view 1, That's 5...
...Finger 9...Axle 10.12...Hand arm 11.14...Pulley 15...Timing belt
Claims (1)
断面方向に向け射出させるミラーと、射出されたレーザ
ー光を入射誘導するガラスロッドと、ガラスロッドに入
射したレーザーを検出するためのホトセンサをガラスロ
ッドの上下に有するウェハ位置検出装置。A laser source, a mirror that directs the laser beam emitted from the laser source toward the cross-sectional direction of the wafer, a glass rod that guides the emitted laser beam, and a photo sensor that detects the laser beam that has entered the glass rod. Wafer position detection devices located above and below the wafer.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59220985A JPS6199345A (en) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | Wafer position detector |
| US07/094,076 US4806773A (en) | 1984-10-18 | 1987-09-04 | Wafer position detecting method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59220985A JPS6199345A (en) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | Wafer position detector |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199345A true JPS6199345A (en) | 1986-05-17 |
Family
ID=16759659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59220985A Pending JPS6199345A (en) | 1984-10-18 | 1984-10-19 | Wafer position detector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199345A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144647A (en) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | Counter for semiconductor wafer |
| US5266812A (en) * | 1991-07-26 | 1993-11-30 | Tokyo Electron Limited | Substrate detector with light emitting and receiving elements arranged in a staggered fashion |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59220985A patent/JPS6199345A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144647A (en) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | Counter for semiconductor wafer |
| US5266812A (en) * | 1991-07-26 | 1993-11-30 | Tokyo Electron Limited | Substrate detector with light emitting and receiving elements arranged in a staggered fashion |
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