JPS6210010A - Depilatory - Google Patents
DepilatoryInfo
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- JPS6210010A JPS6210010A JP14896385A JP14896385A JPS6210010A JP S6210010 A JPS6210010 A JP S6210010A JP 14896385 A JP14896385 A JP 14896385A JP 14896385 A JP14896385 A JP 14896385A JP S6210010 A JPS6210010 A JP S6210010A
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- polymer compound
- depilatory
- hair
- polymeric compound
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は人体面から体毛を激痛、不快臭を伴うことなく
美麗に除毛することができる脱毛剤に間するものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention provides a hair removal agent that can beautifully remove hair from the human body without causing severe pain or unpleasant odor.
従来、脱毛剤としては、ワックスの態様のもの、脱毛薬
物含有クリーム態様のものが実用化されている。脱毛ク
リームにおいては、クリームを脱毛部位に塗布後、所定
時間放夏し、その後拭き取ることによって脱毛を行って
いる。Conventionally, depilatory agents have been put into practical use in the form of wax and in the form of creams containing depilatory drugs. In the case of hair removal creams, hair removal is performed by applying the cream to the area to be removed, leaving it for a predetermined period of time, and then wiping it off.
しかし、このような方法においては、脱毛クリームを拭
き取る際に、薬剤による体毛の分解により不快臭が発生
したり、強(擦ることによって皮膚刺激が起生したりす
るという問題がある。However, such a method has problems in that when the hair removal cream is wiped off, an unpleasant odor is generated due to the decomposition of body hair by the drug, and skin irritation occurs due to strong rubbing.
また、ワックスを用いる場合は、物理的脱毛であり、激
痛を伴うという問題がある。Furthermore, when wax is used, there is a problem in that it is physical hair removal and is accompanied by severe pain.
従って、本発明は激痛、不快臭の発生なく脱毛処理を可
能にする脱毛剤を提供することである。Therefore, it is an object of the present invention to provide a hair removal agent that enables hair removal treatment without causing severe pain or unpleasant odor.
本発明は、高分子化合物溶解物よりなる系(A系)及び
、該A系を相分離し高分子化合物の被膜を生ぜしめる成
分を含有する系(B系)の二成分系からなる脱毛剤に関
する。The present invention provides a hair removal agent consisting of a two-component system: a system consisting of a dissolved polymer compound (system A), and a system containing a component that phase-separates the system A and forms a film of the polymer compound (system B). Regarding.
本発明にて使用されるA系は、少なくとも被膜形成能を
有する高分子化合物(以下、単に高分子化合物ともいう
)、これを溶解しうる溶媒よりなるものである。The A system used in the present invention consists of at least a polymer compound having film-forming ability (hereinafter also simply referred to as a polymer compound) and a solvent that can dissolve this.
被膜形成能を有する高分子化合物としては、被膜形成能
を有し、本発明の目的を達成しうるものであれば特に限
定されるものではなく、それは水溶性、非水溶性のいず
れでもよい。水溶性高分子化合物としては、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸お
よびその塩、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセ
ルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレング
リコール、アラビアゴム、ゼラチン、カゼイン等が挙げ
られ、非水溶性高分子化合物としては、アクリル、ブチ
ラール樹脂、ウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル
酸エステル、エチレン酢酸ビニル共重合体けん化物等が
挙げられる。これらは単一または複数の混合物としても
よい。The polymer compound having film-forming ability is not particularly limited as long as it has film-forming ability and can achieve the object of the present invention, and it may be either water-soluble or water-insoluble. Examples of water-soluble polymer compounds include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and its salts, polyacrylamide, carboxymethylcellulose, methylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, polyethylene glycol, gum arabic, gelatin, casein, etc. Examples of the water-insoluble polymer compound include acrylic, butyral resin, urethane, polyvinyl acetate, polyacrylic ester, and saponified ethylene-vinyl acetate copolymer. These may be used alone or as a mixture of a plurality of them.
水溶性高分子化合物の場合は水溶液として、また、非水
溶性高分子化合物の場合は当該高分子化合物を溶解しう
る溶媒に溶解して本発明に供される。In the case of a water-soluble polymer compound, it is provided in the form of an aqueous solution, and in the case of a water-insoluble polymer compound, it is dissolved in a solvent in which the polymer compound can be dissolved.
