JPS6199345A - ウエハ位置検出装置 - Google Patents
ウエハ位置検出装置Info
- Publication number
- JPS6199345A JPS6199345A JP59220985A JP22098584A JPS6199345A JP S6199345 A JPS6199345 A JP S6199345A JP 59220985 A JP59220985 A JP 59220985A JP 22098584 A JP22098584 A JP 22098584A JP S6199345 A JPS6199345 A JP S6199345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- handler
- arm
- hand
- glass rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/06—Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
- H10P72/0606—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H10P72/0608—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- Controlling Sheets Or Webs (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明にウェハ位置検出装置に関し、特にウェハ搬送装
置に都合良く使用されるウェハ位置検出装置に1列する
。
置に都合良く使用されるウェハ位置検出装置に1列する
。
一股にウェハに対して加工又は測定をおこなう装置本体
にはウェハを複数枚収納可能なキャリヤが設置されてい
る。ウェハは中ヤリャから装置本体に供給され、ここで
加工又は測定を終了しt後再びキャリヤに収納され、キ
ャリヤごと次の工程にまわされる。
にはウェハを複数枚収納可能なキャリヤが設置されてい
る。ウェハは中ヤリャから装置本体に供給され、ここで
加工又は測定を終了しt後再びキャリヤに収納され、キ
ャリヤごと次の工程にまわされる。
従来キャリヤからウェハを搬出又は搬入するためにベル
トコンベア式の搬送装置およびハンド式の搬送装置が利
用されている。適1図は今までに知られているパンタグ
ラフ式のハンドラーを概略的に示した図である。このハ
ンドラーは、一端に設けられた軸3を中心として回動自
在なハントアーム1と、ハンドアーム1の他端に@4を
介して同じく回動自在に一端を連結されたハンドアーム
2と、ハンドアーム2の他端に同じく枢動自在に連結さ
れ元ウェハー支持用フィンガー5とから構成されている
。なおハンドラーは、ハンドアーム1およびハンドアー
ム2をそれぞれ対をkすように2本ずつ有している。
トコンベア式の搬送装置およびハンド式の搬送装置が利
用されている。適1図は今までに知られているパンタグ
ラフ式のハンドラーを概略的に示した図である。このハ
ンドラーは、一端に設けられた軸3を中心として回動自
在なハントアーム1と、ハンドアーム1の他端に@4を
介して同じく回動自在に一端を連結されたハンドアーム
2と、ハンドアーム2の他端に同じく枢動自在に連結さ
れ元ウェハー支持用フィンガー5とから構成されている
。なおハンドラーは、ハンドアーム1およびハンドアー
ム2をそれぞれ対をkすように2本ずつ有している。
第1図は、ハンドアーム1およびハントアーム2を一直
線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収納されtウェ
ハ7の裏側にフィンガー5を位置させ元状態で示しtも
のである。これに対しvg2図は軸3の位置を固定点と
して軸3に向ってフィンガー5を引込め、ウエハーカセ
ットロからウェハー7を取り出し元状態で示した図であ
る。ここでハンドアーム2は、軸5を中心としtアーム
10回転に従って@4を中心として折れ曲がるように回
転し、一方このときハンドアーム2の他端も同じく軸8
を中心としてフィンガー5に対して回転する。最終的に
ハンドアーム1とハンドアーム2とが電な9合い、対を
なすアーム同士が直線状に向かい合うような位置まで移
動する。
線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収納されtウェ
ハ7の裏側にフィンガー5を位置させ元状態で示しtも
のである。これに対しvg2図は軸3の位置を固定点と
して軸3に向ってフィンガー5を引込め、ウエハーカセ
ットロからウェハー7を取り出し元状態で示した図であ
る。ここでハンドアーム2は、軸5を中心としtアーム