非水溶性高分子化合物を溶解しうる溶媒は、皮膚に対し
て刺激の少ないものが望ましく、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、ヘンシルアルコールなどのアルコー
ル類、これらの混合物、これらと水との混合物(例、水
−エチルアルコールなど)が挙げられる。水溶性高分子
化合物は、勿論水、水性溶媒に溶解して用いられる。The solvent that can dissolve the water-insoluble polymer compound is preferably one that is less irritating to the skin; , water-ethyl alcohol, etc.). Of course, the water-soluble polymer compound is used after being dissolved in water or an aqueous solvent.
A系は、好ましくは溶液状であるが、ゾル状、ペースト
状であってもよい。The A system is preferably in the form of a solution, but may be in the form of a sol or paste.
高分子化合物のA系中への添加量は、被膜を形成せしめ
た際に、脱毛部分の皮膚から容易に剥離しうる強度が得
られるに十分量配合される。その量は選ばれた高分子化
合物によって適宜増減されるが、通常1〜70重量%、
好ましくは2〜50重量%である。The amount of the polymer compound added to system A is sufficient to provide a strength that allows the film to be easily peeled off from the skin of the depilated area when the film is formed. The amount can be adjusted depending on the selected polymer compound, but it is usually 1 to 70% by weight.
Preferably it is 2 to 50% by weight.
A系中には、さらに脱毛薬物を配合することが好ましい
。It is preferable to further incorporate a hair removal drug into the A-based composition.
脱毛薬物としては、特に制限はなく、従来既知のものを
用いればよい。具体的にはチオグリコール酸およびその
塩、硫酸ストロンチウム、硫化ナトリウム、硫化バリウ
ム、硫化カルシウム等が挙げられ、これらのうち一種ま
たは複数の混合物としてもよい。脱毛薬物はA系中に1
〜15重量%、好ましくは3〜12重量%重量%台され
る。There are no particular restrictions on the hair removal drug, and conventionally known drugs may be used. Specific examples include thioglycolic acid and its salts, strontium sulfate, sodium sulfide, barium sulfide, calcium sulfide, etc., and a mixture of one or more of these may be used. Hair loss drugs are 1 in A series.
~15% by weight, preferably 3~12% by weight.
A系中には他に香料、体毛膨潤促進剤などを所望により
添加しうる。Other fragrances, hair swelling promoters, etc. may be added to the A system as desired.
B系は上記A系を相分離して高分子化合物の膜を生ぜし
める成分よりなるものであり、かかる機能を有するもの
であれば特に制限されない。かかる成分としては、たと
えば当該高分子に対する貧溶媒(態様■)、当41 A
系のpHを変化させて、高分子化合物を不溶化させるも
の(態様■)などが、好ましいものとして挙げられる。The B system is composed of a component that phase-separates the above A system to form a film of a polymer compound, and is not particularly limited as long as it has such a function. Such components include, for example, a poor solvent for the polymer (aspect ①),
Preferable examples include those that change the pH of the system and make the polymer compound insoluble (aspect ①).
B様■は、B系中に含有される成分が、A系中の高分子
化合物を不溶化ないし難溶化することによってA系を相
分離させて高分子化合物の被膜を形成せしめ、脱毛部位
からこれを容易に剥離させることを特徴とするものであ
る。For Mr. B, the components contained in the B system make the polymer compound in the A system insoluble or hardly soluble, causing phase separation of the A system and forming a film of the polymer compound, which is removed from the hair removal area. It is characterized by being easily peeled off.
本態様においては、A系は、少なくとも高分子化合物、
及び溶媒からなる。これに対してB系は、A系中の高分
子化合物に対する貧溶媒からなる。In this embodiment, the A system includes at least a polymer compound,
and a solvent. On the other hand, the B system consists of a poor solvent for the polymer compound in the A system.
本態様におけるB系に関して、高分子化合物に対する貧
溶媒としては、高分子化合物が水溶性である場合には、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ベンジルアル
コールなどのアルコール類、これらの混合物、これらと
水との混合物(例、水−エチルアルコールなど)が挙げ
られ、特に皮膚に対して刺激の少ないもの、具体的には
エチルアルコール、プロピルアルコール、ヘンシルアル
コ−ルなどが好ましい。また、高分子化合物が非水溶性
である場合には、水、水性溶媒が使用される。Regarding the B system in this embodiment, when the polymer compound is water-soluble, as a poor solvent for the polymer compound,
Examples include alcohols such as ethyl alcohol, propyl alcohol, and benzyl alcohol, mixtures thereof, and mixtures of these and water (e.g., water-ethyl alcohol), and those that are least irritating to the skin, specifically, Ethyl alcohol, propyl alcohol, hensyl alcohol and the like are preferred. Furthermore, when the polymer compound is water-insoluble, water or an aqueous solvent is used.
態様■においてA系として使用される高分子化合物とし
ては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
ポリアクリル酸およびその塩、ポリアクリルアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキンプロピルセルロース
、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等の水溶性高
分子化合物、アクリル、ブチラール樹脂、ウレタン、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、エチレン酢酸
ビニル共重合体けん化物、ポリビニルメチルエーテル等
の非水溶性高分子化合物が好ましいものとして例示され
る。Examples of the polymer compound used as A-based in embodiment (2) include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone,
Water-soluble polymer compounds such as polyacrylic acid and its salts, polyacrylamide, carboxymethylcellulose, methylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroquinepropylcellulose, polyethylene glycol, gum arabic, acrylic, butyral resin, urethane, polyvinyl acetate, polyacrylic acid Preferred examples include water-insoluble polymer compounds such as esters, saponified ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyvinyl methyl ether.
態様■は、B系中に含有される成分がA系中のpHを変
化させることによってA系を相分離させて高分子化合物
の被膜を形成せしめ、脱毛部位からこれを容易に剥離さ
せることを特徴とするものである。Aspect (2) is that the components contained in system B change the pH in system A to cause phase separation of system A to form a film of a polymer compound, which can be easily peeled off from the hair removal site. This is a characteristic feature.
A系は、少なくともpl変化によって容易に被膜を形成
しうる高分子化合物からなり、さらに要すればpH調節
剤、溶媒等からなる。これに対してB系は、A系のpH
を変化させる成分からなる。The A system consists of at least a polymer compound that can easily form a film by changing the PL, and further includes a pH adjuster, a solvent, etc., if necessary. On the other hand, system B has the pH of system A.
Consists of components that change
即ち、たとえば酸性水溶液中で安定な高分子化合物水溶
液であるA系にアルカリ性の成分よりなるB系を配設し
て咳高分子化合物を析出させて当該高分子化合物の被膜
を形成せしめる。また、アルカリ性水溶液中で安定な高
分子化合物は酸性の成分よりなるB系を配設することに
よって同様の結果が得られる。That is, for example, system A, which is an aqueous solution of a polymer compound that is stable in an acidic aqueous solution, is provided with system B, which is made of an alkaline component, to precipitate a cough polymer compound to form a film of the polymer compound. Furthermore, similar results can be obtained by providing a B system consisting of an acidic component for a polymer compound that is stable in an alkaline aqueous solution.
本態様における、高分子化合物としてはゼラチン、カゼ
イン、ニカワ、アルブミン、大豆タンパク等が好ましい
ものとして挙げられる。これらはアルカリ水溶液として
おくことが好ましい。Preferred examples of the polymer compound in this embodiment include gelatin, casein, glue, albumin, and soybean protein. It is preferable to use these as an alkaline aqueous solution.
A系をアルカリ性に保つためには、たとえば水酸化物、
炭酸塩、アンモニア、アミンなどアルカリ性物質が使用
され、また、B系に使用される酸性物質としては有機酸
(例、クエン酸、リンゴ酸、酢酸)が使用される。In order to keep the A system alkaline, for example, hydroxide,
Alkaline substances such as carbonates, ammonia, and amines are used, and organic acids (eg, citric acid, malic acid, and acetic acid) are used as the acidic substances used in the B system.
なお、態様■、Li様■のいずれにおいてもB系は、溶
媒のみでは液状であるから、使用に際して便宜的でない
、従って、本発明においては当該溶媒含有シート状に成
形したものとすることが好ましい。かかるシート状成形
物としては、当該溶媒を、たとえばポリアクリル酸ソー
ダ、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルメチルエーテル、ブチラール系樹脂等に
よるゾル状シート状物、吸液性材(ガーゼ、不織布、紙
等)への含浸物などが例示される。In addition, in both embodiment (1) and Li (2), system B is in a liquid state when used only as a solvent, so it is not convenient to use. Therefore, in the present invention, it is preferable to form it into a sheet containing the solvent. . Such a sheet-like molded product may be made of a sol-like sheet material made of sodium polyacrylate, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, butyral resin, etc., or a liquid-absorbing material (gauze, nonwoven fabric, paper, etc.). ) is exemplified.
本発明の脱毛剤は、まずA系を脱毛局所に塗布した後、
B系を配設することによって使用に供される。The depilatory agent of the present invention first applies the A type to the depilatory area, and then
It can be used by installing the B system.
かくして、A系は相分離され、A系中の高分子化合物が
難溶性となって当該高分子化合物の被膜が形成される。In this way, the A system undergoes phase separation, the polymer compound in the A system becomes poorly soluble, and a film of the polymer compound is formed.