10回転に従って@4を中心として折れ曲がるように回
転し、一方このときハンドアーム2の他端も同じく軸8
を中心としてフィンガー5に対して回転する。最終的に
ハンドアーム1とハンドアーム2とが電な9合い、対を
なすアーム同士が直線状に向かい合うような位置まで移
動する。
上述しtハンドラーの構成に依れば、ハンドアームはウ
ェハーの所定の移動距離の半分の長さを有する必要があ
る。更【キャリヤから取り出しtウェハを装置本体へ送
り込む等の理由によりウェハを回転させる場合、ノーン
ドアーム1とハンドアーム2とが重なり合い、対をなす
アーム同士が【直線状に向かい合つt状態で回転し、フ
ィンガー面上に載置されたウニノーの位置を変える必要
がある。この究めハンドラーの作動に必要とされる占有
面積が広くなってしまう。
ェハーの所定の移動距離の半分の長さを有する必要があ
る。更【キャリヤから取り出しtウェハを装置本体へ送
り込む等の理由によりウェハを回転させる場合、ノーン
ドアーム1とハンドアーム2とが重なり合い、対をなす
アーム同士が【直線状に向かい合つt状態で回転し、フ
ィンガー面上に載置されたウニノーの位置を変える必要
がある。この究めハンドラーの作動に必要とされる占有
面積が広くなってしまう。
これに加えて従来のハンドラーにおいてはハンドアーム
1およびハンドアーム2がフィンガーに対して同じ角度
で傾斜するような機構を備えていなければならない。
1およびハンドアーム2がフィンガーに対して同じ角度
で傾斜するような機構を備えていなければならない。
更に通常キャリヤ内には複数枚のウェハが収納されてい
るが、フィンガーを搬出すべき所望のウェハと14接す
るウェハとの間に挿入するtめに1ウエハの位置を正確
に検知する必要がある。そこでウェハハンドラーにウェ
ハRfjt検知機構を組み込んで使用するのが好ましい
。
るが、フィンガーを搬出すべき所望のウェハと14接す
るウェハとの間に挿入するtめに1ウエハの位置を正確
に検知する必要がある。そこでウェハハンドラーにウェ
ハRfjt検知機構を組み込んで使用するのが好ましい
。
それ数本発明の目的は、ウェハ搬送装置に都合良く使用
されるウニへ位]l倹知機構を提供することにある。
されるウニへ位]l倹知機構を提供することにある。
本発明のクエへ位置偵出装置が都合良く組み込まれるウ
ェハ搬送装置の・ハンドラーは、一端に設けられt軸9
を中心として回動自在なハンドアーム10と、ハンドア
ーム10の他端に軸11を介して同じく回動自在に一端
を連結され 1几ハンドアーム12と、ハンドアー
ム12の他端に同じく枢動自在に連結されたウェハー支
持用フィンガー5とから構成されている。なおハンドラ
ーは、ハンドアーム10およびハンドアーム12をそれ
ぞれ対をがすように2本ずつ有している。
ェハ搬送装置の・ハンドラーは、一端に設けられt軸9
を中心として回動自在なハンドアーム10と、ハンドア
ーム10の他端に軸11を介して同じく回動自在に一端
を連結され 1几ハンドアーム12と、ハンドアー
ム12の他端に同じく枢動自在に連結されたウェハー支
持用フィンガー5とから構成されている。なおハンドラ
ーは、ハンドアーム10およびハンドアーム12をそれ
ぞれ対をがすように2本ずつ有している。
第3囚は、ハンドアーム10およびハンドアーム12を
一直線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収容され九
ウェハ7の裏側にフィンガー5を位置させた状態で示し
苑ものである。これに対し第4南はI11]9の位置を
固定点として軸9に向かってフィンガー5を引込め、ウ
ェハーカセット6からウェハー7を取や出した状態で示
した(2)である。ここでハンドアーム12は、軸9を
中心としたアーム10の回転に従って軸11を中心とし
て折れ曲がるように回転し、一方このときハンドアーム
12の他端も同じく軸13を中心としてフィンガー5に
対して回転する。途中アーム10とアーム12とが重な
り合い、対をなすアーム同士が直線状に向かい合うよう
な位置(第2図参照)まで移動する。
一直線状に延ばし、ウェハーカセット6内に収容され九
ウェハ7の裏側にフィンガー5を位置させた状態で示し
苑ものである。これに対し第4南はI11]9の位置を
固定点として軸9に向かってフィンガー5を引込め、ウ
ェハーカセット6からウェハー7を取や出した状態で示
した(2)である。ここでハンドアーム12は、軸9を
中心としたアーム10の回転に従って軸11を中心とし
て折れ曲がるように回転し、一方このときハンドアーム
12の他端も同じく軸13を中心としてフィンガー5に
対して回転する。途中アーム10とアーム12とが重な
り合い、対をなすアーム同士が直線状に向かい合うよう