しかして、体毛は被膜中にトラップされた状態となり、
被膜を剥離することによって、脱毛薬剤によって毛根部
分が弱められた体毛は美麗に除毛される。As a result, body hair becomes trapped in the coat,
By peeling off the coating, body hair whose roots have been weakened by the hair removal drug can be beautifully removed.
本発明の脱毛剤は、高分子化合物溶解物よりなるA系が
相分離によって容易に被膜を形成するとともに、本脱毛
剤中配合されている脱毛薬物によって毛が少なくとも軟
化されている。従って、ワックスによる物理的脱毛と異
なり、体毛を軟弱化できるため、脱毛時の激痛を回避で
きる。また、体毛を被膜内にトラップした状態にして被
膜を剥離するのでクリーム剤に見られるような不快臭の
発生、後処理の問題は解消される。In the depilatory agent of the present invention, the A system consisting of a dissolved polymer compound easily forms a film through phase separation, and the hair is at least softened by the depilatory drug contained in the depilatory agent. Therefore, unlike physical hair removal using wax, body hair can be softened, and severe pain during hair removal can be avoided. Furthermore, since the coating is peeled off with body hair trapped within the coating, the problems of unpleasant odors and post-processing that occur with creams are eliminated.
次に実施例にて本発明をさらに詳しく説明するが、これ
らは本発明を限定するものではない。Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but these are not intended to limit the present invention.
なお、文中%とあるのは重量%を意味する。In addition, % in the text means weight %.
実施例1
以下の組成から成るA系とB系:
A系
ブチラール樹脂 20%チオグリコー
ル酸カルシウム 7%エチルアルコール
73%B系
カルボキシメチルセルロース 5%水
95%を作成した。A
系を脱毛部位に塗布後、B系を平たくシート状にしたも
のをA系の塗布面に重ね合わせた。10分後、体毛をト
ラッ、ブした固化被膜が形成され、容易に剥離された。Example 1 A system and B system consisting of the following compositions: A system butyral resin 20% calcium thioglycolate 7% ethyl alcohol
73% B-based carboxymethylcellulose 5% water
95% completed. A
After applying the system to the hair removal site, a flat sheet of system B was placed on the surface to which system A was applied. After 10 minutes, a solidified film was formed that trapped body hair and was easily peeled off.
実施例2
次の成分から成るA系とB系:
A系
カゼイン 10 %アンモニア
水(28%)0.5%
水 89.5%
B系
クエン酸 6%ポリビニル
アルコール 20%水
74%を作成した。A系を脱毛部位
に塗布し、乾燥してシート状にした組成物を、A系の塗
布面上に重ね合わせた。1o分後、薬物で処理された体
毛を含有した固化被膜は容易に剥がれ、きれいに除毛さ
れた。Example 2 A system and B system consisting of the following components: A system casein 10% ammonia water (28%) 0.5% water 89.5%
B-based citric acid 6% polyvinyl alcohol 20% water
74% were created. A composition was applied to the hair removal site and dried to form a sheet, and the composition was superimposed on the surface to which the A system was applied. After 10 minutes, the solidified film containing drug-treated body hair was easily peeled off and the hair was removed cleanly.
Claims (3)
A系を相分離し高分子化合物の被膜を生ぜしめる成分を
含有する系(B系)の二成分系からなり、A系およびB
系の少なくとも一方の系に脱毛薬物を含有させてなる脱
毛剤。(1) Consisting of a two-component system: a system consisting of a dissolved polymer compound (A system), and a system containing a component that phase-separates the A system and produces a film of a polymer compound (B system), the A system and B
A hair removal agent comprising a hair removal drug in at least one of the systems.
溶媒よりなるものである特許請求の範囲第(1)項記載
の脱毛剤。(2) The depilatory agent according to claim (1), wherein the component in system B is a poor solvent for the polymer compound in system A.
H変更作用を持つ成分よりなるものである特許請求の範
囲第(1)項記載の脱毛剤。(3) The components in system B are p relative to the polymer compounds in system A.
The hair removal agent according to claim (1), which comprises a component having an H-changing effect.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14896385A JPS6210010A (en) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | Depilatory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14896385A JPS6210010A (en) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | Depilatory |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6210010A true JPS6210010A (en) | 1987-01-19 |
Family
ID=15464574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14896385A Pending JPS6210010A (en) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | Depilatory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6210010A (en) |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14896385A patent/JPS6210010A/en active Pending
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