な位置(第2図参照)まで移動する。
このウェハ搬送装置のハンドラーにおいては、ハンドア
ーム12は第2図に示されるよう々位置からウェハカセ
ット6と竺れる方向へ@11を中心として回3ノアする
。最終的にハンドアーム10とハンドアーム12は第3
図の状態と逆の方向に−KIR状に延び、フィンガー5
はハンドアーム10および12の上方に重なり合うよう
に位置する。従ってこのハンドラーの場合、第1図に示
されt従来のハンドラーと比べてハンドアームの長さは
ウェハの所定の移動距離の4分の1で良く極めてコンパ
クトなものとなる。
ーム12は第2図に示されるよう々位置からウェハカセ
ット6と竺れる方向へ@11を中心として回3ノアする
。最終的にハンドアーム10とハンドアーム12は第3
図の状態と逆の方向に−KIR状に延び、フィンガー5
はハンドアーム10および12の上方に重なり合うよう
に位置する。従ってこのハンドラーの場合、第1図に示
されt従来のハンドラーと比べてハンドアームの長さは
ウェハの所定の移動距離の4分の1で良く極めてコンパ
クトなものとなる。
又第4図に示されるようにアーム1oおよび12はその
大部分がフィンガー5面上に載置されtウェハ7の真下
に位置するため、ウェハ7を所望の方向に移動させるた
めハンドラーを回転させるとき必要とされる占有iW+
ntは極めて少なく々る。
大部分がフィンガー5面上に載置されtウェハ7の真下
に位置するため、ウェハ7を所望の方向に移動させるた
めハンドラーを回転させるとき必要とされる占有iW+
ntは極めて少なく々る。
ここで上述したようなハンドアーム1oおよび12の作
動を可能とする機構について第5図を参照して説明する
。
動を可能とする機構について第5図を参照して説明する
。
軸9はアーム10と一体的に構成され、@9の内部には
プーリー14が規み込オれている。−方軸11はアーム
12と一体であるプーリーから構成され、プーリー14
とプーリー11との間にはタイミングベルト15が掛は
痩されている。従ってプーリー14を回転[?#させる
とタイミングベルト15を介してプーリー11に駆動力
が伝達される。
プーリー14が規み込オれている。−方軸11はアーム
12と一体であるプーリーから構成され、プーリー14
とプーリー11との間にはタイミングベルト15が掛は
痩されている。従ってプーリー14を回転[?#させる
とタイミングベルト15を介してプーリー11に駆動力
が伝達される。
ここでフィンガー5を軸9に向かう方向へ引き寄せる際
直線的に移動させる九めには、アーム10の傾斜角度と
アーム10とアーム12とのなる開き角度とが1:2の
関係を常に維持するようにプーリー14の駆動力を定め
なければならない。
直線的に移動させる九めには、アーム10の傾斜角度と
アーム10とアーム12とのなる開き角度とが1:2の
関係を常に維持するようにプーリー14の駆動力を定め
なければならない。
第6■および第70はそれぞれ、本発明のウェハハンド
ラーにウニへ位f1m知機構を組み込んだ実施例の側面
図および平面口である。前述のとおりカセット6内には
複数枚のウェハ7が収納されているが、フィンガー5を
搬出すべき所望のウェハ7と隣接するウェハ7との間(
挿入するためには、ウェハの位置を正確に愼知する必要
がある。そこでウェハハンドラーにウェハ位置検知機構
を組み込んで使用するのが好ましい。本発明のウェハ立
置挾知機梯の基本的な構成は、レーザーrP、16と、
カセット60毫側に配、aされ几ガラスロッド18と、
レーザー源16から出tレーザー20をガラスロッド1
8に向けて射出る、ミラー17と、ガラスロットに入射
し几レーザーを検出する几めのホトセンサ19、及び1
9′を有している。ガラスマッド18は円柱形のガラス
の一部を荒摺りしtものである。南示しtものは上部が
ガラス往と直角に切断しであるが、その部分に反射膜を
コーティングしt方が望しい。更にロフト全体を反射ミ
ラーをコーディングし、入射部分のみスリット状に切り
かいても良い。フィンガー5とレーザー光路とのレベル
の差による立鷺補正の必要をなぐす友めに、フィンガー
5とレーザー光路とのレベルを極めて近接させるのが好
ましい。 !なお、光源として、レーザーを用い
る理由はレーザーは直進性がすぐれているため直線形状
の物体の位置検知に適している湊らである。以上の構成
でウェハハンド8が仮に上方から下方に移動する時、ウ
ェハがその間に存在すればレーザ元20はウェハでさえ
ぎられるのでロッド18に入射せずホトセンサ19は光
を検出しない。
ラーにウニへ位f1m知機構を組み込んだ実施例の側面
図および平面口である。前述のとおりカセット6内には
複数枚のウェハ7が収納されているが、フィンガー5を
搬出すべき所望のウェハ7と隣接するウェハ7との間(
挿入するためには、ウェハの位置を正確に愼知する必要
がある。そこでウェハハンドラーにウェハ位置検知機構
を組み込んで使用するのが好ましい。本発明のウェハ立
置挾知機梯の基本的な構成は、レーザーrP、16と、
カセット60毫側に配、aされ几ガラスロッド18と、
レーザー源16から出tレーザー20をガラスロッド1
8に向けて射出る、ミラー17と、ガラスロットに入射
し几レーザーを検出する几めのホトセンサ19、及び1
9′を有している。ガラスマッド18は円柱形のガラス
の一部を荒摺りしtものである。南示しtものは上部が
ガラス往と直角に切断しであるが、その部分に反射膜を
コーティングしt方が望しい。更にロフト全体を反射ミ
ラーをコーディングし、入射部分のみスリット状に切り
かいても良い。フィンガー5とレーザー光路とのレベル
の差による立鷺補正の必要をなぐす友めに、フィンガー
5とレーザー光路とのレベルを極めて近接させるのが好
ましい。 !なお、光源として、レーザーを用い
る理由はレーザーは直進性がすぐれているため直線形状
の物体の位置検知に適している湊らである。以上の構成
でウェハハンド8が仮に上方から下方に移動する時、ウ
ェハがその間に存在すればレーザ元20はウェハでさえ
ぎられるのでロッド18に入射せずホトセンサ19は光
を検出しない。
ウェハが存在しなければホトセンサ19はロッド1Bに
入射し九九を検出す。従って検知光の最も少い位置がウ
ニへの中心位置となる。この関係?第8図に示す。
入射し九九を検出す。従って検知光の最も少い位置がウ
ニへの中心位置となる。この関係?第8図に示す。
第8図はガラスロッド18の一端に設けられたホトセン
サ19の検出光強度とハンドラの高さ方向の関係を示し
ている。ハンドラの高さが変9、レーザ元20の入射位
置がホトセンサから離れて遠くなると、センナへ到達す
る光が弱くなり、振巾が少くなって来ることが判る。従
ってもしホトセンサがガラスロットの上端部のみに設け
であると、第8図のような出力関係になり、ハンドラが
下方に来九時、ウェハ位置検知が困難になることが想像
される。本発明はこれを解決するためになされtもので
、ホトセンサをガラスロットの両端に設け、かつそれぞ
れの光検出信号を加え合せ九合成信号を用いることによ
り、クエへ位置を検知しよ艷というものである。即ち、
一端のホトセンサ出力が弱くなれば、反対側のセンサ出
力が強まるので、それらの加え合せてやれば、一定の変
化が得られる正確なり工へ位置を検出が可能にkる。第
9−に信号の合成回路を示す、(9)中AI、AI’は
ホトセンサ19.19’の充電流を電圧に変換する電流
電圧変換回路、A2#iそれらを加算する加算回路であ
る。光源としてレーザー以外の例えばI、KD等を用い
た場合には光源からの光はある程度の広がりをもつため
、この広がった光で位置を検知したい所望のウェハが光
路を遮断することを検出することは極めて困難である。
サ19の検出光強度とハンドラの高さ方向の関係を示し
ている。ハンドラの高さが変9、レーザ元20の入射位
置がホトセンサから離れて遠くなると、センナへ到達す
る光が弱くなり、振巾が少くなって来ることが判る。従
ってもしホトセンサがガラスロットの上端部のみに設け
であると、第8図のような出力関係になり、ハンドラが
下方に来九時、ウェハ位置検知が困難になることが想像
される。本発明はこれを解決するためになされtもので
、ホトセンサをガラスロットの両端に設け、かつそれぞ
れの光検出信号を加え合せ九合成信号を用いることによ
り、クエへ位置を検知しよ艷というものである。即ち、
一端のホトセンサ出力が弱くなれば、反対側のセンサ出
力が強まるので、それらの加え合せてやれば、一定の変
化が得られる正確なり工へ位置を検出が可能にkる。第
9−に信号の合成回路を示す、(9)中AI、AI’は
ホトセンサ19.19’の充電流を電圧に変換する電流
電圧変換回路、A2#iそれらを加算する加算回路であ
る。光源としてレーザー以外の例えばI、KD等を用い
た場合には光源からの光はある程度の広がりをもつため
、この広がった光で位置を検知したい所望のウェハが光
路を遮断することを検出することは極めて困難である。
これ以外にTV左カメラでウニへの断面をみる方法本考
えられるが、TV左カメラ用いる場合はカメラレンズの
焦点合わせが必要となる。
えられるが、TV左カメラ用いる場合はカメラレンズの
焦点合わせが必要となる。
ところがカセット内に収容されtウニノーはウェハの出
し入れ方向においてかなり位置の′バラツキが大きいt
め正しい無点合わせができず、精密な位置検知には適さ
ない。加つるにTVカメラは高価で大きく複雑である。
し入れ方向においてかなり位置の′バラツキが大きいt
め正しい無点合わせができず、精密な位置検知には適さ
ない。加つるにTVカメラは高価で大きく複雑である。
要するにレーザーを用いたウェハの位置検知法は、光路
が@線的であるために上下の隣接するウェハによる影響
がないばかりか、焦点合わせも不要であるため収容され
たウェハの出し入れ方向に沿つt位置のバラツキ(よる
検知精度の低下もない。更に本位置検出法は、レーザ光
の平行直進性を利用している為く、ウェハの大口径化(
も適している。更に本位置検出法の秀れている点は透過
するレーザ光の強度を検出する究めに光学系のアライメ
ントが極めて容易であることである。
が@線的であるために上下の隣接するウェハによる影響
がないばかりか、焦点合わせも不要であるため収容され
たウェハの出し入れ方向に沿つt位置のバラツキ(よる
検知精度の低下もない。更に本位置検出法は、レーザ光
の平行直進性を利用している為く、ウェハの大口径化(
も適している。更に本位置検出法の秀れている点は透過
するレーザ光の強度を検出する究めに光学系のアライメ
ントが極めて容易であることである。
ここで参照番号21は、フィンガー5をカセット6から
抜き出すためにハンドアーム10および12を折り曲げ
るためのハンドアーム伸縮用駆動部である。参照番号2
2はフィンガー5面上に裁置さrL几ラウェハフ向きを
変えるためにハンドラーを回転させるとき使用されるハ
ンドラー回転用モータである。
抜き出すためにハンドアーム10および12を折り曲げ
るためのハンドアーム伸縮用駆動部である。参照番号2
2はフィンガー5面上に裁置さrL几ラウェハフ向きを
変えるためにハンドラーを回転させるとき使用されるハ
ンドラー回転用モータである。
更に参照番号25はハンドラー昇降機構であり、カセッ
ト6内に収容された任意の位置のウェハ7を取抄出すた
めにフィンガー5の高さを所望のレベルに変えることが
できる。
ト6内に収容された任意の位置のウェハ7を取抄出すた
めにフィンガー5の高さを所望のレベルに変えることが
できる。
第1図は従来のハンドラーを延ばした状態で示した図、
第2図は第1−のハ/ドラ−を折り曲げた状(11で示
した図、 箒3図は搬送装置のハンドラーを運ばしt状態で示し九
因、 第4図は第3図のハンドラーを折り曲げた状態で示しt
図、 第5(9)はWc3図く示されtハンドラーのアームの
枢動機構を示しt園、 第6図および第7・(9)はそれぞれ、ハンドラーに本
発明のウニ八位置検知機構を組み込んだ実 ′1
施例の側面□□□および平面図1 、X 81/は、ウェハの位置とホトセンサの検出元強
麿との1係を示し九因、 第9(2)は温帯の合成回路を示しt園である、5・・
・・フィンガー 9・・・・軸 10.12・・・・ハンドアーム 11.14・・・・プーリー 15・・・・タイミングベルト
した図、 箒3図は搬送装置のハンドラーを運ばしt状態で示し九
因、 第4図は第3図のハンドラーを折り曲げた状態で示しt
図、 第5(9)はWc3図く示されtハンドラーのアームの
枢動機構を示しt園、 第6図および第7・(9)はそれぞれ、ハンドラーに本
発明のウニ八位置検知機構を組み込んだ実 ′1
施例の側面□□□および平面図1 、X 81/は、ウェハの位置とホトセンサの検出元強
麿との1係を示し九因、 第9(2)は温帯の合成回路を示しt園である、5・・
・・フィンガー 9・・・・軸 10.12・・・・ハンドアーム 11.14・・・・プーリー 15・・・・タイミングベルト
Claims (1)
- レーザー源と、レーザー源から出たレーザー光をウェハ
断面方向に向け射出させるミラーと、射出されたレーザ
ー光を入射誘導するガラスロッドと、ガラスロッドに入
射したレーザーを検出するためのホトセンサをガラスロ
ッドの上下に有するウェハ位置検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59220985A JPS6199345A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ウエハ位置検出装置 |
| US07/094,076 US4806773A (en) | 1984-10-18 | 1987-09-04 | Wafer position detecting method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59220985A JPS6199345A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ウエハ位置検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199345A true JPS6199345A (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=16759659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59220985A Pending JPS6199345A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-19 | ウエハ位置検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199345A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144647A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウエハ計数装置 |
| US5266812A (en) * | 1991-07-26 | 1993-11-30 | Tokyo Electron Limited | Substrate detector with light emitting and receiving elements arranged in a staggered fashion |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59220985A patent/JPS6199345A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01144647A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウエハ計数装置 |
| US5266812A (en) * | 1991-07-26 | 1993-11-30 | Tokyo Electron Limited | Substrate detector with light emitting and receiving elements arranged in a staggered fashion |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6275742B1 (en) | Wafer aligner system | |
| EP0118439A4 (en) | ADAPTIVE WELDING SYSTEM. | |
| JPH0620091B2 (ja) | 基板の搬送装置 | |
| JPH0447976B2 (ja) | ||
| JPS61200409A (ja) | 透明物体の壁厚測定方法及び装置 | |
| US4806773A (en) | Wafer position detecting method and apparatus | |
| JPS6199345A (ja) | ウエハ位置検出装置 | |
| JP3938247B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH0652753B2 (ja) | 基板搬出入装置 | |
| JPS6171383A (ja) | ウエハ位置検出装置 | |
| JPS6199344A (ja) | ウエハ位置検出装置 | |
| JPH11150172A (ja) | 搬送装置 | |
| US3549896A (en) | Apparatus for measuring dimensions of an opaque object | |
| JPS6197845A (ja) | ウエハ位置検出装置 | |
| EP0135495A2 (en) | Positioning system employing differential object positioning sensors | |
| JPS6190887A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JPH0641323B2 (ja) | ウエハ位置検知装置 | |
| JPH0224380B2 (ja) | ||
| JPS6221649A (ja) | 板状物体の位置検知装置 | |
| JPS6241129A (ja) | ウエハ位置検出装置及び方法 | |
| JPH02210209A (ja) | チルトセンサ | |
| JPS62106640A (ja) | ウエハ検出装置 | |
| JPH11255306A (ja) | カセット内ウエハの検出装置 | |
| JPH0897269A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| JP2988594B2 (ja) | ウェ−ハ中心検出装置 |